一种高耐磨功能薄膜的制备方法与流程

：本发明涉及显示屏，特别涉及一种高耐磨功能薄膜的制备方法。

背景技术

0、背景技术：

1、随着手机的更新换代及人们对于高品质产品的追求，普遍的手机前后盖表面都镀有af膜层，具有很好的疏水、抗指纹、抗油污性能。有些高端品牌还镀有ar减反膜层加af膜层，显示更清晰。但是使用一段时间后，随着手滑动手机屏幕和衣服摩擦的次数增多，表面的ar和af膜层逐渐的刮伤、脱落，失去了上面优良的性能。实验的数据表明，玻璃表面直接镀af膜层，用橡皮和钢丝绒做磨(全文需更改)擦测试，行业标准磨擦4500次，水滴角测试>100°。镀有ar+af的膜层摩擦效果更差。基于以上问题，引入一种氮化碳叠加ar和af的复合膜层，使得原本只有af膜层的摩擦次数大幅增加，达到30000次以上。有ar+af的膜层，也不会衰减，大大提高了行业标准。

技术实现思路

1、本发明提出一种高耐磨功能薄膜的制备方法,以提高玻璃表面抗划伤、橡皮摩擦、钢丝绒摩擦效果。

2、为了实现以上目的，本发明采用的技术方案为：

3、一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；

4、首先在玻璃基材上镀一层薄薄的sio2层作为打底层，镀sio2用中频电源溅射，功率设12～16kw，电压在400v～500v,氩气流量600～700sccm，氧气流量在80～120sccm，膜厚用晶控仪控制，厚度在5～20nm；

5、接着镀调色层，采用si3n4层、sio2层交替组合的2层以上膜系，膜层厚度在5-300nm之间，镀si3n4层的工艺参数设置：靶功率10-12kw,靶电压为400～500v、氩气供气量为200-400sccm,氮气流量在200～300sccm；镀sio2层的工艺参数设置：靶功率12-16kw，靶电压为300～400v，氩气供气量为200-400sccm，氧气供气量为100-200sccm；

6、接着镀氮化碳膜层，氮化碳采用直流或射频溅射的方法，靶材用碳靶或碳硅靶，在高真空的镀膜室充入高纯氮气和氩气，氩气作为辅助溅射气体，流量在200～400sccm，氮气作为反应气体，流量在150～200sccm；

7、最后蒸镀耐磨层，采用电阻加热的方式，将af药丸均匀蒸发到产品的膜层表面，af蒸发的工艺参数：加热电流500-700a，膜层厚度在20～30nm。

8、本发明的进一步技术：

9、优选的，所述cnx层和耐磨层之间设有过渡层。

10、优选的，过渡层采用sio2层，镀sio2层的工艺参数设置：靶功率12-16kw，靶电压为300～400v，氩气供气量为200-400sccm，氧气供气量为100-200sccm，膜层厚度在1～20nm。

11、本发明具有以下有益效果：

12、使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加af耐磨层实现耐磨效果增强。

技术特征：

1.一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；

2.根据权利要求1中所述的一种高耐磨功能薄膜的制备方法，，其特征在于：所述氮化碳层和耐磨层之间设有过渡层。

3.根据权利要求2中所述的一种高耐磨功能薄膜的制备方法，，其特征在于：所述过渡层采用sio2层。

4.根据权利要求3中所述的一种高耐磨功能薄膜的制备方法，，其特征在于：镀sio2层的工艺参数设置：靶功率12-16kw，靶电压为300～400v，氩气供气量为200-400sccm，氧气供气量为100-200sccm，膜层厚度在1～20nm。

技术总结本发明公开了一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio<subgt;2</subgt;层作为打底层，接着镀调色层，采用Si<subgt;3</subgt;N<subgt;4</subgt;层、Sio<subgt;2</subgt;层交替组合的2层以上膜系，接着镀氮化碳膜层，最后蒸镀耐磨层。本发明使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio<subgt;2</subgt;层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。技术研发人员：尤俊衡,李俊华,艾其波,张东东受保护的技术使用者：安徽亦高光电科技有限责任公司技术研发日：技术公布日：2024/9/12