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滚筒用三价铬镀敷装置及方法与流程

  • 国知局
  • 2024-07-27 11:03:03

本发明涉及在制造使用于例如凹版印刷的中空圆筒状的凹版滚筒(也被称为制版辊)时,对长条状的中空辊的外周表面实施使用不溶性电极的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。

背景技术:

1、在凹版印刷中,对中空圆筒状的被处理滚筒形成与制版信息相应的微小的凹部(单元)而制作版面,对该单元填充墨水并转印至被印刷物。一般的凹版滚筒是以圆筒状的铁芯或铝芯(中空辊)作为基材,在该基材的外周表面上形成底层、剥离层等的多个层,在其上形成镀铜等的镀敷层。并且,在该镀铜等的镀敷层,通过激光曝光装置形成与制版信息相应的单元,然后,实施用于增加凹版滚筒的耐刷力的铬镀敷等,完成制版(版面的制作)。该一般的铬镀敷为六价铬镀敷层。

2、但是,由于在铬镀敷工序中使用毒性高的六价铬镀敷液,因此,除了为了谋求作业的安全而花费额外的成本之外,还存在产生公害的问题,现状是期待代替六价铬层的表面强化被覆层的出现。

3、作为代替从六价铬镀敷液得到的六价铬镀敷层的镀敷方法,有通过三价铬镀敷液形成铬镀敷层的三价铬镀敷方法。作为三价铬镀敷液,有例如专利文献1所示的三价铬镀敷液。

4、另外,本案申请人也已提案有一滚筒用镀敷装置,其具备:镀敷槽,其储存有镀敷液;夹具机构,其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并收容于所述镀敷槽中;以及相对置的一对不溶性电极,其在所述镀敷槽内与被处理滚筒的两侧面对置地垂设且进行规定的通电,使所述一对不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的两侧面,对所述被处理滚筒的外周表面实施镀敷,所述不溶性电极具有至少使下部部分朝内侧弯曲而成的形状,且至少所述下部部分成为梳痕状部,所述不溶性电极以另一方的所述不溶性电极的所述梳痕状部的凸部位于一方的所述不溶性电极的所述梳痕状部的凹部的位置的方式交替地相对置,能以所述不溶性电极的上端部分为转动中心而使所述不溶性电极转动,能够与所述被处理滚筒的径相应地调整所述不溶性电极相对于所述被处理滚筒的外周表面的接近距离(专利文献2)。

5、在专利文献2的滚筒用镀敷装置中,若是采用六价铬镀敷液的一般的铬镀敷,则能够获得满足凹版印刷所要求的表面物性、即硬度、耐磨损性及均匀电沉积性等的耐刷力优异的铬镀敷层(六价铬镀敷层)。

6、但是,在专利文献2的滚筒用镀敷装置中,若进行采用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷,则如图11的照片所示,会在滚筒的中央部分产生黑色的部分。这是在滚筒的一部分产生镀材几乎未析出的状态的未析出部分的状态。如此,若利用专利文献2的滚筒用镀敷装置进行采用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷,则有在滚筒的一部分产生未析出部分的问题。

7、在先技术文献

8、专利文献

9、专利文献1:日本特开2019-123927号公报

10、专利文献2:wo2015/151665

技术实现思路

1、本发明是鉴于上述以往技术的问题点而开发完成的发明,其目的在于提供使用三价铬镀敷液,不会产生镀材的未析出部分,能够实施析出良好、均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。

2、用于解决课题的方案

3、本发明的滚筒用三价铬镀敷装置具备:镀敷槽,其储存有三价铬镀敷液;夹具机构,其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中;及不溶性电极,其进行规定的通电,使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面,对所述外周面实施三价铬镀敷,其中,所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极。

4、优选为,所述围绕型不溶性电极包含:下侧围绕型不溶性电极,其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的下侧外周面的周围;及/或上侧围绕型不溶性电极,其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的上侧外周面的周围。

5、优选为,所述上侧围绕型不溶性电极及/或所述下侧围绕型不溶性电极是交叉型电极。

6、优选为,所述围绕型不溶性电极通过气缸或电动马达,与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。

7、优选为,所述围绕型不溶性电极通过臂的旋转运动或将间隔变宽或变窄的动作,与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。

8、本发明的三价铬镀敷方法使用所述滚筒用三价铬镀敷装置,用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理。

9、本发明的凹版滚筒的制造方法使用所述滚筒用三价铬镀敷装置,用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理,来制造凹版滚筒的凹版滚筒。

10、发明效果

11、根据本发明,能够达到下述显著的效果,即,能够提供能使用三价铬镀敷液实施均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。

技术特征:

1.一种滚筒用三价铬镀敷装置,其具备:镀敷槽,其储存有三价铬镀敷液;夹具机构,其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中;及不溶性电极,其进行规定的通电,使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面,对所述外周面实施三价铬镀敷,其中,

2.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置,其中,

3.根据权利要求2所述的滚筒用三价铬镀敷装置,其中,

4.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置,其中,

5.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置,其中,

6.一种三价铬镀敷方法,其使用权利要求1至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置,用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理。

7.一种凹版滚筒的制造方法,其使用权利要求1至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置,用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理,来制造凹版滚筒。

技术总结本发明提供使用三价铬镀敷液,不会产生镀材的未析出部分,能够实施析出良好、均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。滚筒用三价铬镀敷装置具备:镀敷槽,其储存有三价铬镀敷液;夹具机构,其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中;及不溶性电极,其进行规定的的通电,使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面,对所述外周面实施三价铬镀敷,所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极。技术研发人员:菅原申太郎,刘晓刚受保护的技术使用者:株式会社新克技术研发日:技术公布日:2024/4/17

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