一种接近式曝光系统的Z轴结构及接近式曝光设备的制作方法

本发明涉及曝光设备，尤其涉及一种接近式曝光系统的z轴结构及接近式曝光设备。

背景技术：

1、目前，在光伏异质结电池片技术领域的铜栅线图形化工艺中，通过接近式曝光技术，能大批量地在电池片上形成所需的栅线图形，降低了生产成本。现有技术中，掩模通过沿升降装置的升降轴升降，从而将掩模贴近电池片并使掩模和电池片之间保持设定间隙。现有技术掩模升降方式，且能防止掩模与硅片直接接触，降低了掩模污染和损坏的可能性，但为了避免掩模和电池片之间产生接触，常规升降装置的升降轴的升降速度较慢、精度不高，且容易导致掩模和电池片（电池片厚度存在公差）之间的间隙不一致的问题，难以满足高速输入电池片和快速进行曝光的需要，掩模容易与电池片之间产生摩擦而损坏。

2、有鉴于此，需要设计一种接近式曝光系统的z轴结构及接近式曝光设备，能更精准、更快速地调节掩模和电池片之间的距离，以此满足15um以下精密栅线图形批量化生产且不损伤掩模的目的。

3、以上信息作为背景信息给出只是为了辅助理解本公开，并没有确定或者承认任意上述内容是否可用作相对于本公开的现有技术。

技术实现思路

1、本发明提供一种接近式曝光系统的z轴结构及接近式曝光设备，能更精准调节掩模和电池片之间的距离，以此满足批量化生产且不损伤掩模的目的

2、为实现上述目的，本发明提供以下的技术方案：

3、一种接近式曝光系统的z轴结构，包括：

4、支撑板；

5、掩模安装面板，用于安装掩模，在沿竖直方向上与所述支撑板滑动连接；

6、升降驱动组件，包括与所述支撑板固定连接的音圈电机、连接所述音圈电机的驱动端的斜推板和用于将所述掩模安装面板拉向所述斜推板的弹性件；

7、所述斜推板具有朝向所述掩模安装面板的第一斜面，所述掩模安装面板具有平行所述第一斜面的第二斜面，所述斜推板的顶面通过第一滑轨组件与所述支撑板滑动连接，所述斜推板的第一斜面通过第二滑轨组件与所述第二斜面滑动连接，且所述第二滑轨组件相对所述第一滑轨组件倾斜设置；所述音圈电机带动所述斜推板水平移动，以使所述掩模安装面板沿竖直方向移动。

8、可选地，每一个所述升降驱动组件的旁侧还安装有光栅尺，且光栅尺与旁侧的所述升降驱动组件电连接以检测相邻的所述掩模安装面板的位置。

9、可选地，接近式曝光系统的z轴结构还包括控制模块，所述升降驱动组件对称设置有两组，所述控制模块分别电连接所述音圈电机和所述光栅尺；

10、断电重连后，所述控制模块通过所述音圈电机带动所述斜推板移动至设定位置，以使所述掩模安装面板沿竖直方向升降至设定高度。

11、可选地，所述斜推板水平移动的位移值为a时，则所述掩模安装面板在竖直方向上的位移值为0.1a。

12、可选地，接近式曝光系统的z轴结构还包括调整平台，所述调整平台用于调整所述支撑板在竖直方向上的高度。

13、可选地，所述第二斜面上设置有相对的两条条形凸起，且所述第二滑轨组件包括两个滑轨模组；

14、两组所述滑轨模组设置在两条所述条形凸起之间，且每一组所述两个滑轨模组分别连接在一条所述条形凸起的侧面。

15、可选地，所述掩模安装面板的侧面通过两组第三滑轨组件与所述支撑板滑动连接，且所述第三滑轨组件垂直于所述第一滑轨组件。

16、可选地，所述掩模安装面板的底面为平面，且开设有用于固定掩模的固定孔。

17、可选地，所述斜推板的顶面为水平面，所述第二斜面的倾斜角度为2°-8°。

18、一种接近式曝光设备，包括有如上任一项所述的接近式曝光系统的z轴结构。

19、与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

20、本发明提供的接近式曝光系统的z轴结构，通过优化升降驱动组件的结构，音圈电机带动斜推板沿第一方向（一般为水平方向，也可以为倾斜水平面的方向）滑动，斜推板滑动带动第二滑轨组件动作，从而带动掩模安装面板沿竖直方向移动，进而达到调节掩模安装面板到待曝光的电池片之间的距离。本实施例不是直接通过升降轴进行调节掩模安装面板的位置，而是通过优化后的升降驱动组件调节掩模安装位置，即音圈电机的输出行程，能通过倾斜设置的第一滑轨组件和第二滑轨组件，折算为掩模安装面板的升降行程，音圈电机输出行程与实际掩膜版高度为按比例缩小的关系，相应地运行精度也成比例增加,从而进一步提升了掩模安装面板的高度调节精度，使掩模安装面板的高度更匹配当前所需曝光的电池片且稳定性大幅增加。

21、本发明具有其它的特性和优点，这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施方式中将是显而易见的，或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施方式中进行详细陈述，这些附图和具体实施方式共同用于解释本发明的特定原理。

技术特征：

1.一种接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，每一个所述升降驱动组件（3）的旁侧还安装有光栅尺（6），且光栅尺（6）与旁侧的所述升降驱动组件（3）电连接以检测相邻的所述掩模安装面板（2）的位置。

3.根据权利要求2所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，还包括控制模块，所述升降驱动组件（3）对称设置有两组，所述控制模块分别电连接所述音圈电机（31）和所述光栅尺（6）；

4.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，所述斜推板（32）水平移动的位移值为a时，则所述掩模安装面板（2）在竖直方向上的位移值为0.1a。

5.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，还包括调整平台（7），所述调整平台（7）用于调整所述支撑板（1）在竖直方向上的高度。

6.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，所述第二斜面上设置有相对的两条条形凸起（201），且所述第二滑轨组件（5）包括两个滑轨模组；

7.根据权利要求6所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，所述掩模安装面板（2）的侧面通过两组第三滑轨组件（8）与所述支撑板（1）滑动连接，且所述第三滑轨组件（8）垂直于所述第一滑轨组件（4）。

8.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，所述掩模安装面板（2）的底面为平面，且开设有用于固定掩模的固定孔。

9.根据权利要求1所述的接近式曝光系统的z轴结构，其特征在于，所述斜推板（32）的顶面为水平面，所述第二斜面的倾斜角度为2°-8°。

10.一种接近式曝光设备，其特征在于，包括有如权利要求1-9中任一项所述的接近式曝光系统的z轴结构。

技术总结本发明涉及曝光设备技术领域，公开了一种接近式曝光系统的Z轴结构及接近式曝光设备，包括：支撑板；掩模安装面板，与支撑板滑动连接；升降驱动组件，包括与支撑板固定连接的音圈电机、连接音圈电机的驱动端的斜推板和用于将掩模安装面板拉向斜推板的弹性件；斜推板具有朝向掩模安装面板的第一斜面，掩模安装面板具有平行第一斜面的第二斜面，斜推板的顶面通过第一滑轨组件与支撑板滑动连接，斜推板的第一斜面通过第二滑轨组件与第二斜面滑动连接，且第二滑轨组件相对第一滑轨组件倾斜设置。本发明的一种接近式曝光系统的Z轴结构及接近式曝光设备，能更精准调节掩模和电池片之间的距离，更好地达到批量化生产且不损伤掩模的目的。技术研发人员：王建勋,张成宣,倪兴荣受保护的技术使用者：东莞思沃智能装备有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/1