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成像系统及其制造方法与流程

  • 国知局
  • 2024-08-05 12:16:07

本发明涉及成像领域,尤其涉及一种成像系统及其制造方法。

背景技术:

1、成像系统按照工作波段的不同,分为了可见光成像系统、红外成像系统等。现有的成像系统为了实现不用波段的成像要求,需要设置滤光片来过滤掉其他波段的光。然而,由于滤光片与光学镜头之间存在一定的间隔,导致入射光束在光学镜头与滤光片之间产生多次反射,从而形成花瓣状鬼影,影响了成像系统的成像质量。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种保证成像质量的成像系统。

2、为实现上述发明目的之一,本发明一实施方式提供一种成像系统,包括成像模块以及位于成像模块入光侧的超透镜,所述超透镜包括用于过滤入射光束的滤光膜以及多个阵列式排布的纳米结构,所述超透镜基于纳米结构的相位分布,以将入射光束会聚至成像模块的感光面上。

3、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述成像模块包括具有感光面的探测器,所述探测器位于超透镜的焦平面上,所述探测器的感光面与超透镜间隔设置。

4、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述成像模块还包括连接探测器的电路板,所述成像系统还包括连接超透镜的支架,所述支架连接于电路板。

5、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述成像模块还包括连接探测器的电路板,所述超透镜粘接于电路板。

6、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述成像系统还包括连接于成像模块感光面上的连接结构,所述连接结构覆盖至少部分的感光面,所述超透镜粘接于所述连接结构。

7、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述滤光膜连接于成像模块,并且覆盖于成像模块的感光面。

8、作为本发明一实施方式的进一步改进,至少在所述超透镜的入光侧上设置增透膜,所述增透膜包括第一材料层和第二材料层,所述第一材料层或第二材料层与超透镜相连。

9、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述超透镜还包括连接纳米结构的截止膜,所述滤光膜连接于截止膜背离纳米结构的一侧。

10、作为本发明一实施方式的进一步改进,所述超透镜包括多个阵列式排布的超结构单元,每个超结构单元的中心和/或顶点位置设有纳米结构,多个超结构单元呈周期性排列或者非周期性排列。

11、为实现上述发明的目的,本发明还提供了一种成像系统的制造方法,包括:

12、在超透镜的基底上或者成像模块上镀制滤光膜后,在滤光膜上镀制截止膜;

13、在截止膜上镀制纳米结构层,并对纳米结构层进行刻蚀;

14、在超透镜的入光侧镀制第一增透膜

15、作为本发明一实施方式的进一步改进,

16、在超透镜的出光侧镀制第二增透膜后,将滤光膜镀制于超透镜的入光侧;

17、在超透镜的入光侧镀制第一增透膜后,将超透镜与成像模块相互固定。

18、与现有技术相比,本发明的实施方式中,利用超透镜将入射光束会聚至成像模块的感光面上,并通过超透镜上设置的滤光膜来过滤掉其他波段的光,从而避免入射光束在超透镜与滤光片之间产生多次反射,保证了成像系统的成像质量。

技术特征:

1.一种成像系统,其特征在于,包括成像模块以及位于成像模块入光侧的超透镜,所述超透镜包括用于过滤入射光束的滤光膜以及多个阵列式排布的纳米结构,所述超透镜基于纳米结构的相位分布,以将入射光束会聚至成像模块的感光面上。

2.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像模块包括具有感光面的探测器,所述探测器位于超透镜的焦平面上,所述探测器的感光面与超透镜间隔设置。

3.如权利要求2所述的成像系统,其特征在于,所述成像模块还包括连接探测器的电路板,所述成像系统还包括连接超透镜的支架,所述支架连接于电路板。

4.如权利要求2所述的成像系统,其特征在于,所述成像模块还包括连接探测器的电路板,所述超透镜粘接于电路板。

5.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统还包括连接于成像模块感光面上的连接结构,所述连接结构覆盖至少部分的感光面,所述超透镜粘接于所述连接结构。

6.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述滤光膜连接于成像模块,并且覆盖于成像模块的感光面。

7.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,至少在所述超透镜的入光侧上设置增透膜,所述增透膜包括第一材料层和第二材料层,所述第一材料层或第二材料层与超透镜相连。

8.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述超透镜还包括连接纳米结构的截止膜,所述滤光膜连接于截止膜背离纳米结构的一侧。

9.如权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述超透镜包括多个阵列式排布的超结构单元,每个超结构单元的中心和/或顶点位置设有纳米结构,多个超结构单元呈周期性排列或者非周期性排列。

10.一种成像系统的制造方法,其特征在于,包括:

11.如权利要求10所述的成像系统的制造方法,其特征在于,

技术总结本发明提供一种成像系统及其制造方法,成像系统包括成像模块以及位于成像模块入光侧的超透镜,所述超透镜包括用于过滤入射光束的滤光膜以及多个阵列式排布的纳米结构,所述超透镜基于纳米结构的相位分布,以将入射光束会聚至成像模块的感光面上;利用超透镜将入射光束会聚至成像模块的感光面上,并通过超透镜上设置的滤光膜来过滤掉其他波段的光,从而避免入射光束在超透镜与滤光片之间产生多次反射,保证了成像系统的成像质量。技术研发人员:范鸿杰,吴贤丰,史坦,刘思扬受保护的技术使用者:苏州山河光电科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/8/1

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