一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置的制作方法

本技术属于电镀，具体涉及一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置。

背景技术：

1、目前，电路板制造行业中的vcp,又称垂直连续电镀)电镀生产线经过长时间的改良优化，已经发展的非常成熟。在vcp电镀生产线中，可以选用可溶性阳极的工艺，也可以选用不可溶性阳极的工艺，相较于不可溶性阳极的工艺而言，可溶性阳极的工艺的生产成本更低，但可溶性阳极的工艺所呈现的电镀效果相对较差。可溶性阳极即为将若干颗(直径25-50mm)的铜球放入缸内，通过电解反应分离出铜离子(cu2+)，再通过附着于工件的一项工艺过程。在不可溶性阳极模式下，成品铜厚极差可达5μm，而可溶性阳极下成品普遍铜厚极差为10～12μm，由此可见，使用可溶性阳极工艺的工件的铜分布极其不均匀，该数值差异影响着后续工艺段的生产效果。

2、根据申请号为202223570237.2公开了一种阳极可活动的遮蔽装置的中国专利，包括机架、驱动装置及至少一个遮蔽件；所述遮蔽件用于遮蔽工件外表的尖锐处；所述驱动装置连接所述机架及所述遮蔽件，并用于驱动所述遮蔽件上升或下降。本技术方案通过对工件外表尖锐处进行遮蔽，能够避免工件尖锐处吸引过多的电流，从而使得工件尖锐处的周围不会产生强电流区域，即使得工件周围的阳离子的分布更加均匀，最终使得工件的尖锐处在电镀时不会吸引过多的阳离子，通过对工件尖锐处进行遮蔽，能够使工件最终的电镀厚度更加小而且电镀层的分布更加均匀。根据不同尺寸大小的工件，本方案通过控制驱动装置来改变遮蔽件的位置，使遮蔽件能够适应不同尺寸的工件的电镀作业。

3、上述中的现有技术方案存在以下缺陷：在实行时只有单一的高度调节功能，拓展性不强，在面对较长的铜箔阳极时，无法对遮蔽板进行延长处理，实用性不强。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，以解决只有单一的高度调节功能，拓展性不强，在面对较长的铜箔阳极时，无法对遮蔽板进行延长处理，实用性不强技术问题，达到多方位调节活动的目的。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，包括顶部连接平台和可调节遮蔽结构，所述可调节遮蔽结构包括结构总成，所述结构总成的顶部设有两个顶部吊块，所述结构总成上且靠近背侧处设有两个限位孔，所述结构总成的底部设有导轨结构，所述导轨结构上设有两个滑块结构，两个所述滑块结构的底部且靠近外侧处均设两个有连接总成，两个相邻所述连接总成之间均设有固定时屏蔽板，两个所述滑块结构的底部且靠近内侧处均设有连接固定板，两个所述连接固定板的底部均设有伸缩气杆，两个所述伸缩气杆上均设有连接杆，两个所述连接杆上均设有活动式屏蔽板。

3、进一步的，所述顶部连接平台的顶部且靠近四角处均设有连接结构，四个所述连接结构与顶部连接平台之间固定连接。

4、进一步的，所述顶部连接平台的右侧壁上设有侧支撑座，所述顶部连接平台和侧支撑座的顶部设有上下调节驱动结构，所述顶部连接平台的顶部且靠近背侧处设有两个限位导杆。

5、进一步的，所述上下调节驱动结构包括驱动电机，所述驱动电机的输出端设有转动轴，所述转动轴上设有两个限位盘，所述转动轴的左侧设有固定座，所述固定座的内部开设有安装槽，所述安装槽的内部设有连接转轴，所述转动轴与驱动电机之间转动连接，所述转动轴与连接转轴之间固定连接。

6、进一步的，所述可调节遮蔽结构通过限位孔与限位导杆相连接，所述可调节遮蔽结构的顶部吊块与限位盘之间通过钢丝绳相连接。

7、进一步的，所述滑块结构与导轨结构之间滑动连接，所述连接杆与伸缩气杆之间固定连接，所述连接杆与活动式屏蔽板之间固定连接。

8、本实用新型的有益效果是：

9、1、通过导轨结构和滑块结构的设计，在遇到不同的阳极时，需要进行调节时，滑块结构可带动固定式屏蔽板和活动式屏蔽板进行滑动调节，进而可根据不同规格厚度的阳极进行调节。

10、2、通过伸缩气杆和连接杆的设计，在遇到较长的阳极时，伸缩气杆会驱动连接杆进行运动，进而连接杆可带动活动式屏蔽板进行位移拓展，使得屏蔽空间大大增大。

11、为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

技术特征：

1.一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，

4.如权利要求3所述的一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，所述上下调节驱动结构(5)包括驱动电机(51)，所述驱动电机(51)的输出端设有转动轴(52)，所述转动轴(52)上设有两个限位盘(53)，所述转动轴(52)的左侧设有固定座(54)，所述固定座(54)的内部开设有安装槽(55)，所述安装槽(55)的内部设有连接转轴(56)，所述转动轴(52)与驱动电机(51)之间转动连接，所述转动轴(52)与连接转轴(56)之间固定连接。

5.如权利要求4所述的一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，所述可调节遮蔽结构(7)通过限位孔(73)与限位导杆(6)相连接，所述可调节遮蔽结构(7)的顶部吊块(72)与限位盘(53)之间通过钢丝绳相连接。

6.如权利要求5所述的一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，其特征在于，所述滑块结构(75)与导轨结构(74)之间滑动连接，所述连接杆(710)与伸缩气杆(79)之间固定连接，所述连接杆(710)与活动式屏蔽板(711)之间固定连接。

技术总结本技术属于电镀技术领域，具体涉及一种铜箔阳极的可活动遮蔽装置，包括顶部连接平台和可调节遮蔽结构，所述可调节遮蔽结构包括结构总成，所述结构总成的顶部设有两个顶部吊块，所述结构总成上且靠近背侧处设有两个限位孔，所述结构总成的底部设有导轨结构，所述导轨结构上设有两个滑块结构，两个所述滑块结构的底部且靠近外侧处均设两个有连接总成，在遇到不同的阳极时，需要进行调节时，滑块结构可带动固定式屏蔽板和活动式屏蔽板进行滑动调节，进而可根据不同规格厚度的阳极进行调节，且在遇到较长的阳极时，伸缩气杆会驱动连接杆进行运动，进而连接杆可带动活动式屏蔽板进行位移拓展，使得屏蔽空间大大增大。技术研发人员：虞靖,刘瑞松受保护的技术使用者：江苏铭丰电子材料科技有限公司技术研发日：20230831技术公布日：2024/5/6