基板处理系统和基板处理方法与流程

本公开涉及一种基板处理系统和基板处理方法。

背景技术：

1、专利文献1公开了一种基板处理系统，具备：处理站，其在上下方向上分多层地设置有对基板进行处理的多个处理单元；盒载置部，其用于载置收容多张基板的盒；以及基板搬送机构，其配置于处理站与盒载置部之间。在处理站与基板搬送机构之间分多层地设置有多个交接单元，所述多个交接单元暂时地收容在盒载置部与处理站之间搬送的基板、以及在处理单元的各层之间搬送的基板。另外，基板搬送机构具备在盒载置部与各交接单元之间搬送基板的第一搬送臂、以及在各交接单元的各层之间搬送基板的第二搬送臂。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2013-69874号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开所涉及的技术能够在比较小的空间中以湿式和干式这两种方式进行除曝光处理以外的光刻用处理。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一个方式是进行基板处理的基板处理系统，所述基板处理是从在基板上形成抗蚀膜的形成处理起到曝光后的所述抗蚀膜的显影处理为止的处理中的任意一个或多个处理，所述基板处理系统具备具有湿式处理装置和干式处理装置中的任意一方的第一处理系统、以及具有湿式处理装置和干式处理装置中的另一方的第二处理系统，所述湿式处理装置以湿式进行所述基板处理，所述干式处理装置以干式进行与所述湿式处理装置所进行的基板处理相同种类的基板处理，所述第一处理系统具有由所述第一处理系统和第二处理系统共用的载置台，所述共用的载置台载置被构成为能够收容多张基板的容器，所述容器收容被进行所述基板处理之前的基板，所述基板处理系统还具备：第一搬送系统，其在所述第一处理系统与所述第二处理系统之间搬送基板；以及第二搬送系统，其与所述第一搬送系统分开设置，所述第二搬送系统至少连接于所述第二处理系统，其中，所述第二搬送系统在所述第一处理系统与所述第二处理系统之间、或者载置所述容器的其它载置台与所述第二处理系统之间搬送基板，所述其它载置台与所述共用的载置台分开设置。

5、发明的效果

6、根据本公开，能够在比较小的空间中以湿式和干式这两种方式进行除曝光处理以外的光刻用处理。

技术特征：

1.一种基板处理系统，进行基板处理，

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其中，

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理系统，其中，

6.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理系统，其中，

7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，

8.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，

9.根据权利要求1、7和8中的任一项所述的基板处理系统，其中，

10.根据权利要求1、7和8中的任一项所述的基板处理系统，其中，

11.根据权利要求7或8所述的基板处理系统，其中，

12.根据权利要求7或8所述的基板处理系统，其中，

13.一种基板处理方法，是使用基板处理系统进行基板处理的基板处理方法，

技术总结本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法。基板处理系统具备具有湿式处理装置和干式处理装置中的任意一方的第一处理系统、以及具有另一方的第二处理系统，湿式处理装置以湿式进行基板处理，干式处理装置以干式进行基板处理，第一处理系统具有由第一处理系统和第二处理系统共用的载置台，共用的载置台载置被构成为能够收容被进行基板处理之前的多张基板的容器，基板处理系统还具备：第一搬送系统，其在第一处理系统与第二处理系统之间搬送基板；以及第二搬送系统，其与第一搬送系统分开设置，至少连接于第二处理系统，第二搬送系统在第一处理系统与第二处理系统之间、或者与共用的载置台分开设置的其它载置台与第二处理系统之间搬送基板。技术研发人员：高木慎介,中岛清次,寺本聪宽,菖蒲凌受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社技术研发日：技术公布日：2024/7/25