超材料及层叠体的制作方法

本发明涉及一种超材料及层叠体。

背景技术：

1、近年来，正在研究将具备基材及由导电性材料等构成且设置于基材表面的图案的超材料适用于频率0.1～10thz(波长为30～3000μ同)的电磁波(以下，还记载为太赫兹频段的电磁波。)用光学元件。

2、例如，在日本特开2021-114647号公报中，公开了一种超材料，其具备超表面基材及设置于超表面基材表面的金属膜的图案。

技术实现思路

1、发明要解决的技术课题

2、日本特开2021-114647号公报中记载的超材料所具备的上述图案对太赫兹频段的电磁波发挥谐振器的作用。对太赫兹频段的电磁波发挥谐振器的作用的部分止于从图案的表面沿厚度方向0.5μm左右的部分，因此，在今后的开发中，从降低成本等观点出发，可预想到要减小图案的厚度。

3、近来，本发明人得到了如下见解：当减小了图案厚度时，图案的刚性降低，温湿度的变化等引起的基材变形导致产生内部应力，从而有可能在图案中产生裂纹。

4、本发明是根据上述见解完成的，本发明的一实施方式所要解决的课题在于提供一种超材料及层叠体，其能够抑制裂纹的产生(以下，还称为裂纹抑制性。)。

5、用于解决技术课题的手段

6、用于解决课题的具体方法如下。

7、<1>一种超材料，其具备基材及设置于上述基材表面的图案，

8、上述图案由导电性材料及从非导体变化成导体的材料中的至少一者构成，上述基材的热膨胀系数为80ppm/k以下。

9、<2>根据上述<1>所述的超材料，其中，

10、上述基材的介电损耗角正切为0.01以下。

11、<3>根据上述<1>或<2>所述的超材料，其中，

12、上述图案的厚度小于5μm。

13、<4>根据上述<1>至<3>中任一项所述的超材料，其中，

14、上述图案的厚度及25℃下的储存弹性模量的乘积与上述基材的厚度及25℃下的储存弹性模量的乘积之比小于10。

15、<5>根据上述<1>至<4>中任一项所述的超材料，其中，

16、上述图案包含多个结构体，且上述结构体为开口环谐振器。

17、<6>根据上述<1>至<5>中任一项所述的超材料，其中，

18、上述图案由上述导电性材料构成，且上述导电性材料包含金属。

19、<7>根据上述<1>至<6>中任一项所述的超材料，其中，

20、上述基材含有选自氟系聚合物及液晶聚合物中的至少1种。

21、<8>一种层叠体，其具备上述<1>至<7>中任一项所述的超材料及设置于上述超材料的上述图案侧表面的有机膜。

22、<9>根据上述<8>所述的层叠体，其中，

23、上述有机膜在温度40℃、相对湿度90％的环境下的透湿度为3000g/(m2·24小时)以下。

24、<10>根据上述<8>或<9>所述的层叠体，其中，

25、上述有机膜含有紫外线吸收剂。

26、发明效果

27、根据本发明的一实施方式，能够提供一种超材料及层叠体，其能够抑制裂纹的产生。

技术特征：

1.一种超材料，其具备基材及设置于所述基材表面的图案，

2.根据权利要求1所述的超材料，其中，

3.根据权利要求1或2所述的超材料，其中，

4.根据权利要求1或2所述的超材料，其中，

5.根据权利要求1或2所述的超材料，其中，

6.根据权利要求1或2所述的超材料，其中，

7.根据权利要求1或2所述的超材料，其中，

8.一种层叠体，其具备权利要求1或2所述的超材料及设置于所述超材料的所述图案侧表面的有机膜。

9.根据权利要求8所述的层叠体，其中，

10.根据权利要求8或9所述的层叠体，其中，

技术总结一种超材料及具备上述超材料的层叠体，上述超材料具备介电损耗角正切为0.01以下的基材及由导电性材料及从非导体变化成导体的材料中的至少一者构成且设置于上述基材表面的图案，且上述基材的热膨胀系数为80ppm/K以下。技术研发人员：佐佐田泰行受保护的技术使用者：富士胶片株式会社技术研发日：技术公布日：2024/9/26