光传输路以及光连接器的制作方法

本发明涉及包括光波导的光传输路。另外，涉及用于将光处理器和光波导连接的光连接器。

背景技术：

1、为了超越以电气方式进行运算的cpu(central processing unit)、gpu(graphicsprocessing unit)等电处理器的极限，正在推进以光学方式进行运算的光处理器的研究开发。若使用光处理器，则与使用电处理器相比，能够高速地进行运算。作为有助于实现这样的光处理器的技术，例如可举出非专利文献1中记载的光晶体管等。

2、非专利文献1：nozaki,k.,matsuo,s.,fujii,t.et al.femtofaradoptoelectronic integration demonstrating energy-saving signal conversion andnonlinear functions.nat.photonics 13,454-459(2019).https://doi.org/10.1038/s41566-019-0397-3

3、然而，在包括多个光处理器的系统中，若将这些光处理器通过电传输路连接，则将光信号转换为电信号的工序成为瓶颈，无法充分提高系统整体的运算速度。

4、特别是在光处理器中，具有输出通过二维强度分布来表达图像等二维数据的光信号的光处理器。在通过电传输路连接这样的光处理器的情况下，需要：(1)读取光信号表示的m行n列的二维数据，(2)生成与读取到的二维数据的各行对应的m个一维数据，(3)生成表示所生成的m个一维数据的每一个的m个电信号，(4)依次发送所生成的m个电信号。因此，无论光处理器以光学方式进行的运算多么高速，都无法有效利用其高速性。因此，优选这样的光处理器使用光传输路而非电传输路来连接。

5、不过，在使用光波导作为光传输路的情况下，无法将从光处理器输出的光信号保持其二维强度分布不变地进行传输。这是因为光信号的二维强度分布在光波导中被传导的过程中发生变化。

技术实现思路

1、本发明的一个方式是鉴于上述的问题而完成的，其目的在于实现一种能够补偿在光波导产生的信号光的二维强度分布的变化的光传输路。

2、在本发明的一个方式所涉及的光传输路中，采用了如下结构，即具备：光波导；和光调制元件，具有相位调制量被相互独立地设定了的多个单元，上述光调制元件配置为一个主面与上述光波导的一个端面对置，构成上述光调制元件的各单元的相位调制量被设定为补偿在上述光波导产生的信号光的二维强度分布的变化。

3、在本发明的另一方式所涉及的光传输路中，采用了如下结构，即具备：光波导；光调制元件，具有相位调制量能够相互独立地设定的多个单元，上述光调制元件配置为一个主面与上述光波导的一个端面对置；以及控制部，以补偿在上述光波导产生的信号光的二维强度分布的变化的方式设定构成上述光调制元件的各单元的相位调制量。

4、在本发明的一个方式所涉及的光连接器中，采用了如下结构，即该光连接器用于将光波导和光处理器连接，其中，具备：光调制元件，该光调制元件具有相位调制量被相互独立地设定了的多个单元，上述光调制元件配置为一个主面与上述光波导的一个端面对置，构成上述光调制元件的各单元的相位调制量被设定为补偿在上述光波导产生的信号光的二维强度分布的变化。

5、在本发明的另一方式所涉及的光连接器中，采用了如下结构，即该光连接器用于将光波导和光处理器连接，其中，具备：光调制元件，具有相位调制量能够相互独立地设定的多个单元，上述光调制元件配置为一个主面与上述光波导的一个端面对置；和控制部，以补偿在上述光波导产生的信号光的二维强度分布的变化的方式设定构成上述光调制元件的各单元的相位调制量。

6、根据本发明的一个方式，可以实现一种能够补偿在光波导产生的信号光的二维强度分布的变化的光传输路。

技术特征：

1.一种光传输路，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的光传输路，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的光传输路，其特征在于，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光传输路，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的光传输路，其特征在于，还具备：

6.根据权利要求5所述的光传输路，其特征在于，

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光传输路，其特征在于，

8.根据权利要求1～6中任一项所述的光传输路，其特征在于，

9.一种光传输路，其特征在于，具备：

10.一种光连接器，用于将光波导和光处理器连接，其特征在于，具备：

11.一种光连接器，用于将光波导和光处理器连接，其特征在于，具备：

技术总结实现一种能够补偿在光波导产生的信号光的二维强度分布的变化的光传输路。光传输路(1)具备光波导(11)和光调制元件(121)。光调制元件(121)的各单元的相位调制量被设定为补偿在光波导(11)中产生的信号光的二维强度分布的变化。技术研发人员：九内雄一朗,日下裕幸,柏木正浩受保护的技术使用者：株式会社藤仓技术研发日：技术公布日：2024/8/1