金属镀膜制品及其制备方法和应用以及电子产品与流程

本发明涉及金属镀膜，具体涉及一种金属镀膜制品及其制备方法和应用以及电子产品。

背景技术：

1、金属由于自身优异的延展性(易加工成型)和超高强度，广泛应用于结构支撑件。为了兼顾金属表面防护性和装饰性，延长其使用寿命并扩大使用范围，通常需对其进行表面处理。

2、目前，表面处理工艺主要有阳极氧化染色、电镀和粉末涂装等。阳极氧化作为一种重要工艺，已形成氧化-染色-封孔为一体的成熟化加工工艺，但染色过程会产生大量废水，因此该工艺在环保方面不够出色。电镀可加工出表面平滑、附着力强的膜层，但加工过程也存在产生有毒气体污染环境的问题。粉末涂装的工艺繁琐，膜层硬度欠佳，加工过程也有污染性。与此同时，金属镀膜(物理气相沉积)表面处理技术可有效避免表面处理工艺产生的环境污染、装饰性欠佳等不足。金属镀膜是指在真空条件下采用物理方法将金属材料源气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在金属基材表面沉积成膜。

3、电子产品中的结构支撑件原材包括钢材和铝材两类。随着时代进步，电子产品轻薄化成为主流趋势，铝材由于质轻迎来了重大机遇。因此对铝材表面装饰提出了更高的要求。

4、为了在得到高亮度表面装饰效果的同时保证附着力，通常采用铝合金先阳极氧化再pvd(物理气相沉积)装饰的工艺。如图1所示，阳极氧化后产品在棱角处由于应力会发生阳极氧化层2的开裂直至铝合金基材1处，导致真空镀膜时pvd层成分沉积至阳极裂缝3中，接触底层铝合金，处于潮湿环境中就会发生原电池反应，发生剧烈腐蚀，严重阻碍了其作为电子产品结构支撑和装饰器件的使用。

5、因此，亟需研发一种具有优异的耐腐蚀性能的金属镀膜制品。

技术实现思路

1、本发明的目的是为了克服现有技术存在的金属镀膜制品耐腐蚀性不佳的问题，提供一种金属镀膜制品及其制备方法和应用以及电子产品。

2、为了实现上述目的，本发明第一方面提供一种金属镀膜制品，其中，所述金属镀膜制品包括金属基材、位于金属基材表面的阳极氧化层以及位于阳极氧化层表面的层叠的pvd层和复合钝化薄膜层；

3、其中，所述复合钝化薄膜层包括含羧基低聚物层和含亚胺基低聚物层。

4、本发明第二方面提供一种金属镀膜制品的制备方法，其中，所述方法包括以下步骤：

5、(1)对金属基材进行阳极氧化处理，得到阳极氧化层；

6、(2)进行以下操作之一，得到金属镀膜制品：

7、(2-1)在所述阳极氧化层上沉积pvd层，在所述pvd层上沉积含羧基低聚物层和含亚胺基低聚物层以形成复合钝化薄膜层；

8、(2-2)在所述阳极氧化层上沉积含羧基低聚物层和含亚胺基低聚物层以形成复合钝化薄膜层，在复合钝化薄膜层上沉积pvd层。

9、本发明第三方面提供一种第二方面所述的制备方法制得的金属镀膜制品。

10、本发明第四方面提供一种第一方面或第三方面所述的金属镀膜制品在电子产品中的应用。

11、本发明第五方面提供一种包括第一方面或第三方面所述的金属镀膜制品的电子产品。

12、通过上述技术方案，本发明所取得的有益技术效果如下：

13、本发明通过在金属镀膜制品的表面增加复合钝化薄膜层和可选的疏水性纳米薄膜层，对制品表面进行缝隙钝化处理，可有效覆盖至阳极氧化层的裂缝中形成钝化薄膜和可选的疏水性薄膜，有效阻隔水氧进入裂缝中，从而避免了pvd层金属成分与底层金属基材的原电池反应，极大提升耐腐蚀性能，中性盐雾耐腐测试可达96h以上。

技术特征：

1.一种金属镀膜制品，其特征在于，所述金属镀膜制品包括金属基材、位于金属基材表面的阳极氧化层以及位于阳极氧化层表面的层叠的pvd层和复合钝化薄膜层；

2.根据权利要求1所述的金属镀膜制品，其中，所述金属基材为纯金属或合金，优选为铝合金，更优选为变形铝合金或压铸铝合金；

3.根据权利要求1或2所述的金属镀膜制品，其中，所述复合钝化薄膜层中，所述含羧基低聚物层和所述含亚胺基低聚物层交替设置；

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的金属镀膜制品，其中，所述制品在层叠的pvd层和复合钝化薄膜层外还包括疏水性纳米薄膜层；

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的金属镀膜制品，其中，所述制品包括依次层叠的金属基材、阳极氧化层、pvd层、复合钝化薄膜层和疏水性纳米薄膜层；

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的金属镀膜制品，其中，在温度为35±2℃且湿度大于85％的密闭环境中，用浓度为5±1wt％且ph为6.5-7.2的nacl溶液对所述制品进行中性盐雾试验，发生腐蚀的时间为96h以上。

7.一种金属镀膜制品的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

8.根据权利要求7所述的制备方法，其中，所述含羧基低聚物层和所述含亚胺基低聚物层交替沉积形成复合钝化薄膜层；

9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其中，所述方法还包括：在步骤(2-1)形成的复合钝化薄膜层或步骤(2-2)形成的pvd层上进行沉积以形成疏水性纳米薄膜层；

10.根据权利要求7-9中任意一项所述的制备方法，其中，所述方法包括以下步骤：

11.一种权利要求7-10中任意一项所述的制备方法制得的金属镀膜制品。

12.权利要求1-6和11中任意一项所述的金属镀膜制品在电子产品中的应用。

13.一种包括权利要求1-6和11中任意一项所述的金属镀膜制品的电子产品。

技术总结本发明涉及金属镀膜技术领域，公开了一种金属镀膜制品及其制备方法和应用以及电子产品。所述制品包括金属基材、位于金属基材表面的阳极氧化层以及位于阳极氧化层表面的层叠的PVD层和复合钝化薄膜层；其中，所述复合钝化薄膜层包括含羧基低聚物层和含亚胺基低聚物层。本发明还公开了金属镀膜制品的制备方法及金属镀膜制品的应用。本发明避免了PVD层金属成分与底层金属基材的原电池反应，极大提升耐腐蚀性能，中性盐雾耐腐测试可达96h以上。技术研发人员：许海波,罗富华,马兰,陈梁受保护的技术使用者：比亚迪股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/4