显示装置和制造显示装置的方法与流程

本发明构思的实施方式总体上涉及显示装置。

背景技术：

1、显示装置包括实现为板电极的上部电极(例如，阴极)，并且上部电极形成在显示区域和与显示区域相邻的外围区域中。形成在显示区域中的上部电极可与下部电极一起向发射层施加电压。形成在外围区域中的上部电极可从外部接收电压。

2、上部电极可接触在外围区域中形成的下部图案，以接收从设置在外围区域中的下部图案提供的电压。因此，在显示装置的制造工艺期间，形成在外围区域中的下部图案被暴露。然而，在形成上部电极的工艺中，由于掩模直接接触下部图案，因此可能出现上部电极的剥离缺陷，并且因此，显示装置的成品率可能降低。

技术实现思路

1、实施例提供了具有提高的成品率的显示装置。

2、实施例提供了制造显示装置的方法。

3、根据实施例的显示装置可包括：发射下部电极，设置在衬底上的显示区域中；第一下部图案，设置在与显示区域相邻的第一区域中，并且与发射下部电极设置在相同的层；第二下部图案，设置在与第一区域相邻的第二区域中，并且与第一下部图案设置在相同的层；以及上部电极，设置在第一下部图案和第二下部图案上，在第一区域中接触第一下部图案，并且在第二区域中与第二下部图案重叠。

4、在实施例中，上部电极可不接触第二下部图案。

5、在实施例中，显示装置还可包括设置在第一下部图案和第二下部图案上的像素限定层，并且像素限定层可在与第二下部图案重叠的区域中不包括开口。

6、在实施例中，像素限定层可完全覆盖第二下部图案。

7、在实施例中，像素限定层包括设置于在平面视图中与第一下部图案对应的区域中的开口。

8、在实施例中，像素限定层可包括设置于在平面视图中与发射下部电极对应的区域中的开口，并且发射层可设置在发射下部电极与上部电极之间。

9、在实施例中，发射下部电极、第一下部图案和第二下部图案可具有彼此相同的形状。

10、在实施例中，显示装置还可包括设置在与第二区域相邻的非显示区域中的坝结构，并且第二下部图案可设置在第一下部图案与坝结构之间。

11、在实施例中，显示装置还可包括设置在上部电极上的第一无机层、设置在第一无机层上的有机层和设置在有机层上的第二无机层。

12、在实施例中，显示装置还可包括设置在发射下部电极下面的晶体管。晶体管可包括设置在衬底上的下部金属图案、设置在下部金属图案上的有源图案、设置在有源图案上的栅电极以及设置在栅电极上的连接电极。发射下部电极可通过连接电极电连接到有源图案。

13、根据实施例的制造显示装置的方法可包括：形成位于衬底上的显示区域中的发射下部电极、位于与显示区域相邻设置的第一区域中的第一下部图案以及位于与第一区域相邻设置的第二区域中的第二下部图案；以及形成位于第一下部图案和第二下部图案上、在第一区域中接触第一下部图案并且在第二区域中与第二下部图案重叠的上部电极。

14、在实施例中，该方法还可包括形成覆盖第一下部图案和第二下部图案的预备像素限定层以及使用第一掩模来图案化预备像素限定层以暴露第一下部图案。

15、在实施例中，在预备像素限定层正在被图案化的同时，可不去除与第二区域重叠的预备像素限定层。

16、在实施例中，第一掩模可包括与第二区域完全重叠的阻挡部分。

17、在实施例中，第一掩模还可包括与第一区域重叠的图案部分和与相邻于第二区域的非显示区域重叠的开口部分，并且阻挡部分可设置在图案部分与开口部分之间。

18、在实施例中，该方法还可包括使用第二掩模在发射下部电极上形成发射层。上部电极可使用第三掩模来形成，并且第二区域可对应于第三掩模的对准裕度区域。

19、在实施例中，可使用第一掩模来图案化预备像素限定层以暴露发射下部电极。

20、在实施例中，该方法还可包括：形成设置在上部电极上的第一无机层；在第一无机层上形成有机层；以及在有机层上形成第二无机层。

21、在实施例中，该方法还可包括：在衬底上形成下部金属图案；在下部金属图案上形成有源图案；在有源图案上形成栅电极；以及在栅电极上形成连接电极。

22、在实施例中，上部电极可不接触第二下部图案。

23、因此，根据本发明的示例实施例的显示装置可包括发射下部电极、第一下部图案、第二下部图案和上部电极。设置在第一区域中的第一下部图案可连接到上部电极，并且可将电压传输到上部电极。设置在与第一区域相邻的第二区域中的第二下部图案可被像素限定层完全覆盖，可与上部电极重叠，并且可与上部电极断开。因此，在形成上部电极的工艺中，掩模可不直接接触第二下部图案，并且可防止与第二区域重叠的上部电极的剥离缺陷。

技术特征：

1.一种显示装置，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述上部电极不与所述第二下部图案接触。

3.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述像素限定层完全覆盖所述第二下部图案。

5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述像素限定层包括设置于在平面视图中与所述第一下部图案对应的区域中的开口。

6.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述像素限定层包括设置于在平面视图中与所述发射下部电极对应的区域中的开口，并且

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述发射下部电极、所述第一下部图案和所述第二下部图案具有彼此相同的形状。

8.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

9.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

10.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

11.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：

12.根据权利要求11所述的制造显示装置的方法，还包括：

13.根据权利要求12所述的制造显示装置的方法，其中，在所述预备像素限定层正在被图案化的同时，不去除与所述第二区域重叠的所述预备像素限定层。

14.根据权利要求13所述的制造显示装置的方法，其中，所述第一掩模包括与所述第二区域完全重叠的阻挡部分。

15.根据权利要求14所述的制造显示装置的方法，其中，所述第一掩模还包括与所述第一区域重叠的图案部分和与相邻于所述第二区域的非显示区域重叠的开口部分，并且

16.根据权利要求12所述的制造显示装置的方法，还包括：

17.根据权利要求12所述的制造显示装置的方法，其中，使用所述第一掩模来图案化所述预备像素限定层以暴露所述发射下部电极。

18.根据权利要求11所述的制造显示装置的方法，还包括：

19.根据权利要求11所述的制造显示装置的方法，还包括：

20.根据权利要求11所述的制造显示装置的方法，其中，所述上部电极不与所述第二下部图案接触。

技术总结提供了显示装置和制造显示装置的方法。显示装置包括：设置在第一区域中并且与发射下部电极设置在相同的层的第一下部图案、设置在与第一区域相邻的第二区域中并且与第一下部图案设置在相同的层的第二下部图案以及上部电极，上部电极设置在第一下部图案和第二下部图案上、在第一区域中与第一下部图案接触并且在第二区域中与第二下部图案重叠但是不与第二下部图案接触。技术研发人员：方智泳,具东成,林都基,薛暋树受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/18