光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法与流程

本申请涉及半导体，特别是涉及一种光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法。

背景技术：

1、光刻掩模版，又称光掩模，是集成电路光刻工艺使用的母版图形，一个产品芯片的制作过程通常需要历经多达几十次光刻，每次光刻都需要一块光掩模，通过光刻技术，采用类似于照片冲洗的方式，将图形复制至晶圆上。光掩模的质量影响产品的质量，当光掩模被光刻机激光照射一定时长后，会产生雾状缺陷(haze)，一旦产生雾状缺陷，对产品的良率有极大的影响，光掩模通常只能送回光掩模厂维修。因此，实时监测光掩模的缺陷状况尤为重要，以便提前送修具有雾状缺陷的光掩模，保证产品质量，且减少停线风险。光掩模缺陷检查台便是结合影像扫描技术与先进的影像处理技术，来捕捉光掩模上的缺陷。目前的光掩模缺陷检查台存在以下问题：需要对光掩模进行预处理才能进入检查和校准步骤，降低了缺陷检查的效率。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对上述问题，提供一种光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法。

2、第一方面，本申请提供一种光掩模缺陷检查装置，包括：

3、底座；

4、承载台，设于所述底座上，且用于承载光掩模；

5、多个定位机构，设于所述底座上，且间隔地围设于所述承载台的外周侧；每一所述定位机构可朝靠近或远离所述承载台的方向移动；所述定位机构用于与所述光掩模的侧边接触，以对所述光掩模进行定位；每一所述定位机构上设有传感器；

6、处理器，与所述传感器通信连接；所述传感器响应于所述定位机构与所述光掩模侧边的接触，传输所述光掩模的基础信息至所述处理器；

7、扫描仪，设于所述承载台背离所述底座的一侧，且与所述底座相间隔；所述扫描仪与所述处理器通信连接，以传输所述光掩模的扫描信息。

8、在其中一个实施例中，所述定位机构包括：

9、第一滑块，可移动地设于所述底座上；以及

10、限位件，设于所述第一滑块远离所述底座的一侧；所述限位件上设置有限位面，所述限位面朝向承载台；

11、其中，所述传感器设于所述第一滑块上，所述限位面上设有接触开关，所述接触开关与所述传感器电连接。

12、在其中一个实施例中，所述扫描仪包括三维扫描仪。

13、在其中一个实施例中，所述光掩模缺陷检查装置还包括侧板结构和顶板，所述侧板结构设于所述底座靠近所述承载台的一侧，且围设于所述承载台和所述定位机构的外周侧，所述顶板设于所述侧板结构远离所述底座的一侧；

14、其中，所述三维扫描仪设于所述顶板靠近所述底座的一侧，且可朝靠近或远离所述底座的方向移动。

15、在其中一个实施例中，所述光掩模缺陷检查装置还包括安装板和驱动件，所述安装板设于所述顶板靠近所述底座的一侧，所述三维扫描仪设于所述安装板靠近所述底座的一侧，所述驱动件设于所述顶板上，且与所述安装板传动连接，所述驱动件用于带动所述安装板朝靠近或远离所述底座的方向移动。

16、在其中一个实施例中，所述安装板靠近所述底座的一侧设有第一导轨，所述三维扫描仪可移动地设于所述第一导轨上。

17、在其中一个实施例中，所述光掩模缺陷检查装置还包括连接板和连杆，所述连接板设于所述顶板远离所述底座的一侧，所述驱动件设于所述顶板和所述连接板之间，所述驱动件的固定端与所述顶板连接，所述驱动件的活动端与所述连接板连接；

18、所述连杆可沿自身轴向移动地穿设于所述顶板，且连接所述连接板和所述安装板。

19、在其中一个实施例中，所述三维扫描仪靠近所述底座的一侧还设有第一透光板，所述第一透光板与所述连杆连接。

20、在其中一个实施例中，所述侧板结构包括第一侧板和第二侧板，所述第一侧板和所述第二侧板相对接，且共同围设形成用于容纳所述底座和所述承载台的容置空间；

21、其中，所述第一侧板和所述第二侧板的对接处设有滑动机构，以使所述第一侧板可相对所述第二侧板沿重力方向滑动。

22、在其中一个实施例中，所述第一侧板和所述第二侧板的对接处还设有制动机构。

23、在其中一个实施例中，所述第二侧板为遮光结构；

24、所述第一侧板包括第二透光板及设于所述第二透光板上的电致变色层，所述电致变色层用于改变所述第一侧板的透光率。

25、在其中一个实施例中，所述光掩模缺陷检查装置还包括：存储器、控制器和触控屏，所述存储器、所述控制器和所述触控屏均与所述处理器电连接。

26、在其中一个实施例中，所述光掩模缺陷检查装置还包括多个第二导轨，所述多个第二导轨间隔地围设于所述承载台的外周侧，且呈辐射状布置；所述多个定位机构一一对应地设于所述多个第二导轨上。

27、本申请实施例提供的光掩模缺陷检查装置，在进行缺陷检查时，光掩模放置在承载台上，定位机构对光掩模进行定位的同时，传感器可以将光掩模的基础信息（如位置信息和尺寸信息）传输至处理器，接着扫描仪对光掩模进行扫描，处理器获取基础信息和扫描信息后进行进一步处理。如此，在进行缺陷检查前，无需对光掩模进行预处理，便于快速确认光掩模的检查区域，提高了检查效率。

28、第二方面，本申请实施例提供一种光掩模缺陷检查方法，采用光掩模缺陷检查装置进行检查，所述光掩模缺陷检查装置包括底座、承载台、多个定位机构、处理器和扫描仪；承载台设于底座上，且用于承载光掩模；多个定位机构设于所述底座上，且间隔地围设于所述承载台的外周侧；每一所述定位机构上设有传感器；所述扫描仪设于所述承载台背离所述底座的一侧，且与所述底座相间隔；所述传感器、所述扫描仪与所述处理器通信连接；

29、光掩模缺陷检查方法包括：

30、所述定位机构对所述光掩模进行定位；

31、所述传感器传输所述光掩模的基础信息至所述处理器；

32、所述扫描仪对所述光掩模进行扫描，并传输所述光掩模的扫描信息至所述处理器；

33、所述处理器对所述基础信息和所述扫描信息进行处理，输出视觉模型。

34、本申请实施例提供的光掩模缺陷检查方法，在进行缺陷检查时，光掩模放置在承载台上，定位机构对光掩模进行定位的同时，传感器可以将光掩模的基础信息（如位置信息和尺寸信息）传输至处理器，然后处理器对获取到的扫描信息和基础信息进行处理，输出视觉模型。如此，在进行缺陷检查前，无需对光掩模进行预处理，便于快速确认光掩模的检查区域，提高了检查效率。

技术特征：

1.一种光掩模缺陷检查装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述定位机构包括：

3.根据权利要求1所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述扫描仪包括三维扫描仪。

4.根据权利要求3所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述光掩模缺陷检查装置还包括侧板结构和顶板，所述侧板结构设于所述底座靠近所述承载台的一侧，且围设于所述承载台和所述定位机构的外周侧，所述顶板设于所述侧板结构远离所述底座的一侧；

5.根据权利要求4所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述光掩模缺陷检查装置还包括安装板和驱动件，所述安装板设于所述顶板靠近所述底座的一侧，所述三维扫描仪设于所述安装板靠近所述底座的一侧，所述驱动件设于所述顶板上，且与所述安装板传动连接，所述驱动件用于带动所述安装板朝靠近或远离所述底座的方向移动。

6.根据权利要求5所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述光掩模缺陷检查装置还包括连接板和连杆，所述连接板设于所述顶板远离所述底座的一侧，所述驱动件设于所述顶板和所述连接板之间，所述驱动件的固定端与所述顶板连接，所述驱动件的活动端与所述连接板连接；

7.根据权利要求6所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述三维扫描仪靠近所述底座的一侧还设有第一透光板，所述第一透光板与所述连杆连接。

8.根据权利要求4所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述侧板结构包括第一侧板和第二侧板，所述第一侧板和所述第二侧板相对接，且共同围设形成用于容纳所述底座和所述承载台的容置空间；

9.根据权利要求8所述的光掩模缺陷检查装置，其特征在于，所述第二侧板为遮光结构；

10.一种光掩模缺陷检查方法，其特征在于，采用光掩模缺陷检查装置进行检查，所述光掩模缺陷检查装置包括底座、承载台、多个定位机构、处理器和扫描仪；承载台设于底座上，且用于承载光掩模；多个定位机构设于所述底座上，且间隔地围设于所述承载台的外周侧；每一所述定位机构上设有传感器；所述扫描仪设于所述承载台背离所述底座的一侧，且与所述底座相间隔；所述传感器、所述扫描仪与所述处理器通信连接；

技术总结本申请涉及一种光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法。光掩模缺陷检查装置包括：底座；承载台，设于底座上，且用于承载光掩模；多个定位机构，设于底座上，且间隔地围设于承载台的外周侧；每一定位机构可朝靠近或远离承载台的方向移动；定位机构用于与光掩模的侧边接触，以对光掩模进行定位；每一定位机构上设有传感器；处理器，与传感器通信连接；传感器响应于定位机构与光掩模侧边的接触，传输光掩模的基础信息至处理器。扫描仪，设于承载台背离底座的一侧，且与底座相间隔；扫描仪与处理器通信连接，以传输光掩模的扫描信息。如此，在进行缺陷检查前，无需对光掩模进行预处理，便于快速确认光掩模的检查区域，提高了检查效率。技术研发人员：张旺,徐佳,宋晓辉受保护的技术使用者：无锡迪思微电子有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/5