一种硅片清洗系统的烘干装置的制作方法

本技术涉及硅片生产，具体涉及一种硅片清洗系统的烘干装置。

背景技术：

1、硅片生产过程中，多线切割机切割后的硅片表面会残留切割液、金属杂质、有机物等。经过线切割后的硅片要经过硅片清洗工序，硅片清洗主要采用超声+清洗剂+去离子水方式进行。清洗后的硅片表面残留大量去离子水，如果不在第一时间烘干硅片表面会吸附较多灰尘从而形成水渍。目前业内的采用的清洗后的硅片主要采用敞开式加热通道以吹强热风的形式加热烘干，然而这种方式热风不均匀，对硅片存在过热烧黑的可能性，影响硅片生产效率。

技术实现思路

1、针对现有技术存在上述技术问题，本实用新型提供一种硅片清洗系统的烘干装置。

2、为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

3、提供一种硅片清洗系统的烘干装置，包括箱体，箱体的开口朝上并设有箱盖来盖住该开口，箱体内设有用于放置装载有硅片的花篮的烘干腔，箱体的侧壁设有进风通道，箱盖的底部设有匀风隔层，匀风隔层的底部开有网孔，箱体的底部设有出风通道，进风通道-匀风隔层-网孔-烘干腔-出风通道依次连通形成风道，风道连接有热风机。

4、具体的，出风通道经由热风机连通进风通道，以使热风在风道中循环流动。

5、具体的，箱体的相向的两侧壁分别设有所述进风通道。

6、具体的，箱盖的底部设有架空支梁，匀风隔层经由架空支梁来连接于箱盖。

7、具体的，该烘干装置还包括开盖机构，其用于将箱盖朝上提起以及横移错开箱体的开口。

8、具体的，开盖机构包括沿箱盖横移方向布置的开盖导轨、可滑动地安装于开盖滑轨上的开盖支架、用于驱动开盖支架滑动的移盖驱动件、可升降地安装于开盖支架的提盖板、可沿靠近/远离箱盖侧部滑动的卡板，卡板设有用于卡住箱盖侧部的抓板卡钳，提盖板设置有用于驱动卡板滑动的抓板驱动件，开盖支架设有用于驱动提盖板上下运动的提盖驱动件。

9、具体的，抓板驱动件为抓板气缸，抓板气缸的缸筒与提盖板固定连接，抓板气缸的活塞杆与卡板固定连接。

10、具体的，提盖驱动件为提盖气缸，提盖气缸的缸筒与开盖支架固定连接，提盖气缸的活塞杆与提盖板固定连接。

11、具体的，箱盖设有定位凸起，定位凸起能够在箱盖横移方向抵住抓板卡钳。

12、具体的，烘干腔的数量为多个，多个烘干腔并列布置，开盖导轨沿多个烘干腔并列方向布置，多个烘干腔共用一组开盖机构。

13、本实用新型的有益效果：

14、本实用新型的一种硅片清洗系统的烘干装置，使用时热风机吹出的热风经由箱体侧壁的进风通道进入匀风隔层，再经由网孔较为均匀朝下对烘干腔内花篮中的硅片进行吹风烘干，与现有技术相比，硅片受风较均匀，不会出现过热烧黑的现象，保障硅片生产效率。

技术特征：

1.一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：包括箱体，箱体的开口朝上并设有箱盖来盖住该开口，箱体内设有用于放置装载有硅片的花篮的烘干腔，箱体的侧壁设有进风通道，箱盖的底部设有匀风隔层，匀风隔层的底部开有网孔，箱体的底部设有出风通道，进风通道-匀风隔层-网孔-烘干腔-出风通道依次连通形成风道，风道连接有热风机。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：出风通道经由热风机连通进风通道，以使热风在风道中循环流动。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：箱体的相向的两侧壁分别设有所述进风通道。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：箱盖的底部设有架空支梁，匀风隔层经由架空支梁来连接于箱盖。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：该烘干装置还包括开盖机构，其用于将箱盖朝上提起以及横移错开箱体的开口。

6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：开盖机构包括沿箱盖横移方向布置的开盖导轨、可滑动地安装于开盖滑轨上的开盖支架、用于驱动开盖支架滑动的移盖驱动件、可升降地安装于开盖支架的提盖板、可沿靠近/远离箱盖侧部滑动的卡板，卡板设有用于卡住箱盖侧部的抓板卡钳，提盖板设置有用于驱动卡板滑动的抓板驱动件，开盖支架设有用于驱动提盖板上下运动的提盖驱动件。

7.根据权利要求6所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：抓板驱动件为抓板气缸，抓板气缸的缸筒与提盖板固定连接，抓板气缸的活塞杆与卡板固定连接。

8.根据权利要求6所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：提盖驱动件为提盖气缸，提盖气缸的缸筒与开盖支架固定连接，提盖气缸的活塞杆与提盖板固定连接。

9.根据权利要求6所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：箱盖设有定位凸起，定位凸起能够在箱盖横移方向抵住抓板卡钳。

10.根据权利要求5至9任一项所述的一种硅片清洗系统的烘干装置，其特征是：烘干腔的数量为多个，多个烘干腔并列布置，开盖导轨沿多个烘干腔并列方向布置，多个烘干腔共用一组开盖机构。

技术总结本技术涉及硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片清洗系统的烘干装置，包括箱体，箱体的开口朝上并设有箱盖来盖住该开口，箱体内设有用于放置装载有硅片的花篮的烘干腔，箱体的侧壁设有进风通道，箱盖的底部设有匀风隔层，匀风隔层的底部开有网孔，箱体的底部设有出风通道，进风通道‑匀风隔层‑网孔‑烘干腔‑出风通道依次连通形成风道，风道连接有热风机。使用时热风机吹出的热风经由箱体侧壁的进风通道进入匀风隔层，再经由网孔较为均匀朝下对烘干腔内花篮中的硅片进行吹风烘干，与现有技术相比，硅片受风较均匀，不会出现过热烧黑的现象，保障硅片生产效率。技术研发人员：李成,姚禄华,阮清山,赵江风,颜亮亮受保护的技术使用者：东莞市鼎力自动化科技有限公司技术研发日：20231128技术公布日：2024/7/11