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一种薄膜涂布装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-29 12:45:08

本技术涉及薄膜加工设备领域,尤其是涉及一种薄膜涂布装置。

背景技术:

1、薄膜涂布是一种在薄膜基材上均匀涂覆特定功能材料的工艺。该技术广泛应用于包装、印刷、电子和其他工业领域,以改善薄膜的各种物理和化学性能。

2、薄膜在输入涂布工段时由于摩擦表面易产生静电,易黏附粉尘、颗粒、毛絮等物,若未经处理直接进行涂布会影响薄膜的涂布性能,影响薄膜的表面性能,(申请号202222367629.2的一种薄膜涂布机、申请号201910652019.7的一种薄膜的涂布生产设备在背景技术中均提出了相关的问题)本实用新型的目的在于提出一种新的薄膜涂布设备来解决上述技术问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种薄膜涂布装置,以解决背景技术中所提到的问题。

2、为达到上述目的,本实用新型提供如下技术方案:包括底座、放卷辊、涂布模块、收卷辊、离子风棒和除杂模块,放卷辊、涂布模块和收卷辊依次设置在底座上,放卷辊放出的薄膜经涂布模块被收卷辊收卷,离子风棒设置在放卷辊和涂布模块间,离子风棒成对设置分别位于薄膜两面。

3、除杂模块位于离子风棒和涂布模块间,除杂模块包括安装板、滑块、弹簧、转筒和吸尘器,安装板底端与底座固定,安装板上开设有滑槽,安装板两端分别形成有限位板,滑块与安装板构成竖直方向上的移动副位于安装板上下两端,弹簧两端分别连接滑块和限位板,转筒侧面形成有开孔,转筒端部形成有转轴且转轴与转筒内部连通,转轴与滑块构成转动副且转轴位于滑槽内,转轴上套设有可转动与转轴构成转动副的套环,吸尘器安装于底座底面,吸尘器吸气口通过管道与套环连通。

4、为优化上述技术方案,进一步采取的措施为:离子风棒出风口与薄膜呈45°夹角,位于薄膜两侧的离子风棒呈对称状分布,倾斜设计在确保离子风棒消除薄膜所带静电的同时,离子风棒产生的气流可带走薄膜表面附着的杂质使杂质与薄膜分离。

5、作为对上述技术方案的进一步改进:离子风棒出风口指向放卷辊一侧,这样的设计用意在于确保被离子风棒吹走的杂质将向远离涂布模块的方向移动。

6、作为技术方案的进一步改进:还包括罩壳,罩壳与滑块相连,罩壳覆盖转筒侧面将转筒与薄膜接触一侧暴露在外部,罩壳的设置目的在于屏蔽转筒上远离弹簧的开孔,确保与薄膜相邻开孔的负压使得薄膜上的杂质可有效与薄膜进行分离。

7、由上述对本实用新型结构的描述可知,和现有技术相比,本实用新型具有如下优点:

8、本实用新型提供的一种薄膜涂布装置,通过离子风棒与除杂模块来去除薄膜表面附着的杂质以确保薄膜涂布的品质,过程中通过滑块与弹簧的配合可动态调节转筒的高度,避免转筒压伤薄膜表面。

技术特征:

1.一种薄膜涂布装置,包括底座(1)、放卷辊(2)、涂布模块(3)和收卷辊(4),放卷辊(2)、涂布模块(3)和收卷辊(4)依次设置在底座(1)上,放卷辊(2)放出的薄膜经涂布模块(3)被收卷辊(4)收卷,其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种薄膜涂布装置,其特征在于:离子风棒(5)出风口与薄膜呈45°夹角,位于薄膜两侧的离子风棒(5)呈对称状分布。

3.根据权利要求2所述的一种薄膜涂布装置,其特征在于:离子风棒(5)出风口指向放卷辊(2)一侧。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜涂布装置,其特征在于:还包括罩壳(6011),罩壳(6011)与滑块(602)相连,罩壳(6011)覆盖转筒(604)侧面将转筒(604)与薄膜接触一侧暴露在外部。

技术总结本技术涉及薄膜加工设备技术领域,具体为一种薄膜涂布装置,包括底座、放卷辊、涂布模块、收卷辊、离子风棒和除杂模块,放卷辊、涂布模块和收卷辊依次设置在底座上,放卷辊放出的薄膜经涂布模块被收卷辊收卷,离子风棒设置在放卷辊和涂布模块间,离子风棒成对设置分别位于薄膜两面,除杂模块设置在底座上其结构包括安装板、滑块、弹簧、转筒和吸尘器,通过离子风棒与除杂模块来去除薄膜表面附着的杂质以确保薄膜涂布的品质,过程中通过滑块与弹簧的配合可动态调节转筒的高度,避免转筒压伤薄膜表面。技术研发人员:陈曾华,陈宝忠受保护的技术使用者:福建宝利薄膜有限公司技术研发日:20240605技术公布日:2024/7/15

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