基站水槽结构、基站和清洁设备的制作方法

本技术涉及清洁设备，特别涉及一种基站水槽结构、基站和清洁设备。

背景技术：

1、目前，扫地机器人需要清洁拖布时，要返回基站的清洗槽进行清洁。在相关技术中，基站的清洗槽的污水中含有大量无机物和有机物，附着后很难清洗，长期使用还会滋生细菌，而且长期使用脏污积累会影响后续污水排出，并滋生细菌散发恶臭。

技术实现思路

1、本实用新型提供了一种基站水槽结构、基站和清洁设备以解决上述存在的至少一个技术问题。

2、本实用新型的一种基站水槽结构包括：

3、底座，所述底座设有清洗槽；

4、纳米层，所述纳米层设在所述清洗槽的底面。

5、上述基站水槽结构中，纳米层设在清洗槽的底面，利用纳米层的疏水疏油性，大大减少清洗槽的底面脏污附着量，减缓污水发臭，使清洗槽易于清洁，大大改善用户体验。

6、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述纳米层设在所述清洗槽的周向侧面。

7、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽的周向侧面设有出水孔，所述纳米层设在所述出水孔的孔壁。

8、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述基站水槽结构包括位于所述清洗槽内的第一刮条，所述第一刮条的顶面设有进水槽，所述进水槽连通所述出水孔。

9、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽的周向侧面设有污水孔，所述纳米层设在所述污水孔的孔壁。

10、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽的底面相较于水平面沿所述清洗槽远离所述污水孔的一侧至所述污水孔所在的一侧向下倾斜延伸至所述污水孔。

11、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽内设有过滤件，沿水流方向，所述过滤件位于所述污水孔的上游。

12、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽的周向侧面设有安装孔，所述安装孔配置为提供水满检测装置的安装空间，所述纳米层设在所述安装孔的孔壁。

13、在本实用新型的一种可选技术方案中，所述清洗槽的周向侧面设有出风孔，所述出风孔配置为使热风输入所述清洗槽内，所述纳米层设在所述出风孔的孔壁。

14、本实用新型的一种基站包括上述任一技术方案的基站水槽结构。

15、本实用新型的一种清洁设备包括上述技术方案所述的基站。

16、上述基站和清洁设备中，纳米层设在清洗槽的底面，利用纳米层的疏水疏油性，大大减少清洗槽的底面脏污附着量，减缓污水发臭，使清洗槽易于清洁，大大改善用户体验。

17、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种基站水槽结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基站水槽结构，其特征在于，所述纳米层设在所述清洗槽的周向侧面；和/或，

3.根据权利要求2所述的基站水槽结构，其特征在于，所述基站水槽结构包括位于所述清洗槽内的第一刮条，所述第一刮条的顶面设有进水槽，所述进水槽连通所述出水孔。

4.根据权利要求1所述的基站水槽结构，其特征在于，所述清洗槽的周向侧面设有污水孔，所述纳米层设在所述污水孔的孔壁。

5.根据权利要求4所述的基站水槽结构，其特征在于，所述清洗槽的底面相较于水平面沿所述清洗槽远离所述污水孔的一侧至所述污水孔所在的一侧向下倾斜延伸至所述污水孔。

6.根据权利要求4所述的基站水槽结构，其特征在于，所述清洗槽内设有过滤件，沿水流方向，所述过滤件位于所述污水孔的上游。

7.根据权利要求1所述的基站水槽结构，其特征在于，所述清洗槽的周向侧面设有安装孔，所述安装孔配置为提供水满检测装置的安装空间，所述纳米层设在所述安装孔的孔壁。

8.根据权利要求1所述的基站水槽结构，其特征在于，所述清洗槽的周向侧面设有出风孔，所述出风孔配置为使热风输入所述清洗槽内，所述纳米层设在所述出风孔的孔壁。

9.一种基站，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的基站水槽结构。

10.一种清洁设备，其特征在于，包括权利要求9所述的基站。

技术总结本技术公开了一种基站水槽结构、基站和清洁设备。基站水槽结构包括：底座，所述底座设有清洗槽；纳米层，所述纳米层设在所述清洗槽的底面。上述基站水槽结构中，纳米层设在清洗槽的底面，利用纳米层的疏水疏油性，大大减少清洗槽的底面脏污附着量，减缓污水发臭，使清洗槽易于清洁，大大改善用户体验。技术研发人员：卢盈受保护的技术使用者：深圳市杉川机器人有限公司技术研发日：20231215技术公布日：2024/9/17