一种激光直写曝光机光源的制作方法

本发明属于激光曝光，具体的说是一种激光直写曝光机光源。

背景技术：

1、激光直写曝光机是一种利用激光束直接在光敏材料表面进行曝光的设备，它采用激光束对光敏材料进行高精度的曝光，可以实现高分辨率、高精度的图形和文字直接曝光在光敏材料上，其中曝光机光源在曝光机中起着至关重要的作用，它是曝光制版的关键元件之一，一般的曝光机光源系统为一体式，包括光源模块、散热模块和操作模块。

2、公开号为cn114779589a的一项专利申请公开了一种曝光机光源系统，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；光源组件包括激光器；清洗组件包括清洗腔；回转阻挡组件包括回转件和挡片组；该曝光机光源系统，利用动态运动的回转阻挡组件取代静态的反射镜，并通过清洗组件及时清理燃烧残留物，可实现及时清理燃烧残留物的功能。

3、上述方案在实际运用中还存在一些问题，在曝光过程中，系统内的激光束会聚焦并对准到光刻胶的目标位置，随后照射在光刻胶上进行扫描曝光，形成所需的图形或文字，但若是在曝光时，用来室内照明的灯光或者受到反射的日光照射到激光束聚焦的位置，这些外部光线可能与激光束发生干涉，导致曝光区域的亮度、对比度或均匀性发生变化，从而影响最终图形的清晰度和精度，甚至会对曝光系统的光学元件或其他敏感部件造成损坏。

4、为此，本发明提供一种激光直写曝光机光源。

技术实现思路

1、为此，本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术中。

2、为解决上述技术问题，本发明提供了一种激光直写曝光机光源，包括曝光模块，所述曝光模块的前端设有曝光窗口，所述曝光模块的下端设有底座框架，所述底座框架的内部设有调控装置，且调控装置设在曝光模块的下端；所述调控装置包括：放置平台，所述放置平台设在底座框架的表面，且放置平台在曝光窗口的下端，放置平台的表面放置有基片；固定框，所述固定框设在曝光窗口的侧壁；第一伸缩罩，所述第一伸缩罩在固定框的内部滑动；第二伸缩罩，所述第二伸缩罩与第一伸缩罩相连接，且第二伸缩罩在固定框的内部滑动；反射镜，所述反射镜转动连接在第二伸缩罩的表面，且反射镜在初始状态下与固定框的内壁相抵接；第一卷簧，所述第一卷簧设在反射镜的两端，且第一卷簧的另一端与第二伸缩罩相连接。

3、在本发明的一个实施例中，所述调控装置还包括：螺纹杆，所述螺纹杆转动连接在底座框架的表面，且螺纹杆与放置平台螺纹连接；滑动杆，所述滑动杆设在底座框架的表面，且放置平台与第一伸缩罩均在滑动杆的表面滑动；滑动槽，所述滑动槽开设在固定框的侧壁；调节杆，所述调节杆与第一伸缩罩相连接，且调节杆在滑动槽的内壁滑动。

4、在本发明的一个实施例中，所述反射镜在初始状态下位于固定框的内部，且反射镜两端的第一卷簧在初始状态下处于紧绷状态。

5、在本发明的一个实施例中，所述放置平台在第一伸缩罩的内部滑动，且第一伸缩罩与螺纹杆螺纹连接。

6、在本发明的一个实施例中，所述滑动槽的内壁设有定位块，且定位块与调节杆相卡接。

7、在本发明的一个实施例中，所述底座框架的上端设有放置框架，所述放置框架的内部放置有若干个基片，所述底座框架的内壁转动连接有履带，所述履带的表面设有抵接条，且抵接条与基片相抵接。

8、在本发明的一个实施例中，所述放置框架的侧壁设有转动框架，所述放置框架的内壁转动连接有放置条，且放置条与基片的底部相抵接，所述放置条的两端设有第二卷簧，所述底座框架上表面靠近放置框架的一端设有凸起板。

9、在本发明的一个实施例中，所述底座框架的内部设有滑动轴，所述滑动轴的圆弧面滑动连接有第一齿条，所述滑动轴的圆弧面套有复位弹簧，且复位弹簧的一端设有与第一齿条相连接，复位弹簧的另一端与底座框架的内壁相连接，所述第一齿条靠近放置框架的一端设有按压片，且按压片与第一齿条之间通过拉伸弹簧连接。

10、在本发明的一个实施例中，所述底座框架的内壁转动连接有啮合齿轮，且啮合齿轮与第一齿条相啮合，所述履带表面靠近抵接条的一端设有第二齿条，且第二齿条与啮合齿轮相啮合。

11、在本发明的一个实施例中，所述凸起板的上端设有清洁框架，所述清洁框架的内部转动连接有清洁辊，且清洁辊与基片相接触。

12、本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：

13、1.本发明所述的一种激光直写曝光机光源，通过设置第一伸缩罩与第二伸缩罩，在曝光之前，启动调节杆，调节杆将会带着第一伸缩罩向下移动，在移动一段距离之后，放置平台将会向上移动，最终放置平台将会移动到第一伸缩罩的内部，就可以使得曝光所用的基片处于黑暗的环境中，从而避免受到外部光线的影响，且位于第二伸缩罩内部的反射镜也将会被打开，从而可以反射更多的光线，增加曝光亮度，提高曝光效果。

14、2.本发明所述的一种激光直写曝光机光源，通过设置放置框架，在需要进行曝光之前，可以将需要曝光的基片放进放置框架中，只需启动履带转动，履带便会将放置框架内最底端的基片自动输送至放置平台的表面，从而可以根据所要曝光基片的个数来去实现自动上料，缩短工作周期。

技术特征：

1.一种激光直写曝光机光源，其特征在于：包括曝光模块（1），所述曝光模块（1）的前端设有曝光窗口（2），所述曝光模块（1）的下端设有底座框架（3），所述底座框架（3）的内部设有调控装置（4），且调控装置（4）设在曝光模块（1）的下端；所述调控装置（4）包括：放置平台（402），所述放置平台（402）设在底座框架（3）的表面，且放置平台（402）在曝光窗口（2）的下端，放置平台（402）的表面放置有基片（5）；固定框（401），所述固定框（401）设在曝光窗口（2）的侧壁；第一伸缩罩（406），所述第一伸缩罩（406）在固定框（401）的内部滑动；第二伸缩罩（409），所述第二伸缩罩（409）与第一伸缩罩（406）相连接，且第二伸缩罩（409）在固定框（401）的内部滑动；反射镜（410），所述反射镜（410）转动连接在第二伸缩罩（409）的表面，且反射镜（410）在初始状态下与固定框（401）的内壁相抵接；第一卷簧（411），所述第一卷簧（411）设在反射镜（410）的两端，且第一卷簧（411）的另一端与第二伸缩罩（409）相连接。

2.根据权利要求1所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述调控装置（4）还包括：螺纹杆（408），所述螺纹杆（408）转动连接在底座框架（3）的表面，且螺纹杆（408）与放置平台（402）螺纹连接；滑动杆（407），所述滑动杆（407）设在底座框架（3）的表面，且放置平台（402）与第一伸缩罩（406）均在滑动杆（407）的表面滑动；滑动槽（404），所述滑动槽（404）开设在固定框（401）的侧壁；调节杆（403），所述调节杆（403）与第一伸缩罩（406）相连接，且调节杆（403）在滑动槽（404）的内壁滑动。

3.根据权利要求1所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述反射镜（410）在初始状态下位于固定框（401）的内部，且反射镜（410）两端的第一卷簧（411）在初始状态下处于紧绷状态。

4.根据权利要求2所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述放置平台（402）在第一伸缩罩（406）的内部滑动，且第一伸缩罩（406）与螺纹杆（408）螺纹连接。

5.根据权利要求2所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述滑动槽（404）的内壁设有定位块（405），且定位块（405）与调节杆（403）相卡接。

6.根据权利要求2所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述底座框架（3）的上端设有放置框架（413），所述放置框架（413）的内部放置有若干个基片（5），所述底座框架（3）的内壁转动连接有履带（427），所述履带（427）的表面设有抵接条（420），且抵接条（420）与基片（5）相抵接。

7.根据权利要求6所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述放置框架（413）的侧壁设有转动框架（423），所述放置框架（413）的内壁转动连接有放置条（422），且放置条（422）与基片（5）的底部相抵接，所述放置条（422）的两端设有第二卷簧（424），所述底座框架（3）上表面靠近放置框架（413）的一端设有凸起板（412）。

8.根据权利要求7所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述底座框架（3）的内部设有滑动轴（415），所述滑动轴（415）的圆弧面滑动连接有第一齿条（416），所述滑动轴（415）的圆弧面套有复位弹簧（417），且复位弹簧（417）的一端设有与第一齿条（416）相连接，复位弹簧（417）的另一端与底座框架（3）的内壁相连接，所述第一齿条（416）靠近放置框架（413）的一端设有按压片（419），且按压片（419）与第一齿条（416）之间通过拉伸弹簧（426）连接。

9.根据权利要求8所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述底座框架（3）的内壁转动连接有啮合齿轮（418），且啮合齿轮（418）与第一齿条（416）相啮合，所述履带（427）表面靠近抵接条（420）的一端设有第二齿条（421），且第二齿条（421）与啮合齿轮（418）相啮合。

10.根据权利要求7所述的一种激光直写曝光机光源，其特征在于：所述凸起板（412）的上端设有清洁框架（414），所述清洁框架（414）的内部转动连接有清洁辊（425），且清洁辊（425）与基片（5）相接触。

技术总结本发明属于激光曝光技术领域，具体的说是一种激光直写曝光机光源，包括曝光模块，曝光模块的前端设有曝光窗口，曝光模块的下端设有底座框架，底座框架的内部设有调控装置，且调控装置设在曝光模块的下端；调控装置包括：放置平台，放置平台设在底座框架的表面。通过设置第一伸缩罩与第二伸缩罩，在曝光之前，启动调节杆，调节杆将会带着第一伸缩罩向下移动，在移动一段距离之后，放置平台将会向上移动，最终放置平台将会移动到第一伸缩罩的内部，就可以使得曝光所用的基片处于黑暗的环境中，从而避免受到外部光线的影响，且位于第二伸缩罩内部的反射镜也将会被打开，从而可以反射更多的光线，增加曝光亮度，提高曝光效果。技术研发人员：庞超群,谭军,朱晓春,顾海霞受保护的技术使用者：张家港奇点光电科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/1