光学层叠体及其制造方法与流程

本发明涉及光学层叠体及其制造方法。

背景技术：

1、作为具有防反射性能的光学层叠体，已知有包含偏振元件和相位差元件的圆偏振板。作为圆偏振板所具备的相位差元件，有时使用具有作为聚合性液晶化合物的聚合物的层的聚合物层的液晶相位差层。液晶相位差层的聚合物层可以通过以下方式得到：在基材层上或形成于基材层的取向层上涂布包含聚合性液晶化合物的组合物而形成涂布层，对该涂布层照射活性能量射线而使聚合性液晶化合物聚合(例如专利文献1)。液晶相位差层在被基材层支撑的状态下贴合于偏振板或其他液晶相位差层等构成光学层叠体的光学膜，然后，将基材层剥离除去。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2020-52365号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、为了应对应用于有机el显示装置等显示装置的光学层叠体的薄型化的要求，有时为了将光学层叠体的各层之间贴合而使用光固化型粘接剂。例如，在将被基材层支撑的液晶相位差层与光学膜借助光固化型粘接剂而层叠的情况下，有时通过从基材层侧进行光照射而使光固化型粘接剂固化后，将基材层剥离除去，由此制造光学层叠体。光学层叠体通常通过一边输送被基材层支撑的液晶相位差层、光学膜一边被制造，剥离基材层而得到的层叠体也一边输送一边被供于制品加工。在这样的制品加工时，有时在剥离基材层而露出的液晶相位差层上产生伤痕。

3、本发明的目的在于提供光学层叠体及其制造方法，所述光学层叠体具备作为光固化型的粘合粘接剂组合物的固化物层的粘合粘接剂层和液晶相位差层，能够抑制在液晶相位差层产生的伤痕。

4、用于解决课题的手段

5、本发明提供以下的光学层叠体及其制造方法。

6、〔1〕一种光学层叠体，其具备粘合粘接剂层和带基材的第1液晶相位差层，

7、上述粘合粘接剂层为光固化型的粘合粘接剂组合物的固化物层，

8、上述带基材的第1液晶相位差层从上述粘合粘接剂层侧起依次具备第1液晶相位差层和第1基材层，

9、上述第1液晶相位差层具有包含聚合性液晶化合物的聚合物的第1聚合物层，

10、上述第1基材层相对于上述第1液晶相位差层而能够剥离，

11、上述带基材的第1液晶相位差层在波长317nm处的透光率tx为20％以上。

12、〔2〕根据〔1〕中记载的光学层叠体，其中，上述第1基材层在波长317nm处的透光率ts为20％以上。

13、〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的光学层叠体，其中，上述第1基材层为膜基材，

14、构成上述膜基材的树脂为三乙酰纤维素。

15、〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述第1基材层的厚度为40μm以下。

16、〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述第1液晶相位差层为正波长色散性。

17、〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述第1液晶相位差层为上述第1聚合物层。

18、〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述粘合粘接剂组合物包含光聚合引发剂，

19、上述粘合粘接剂层中的光聚合引发剂的余量为0.050质量％以下。

20、〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述粘合粘接剂层的厚度为2μm以上。

21、〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项记载光学层叠体，其中，上述粘合粘接剂组合物包含光聚合引发剂，

22、上述光聚合引发剂在波长280nm以上且340nm以下的范围内具有极大吸收波长。

23、〔10〕根据〔1〕～〔9〕中任一项记载光学层叠体，其还在上述粘合粘接剂层的与上述第1液晶相位差层侧相反的一侧具有光学膜。

24、〔11〕根据〔10〕中记载的光学层叠体，其中，上述光学膜包括含有偏振元件的偏振板和第2液晶相位差层中的至少一者，

25、上述第2液晶相位差层具有包含聚合性液晶化合物的聚合物的第2聚合物层。

26、〔12〕根据〔10〕或〔11〕中记载的光学层叠体，其中，上述光学膜的透光率ty与上述带基材的第1液晶相位差层的上述透光率tx相同或比其小。

27、〔13〕一种光学层叠体的制造方法，其为〔1〕～〔12〕中任一项记载光学层叠体的制造方法，所述制造方法包括：

28、工序(s1)，在上述带基材的第1液晶相位差层的上述第1液晶相位差层侧形成上述粘合粘接剂组合物的涂敷层；以及工序(s2)，隔着上述带基材的第1液晶相位差层对上述工序(s1)中形成的上述涂敷层进行光照射，由此形成上述粘合粘接剂层。

29、〔14〕根据〔13〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，上述光为紫外线，

30、在上述工序(s2)中对上述涂敷层照射的上述光的累积光量为10mj/cm2以上且1000mj/cm2以下。

31、发明效果

32、根据本发明，能够提供一种能够抑制在液晶相位差层产生的伤痕的光学层叠体。

技术特征：

1.一种光学层叠体，其具备粘合粘接剂层和带基材的第1液晶相位差层，

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，所述第1基材层在波长317nm处的透光率ts为20％以上。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述第1基材层为膜基材，

4.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述第1基材层的厚度为40μm以下。

5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述第1液晶相位差层为正波长色散性。

6.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述第1液晶相位差层为所述第1聚合物层。

7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述粘合粘接剂组合物包含光聚合引发剂，

8.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述粘合粘接剂层的厚度为2μm以上。

9.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述粘合粘接剂组合物包含光聚合引发剂，

10.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其还在所述粘合粘接剂层的与所述第1液晶相位差层侧相反的一侧具有光学膜。

11.根据权利要求10所述的光学层叠体，其中，所述光学膜含有包含偏振元件的偏振板和第2液晶相位差层中的至少一者，

12.根据权利要求10所述的光学层叠体，其中，所述光学膜的透光率ty与所述带基材的第1液晶相位差层的所述透光率tx相同或比其小。

13.一种光学层叠体的制造方法，其为权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，所述制造方法包括：

14.根据权利要求13所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光为紫外线，

技术总结本发明提供光学层叠体及其制造方法。所述光学层叠体能够抑制在液晶相位差层产生的伤痕。光学层叠体具备粘合粘接剂层和带基材的第1液晶相位差层。粘合粘接剂层为光固化型的粘合粘接剂组合物的固化物层。带基材的第1液晶相位差层从粘合粘接剂层侧起依次具备第1液晶相位差层和第1基材层。第1液晶相位差层具有包含聚合性液晶化合物的聚合物的第1聚合物层。第1基材层相对于第1液晶相位差层而能够剥离。带基材的第1液晶相位差层在波长317nm处的透光率Tx为20％以上。技术研发人员：祖父江彰二,松野健次,斋藤宗祐,川上武志受保护的技术使用者：住友化学株式会社技术研发日：技术公布日：2024/10/10