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阳极氧化膜结构的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-27 11:55:12

本发明涉及一种阳极氧化膜结构。

背景技术:

1、阳极氧化膜在高温的气氛下热变形小,且具有电绝缘特性。正在进行利用此种物理特性和/或电特性而将其运用在各种领域中的研究。

2、但由于阳极氧化膜通过对金属母材进行阳极氧化而被制造成薄的薄板形态,因此在移除金属母材后脆性破坏的可能性变高。因此,为了使用阳极氧化膜作为结构,应解决脆性破坏的问题点。

3、特别是,当形成上下贯通阳极氧化膜的穿孔并将可进行滑动的部件插入到穿孔的内壁时,穿孔的内壁容易发生脆性破坏的问题。

4、另一方面,阳极氧化膜具有电绝缘特性。因此,在利用阳极氧化膜的阳极氧化膜结构中,除绝缘特性之外,应考虑如何实现用于至少部分地赋予导电性的构成。

5、如此,为了使用形成有穿孔的阳极氧化膜作为结构,需要改善穿孔的机械特性和/或电特性。

6、[现有技术文献]

7、[专利文献]

8、(专利文献1)韩国公开编号第10-2017-0068241号公开专利公报

技术实现思路

1、技术课题

2、本发明为了解决上述以往技术的问题点而提出,本发明的目的在于提供一种使穿孔内壁的机械特性及/或电特性提高的阳极氧化膜结构及其制造方法。

3、课题解决方式

4、为了解决上述课题并达成目的,根据本发明的阳极氧化膜结构包括:主体,是阳极氧化膜材质,对母材金属进行阳极氧化后去除所述母材金属而成;穿孔,具有比进行所述阳极氧化时形成的气孔更大的内部宽度且贯通所述主体形成;以及金属层,配置在所述穿孔的内壁。

5、另外,所述金属层包括:第一金属层,配置在所述穿孔的内壁;以及第二金属层,配置在所述第一金属层的内壁。

6、另外,在所述穿孔的内壁包括山与沟在所述穿孔的周缘方向上重复的微细沟槽,所述第一金属层在整体上覆盖所述微细沟槽。

7、另外,所述第一金属层由钛(ti)、铜(cu)、金(au)或镍(ni)形成的单层或钛(ti)、铜(cu)、金(au)或镍(ni)形成的多层形成。

8、另外,所述第二金属层由选自以下中的至少一种以上的金属形成:铑(rd)、铂(pt)、铱(ir)、钯(pd)、镍(ni)、锰(mn)、钨(w)、磷(ph)、钴(co)或其等的合金、或者钯-钴(pdco)合金、钯-镍(pdni)合金或镍-磷(niph)合金、镍-锰(nimn)、镍-钴(nico)或镍-钨(niw)合金、铜(cu)、银(ag)、金(au)或其等的合金。

9、另一方面,根据本发明的阳极氧化膜结构的制造方法包括以下步骤:在阳极氧化膜材质的主体形成穿孔;以及在所述穿孔的内壁形成金属层。

10、另外,形成所述穿孔的步骤包括以下步骤:在所述阳极氧化膜材质的主体的一面形成可图案化物质后,对可图案化物质进行图案化以形成开口区域;以及使用刻蚀剂去除所述开口区域内的阳极氧化膜材质的主体,以形成所述穿孔。

11、另外,形成所述金属层的步骤包括以下步骤:在所述可图案化物质的表面及所述穿孔的内壁形成第一金属层;在第一金属层上形成第二金属层,且以包括贯通孔的方式形成第二金属层;以及去除所述可图案化物质及位于所述贯通孔外部的所述第一金属层与所述第二金属层,使得仅在所述贯通孔的内部存在所述第一金属层及所述第二金属层。

12、发明的效果

13、本发明提供使穿孔内壁的机械特性和/或电特性提高的阳极氧化膜结构及其制造方法。

技术特征:

1.一种阳极氧化膜结构,包括:

2.根据权利要求1所述的阳极氧化膜结构,其中

3.根据权利要求2所述的阳极氧化膜结构,其中

4.根据权利要求2所述的阳极氧化膜结构,其中

5.根据权利要求2所述的阳极氧化膜结构,其中

6.一种阳极氧化膜结构的制造方法,包括以下步骤:

7.根据权利要求6所述的阳极氧化膜结构的制造方法,其中

8.根据权利要求7所述的阳极氧化膜结构的制造方法,其中

技术总结本发明提供一种阳极氧化膜结构及其制造方法,所述阳极氧化膜结构包括:主体,是阳极氧化膜材质,对母材金属进行阳极氧化后去除母材金属而成;穿孔,具有比进行阳极氧化时形成的气孔更大的内部宽度且贯通主体形成;以及金属层,配置在穿孔的内壁,从而使穿孔内壁的机械特性和/或电特性提高。技术研发人员:安范模,严永钦,姜信九受保护的技术使用者:普因特工程有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/30

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