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柔性线路板双微蚀表面处理工艺的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-02 15:35:37

本发明涉及一种柔性线路板表面处理工艺,尤其涉及一种柔性线路板双微蚀表面处理工艺。

背景技术:

1、柔性线路板贴覆盖膜前都要对线路铜面进行表面处理,以去除氧化、手指印、水迹等,并保持线路铜面颜色一致,一般都是采用以下二种方式处理:1.过硫酸钠和硫酸进行微蚀处理,该处理方式铜面较粗糙颜色偏暗,与覆盖膜结合力好,但微蚀一段时间后,当含铜量较高时,微蚀速率下降较快。2.双氧水和硫酸进行微蚀处理,微蚀速率较快,该处理方式铜面较细腻颜色偏白,与覆盖膜结合力略差些,但双氧水易分解,需要经常补加,成本较高。

技术实现思路

1、本发明提供一种柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其目的是解决现有技术的缺点,在得到合适状态的铜面颜色的同时,又得到相对微观的粗糙面,可以在贴压覆盖膜后提高产品的外观质量。

2、本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

3、柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

4、工艺流程为:

5、入板→双氧水和硫酸体系微蚀→3级水洗→过硫酸钠和硫酸体系微蚀→3级水洗→稀硫酸清洗→4级水洗→吸干→吹干→热风烘干。

6、进一步的:

7、所述3级水洗为:

8、第1级逆流水洗→第2级逆流水洗→第3级自来水洗。

9、进一步的:

10、所述4级水洗为:

11、第1级逆流水洗→第2级逆流水洗→第3级逆流水洗→第4级新纯水洗。

12、进一步的:

13、双氧水和硫酸体系配方为,每升:

14、双氧水(h2o2):30-35%;

15、硫酸(h2so4):3-5%;

16、1.6-已二酸:20ml;

17、乙二醇:0.5%;

18、2,2'-联吡啶-4,4'-二甲酸:50ppm;

19、磺胺噻唑:200ppm;

20、苯酚磺酸钠:20g;

21、进一步的:

22、双氧水和硫酸体系微蚀工艺参数为:

23、温度:28±2℃;

24、上/下喷压力:1.0±0.5kg/cm2;

25、设备传送速度:2.0±0.5m/min;

26、微蚀量为:

27、按以上参数该微蚀量约为0.4-0.6um。

28、进一步的:

29、过硫酸钠和硫酸体系配方为,每升:

30、过硫酸钠(na2s2o8):40~60g;

31、硫酸(h2so4):3-5%;

32、进一步的:

33、过硫酸钠和硫酸体系微蚀工艺参数为:

34、温度:35±2℃;

35、上/下喷压力:1.0±0.5kg/cm2;

36、设备传送速度:2.0±0.5m/min;

37、微蚀量为:

38、按以上参数该微蚀量约为0.3-0.5um。

39、进一步的:

40、稀硫酸配方为,每升:

41、稀硫酸:(h2so4):1.5-2.0%;

42、进一步的:

43、稀硫酸清洗工艺参数为:

44、温度:常温;

45、上/下喷压力:1.0±0.5kg/cm2;

46、设备传送速度:2.0±0.5m/min。

47、本发明的有益之处在于:

48、柔性线路板利用双氧水和硫酸体系微蚀铜面细腻颜色偏白的优点,以及过硫酸钠和硫酸体系微蚀较粗糙颜色偏暗黄的优点,进行2次微蚀得到柔性线路板色泽均匀微黄偏白的铜箔面,使得铜箔耐氧化时间更长,贴压覆盖膜后结合力更好,提高了产品质量。同时控制劣势,采用无毒性1.6-已二酸、乙二醇、2,2'-联吡啶-4,4'-二甲酸、磺胺噻唑、苯酚磺酸钠等有机化合物,有效地控制了双氧水的分解。由于先经过双氧水和硫酸体系微蚀一次,在总体微蚀量控制1um左右时,减少了过硫酸钠和硫酸体系的二次微蚀量,降低了溶液的溶铜量,提高了溶液的使用寿命。

技术特征:

1.柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

2.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

3.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

4.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

5.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

6.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

7.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

8.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

9.如权利要求1所述的柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:

技术总结本发明提供一种柔性线路板双微蚀表面处理工艺,其特征在于:工艺流程为:入板→双氧水和硫酸体系微蚀→3级水洗→过硫酸钠和硫酸体系微蚀→3级水洗→稀硫酸清洗→4级水洗→吸干→吹干→热风烘干。本发明在得到合适状态的铜面颜色的同时,又得到相对微观的粗糙面,可以在贴压覆盖膜后提高产品的外观质量。技术研发人员:叶华,杨贤伟,王亦鹏受保护的技术使用者:福建世卓电子科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/7/23

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