一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备的制作方法

本发明属于半导体，更具体地，涉及一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备。

背景技术：

1、在半导体集成电路单片清洗设备领域中，湿法清洗设备完成工艺清洗后的液体，包括清洗液和药液等，需要通过排液系统排放到厂务中。如果半导体清洗设备的排液系统不完善，废弃的药液残留在管路中，管路将很可能会滋生结晶物与细菌，影响清洗效果；因此，排液系统在清洗设备中占有举足轻重的地位。

2、现有的半导体清洗设备的排液系统，一个排液盒只能排放特定ph属性的液体，对于不同ph属性的液体，就需要设计多个满足不同ph属性药液的排液盒进行分开排放，并且需要多根排液管，管路错杂繁多，将会占用较大的设备内部空间；对于空间有限的清洗设备而言，不利于排液管的布局。

技术实现思路

1、本发明的目的是针对现有技术中存在的不足，提供一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备，解决现有的排液系统针对不同ph属性的液体需要设置不同的排液盒进行分开排放，排液盒和排液管数量繁多，占用空间大，不利于排液管的布局的问题。

2、为了实现上述目的，本发明提供一种用于半导体清洗设备的排液系统，包括：

3、排液盒，所述排液盒上设置有至少一个进液口和至少一个出液口，所述进液口用于与半导体清洗设备的排液管路连接，所述出液口用于连接出液管路；

4、ph传感器，用于检测所述半导体清洗设备排出的液体的ph值；

5、中和液供应组件，与所述排液盒连接；

6、控制单元，所述控制单元用于根据所述ph值控制所述中和液供应组件向所述排液盒内供应中和液。

7、可选地，所述排液系统还包括温度传感器和冷却组件，所述温度传感器用于检测所述半导体清洗设备排出的液体的温度值，所述冷却组件设置在所述排液盒内，所述控制单元根据所述温度值控制所述冷却组件的运行。

8、可选地，所述进液口设置有一个，所述半导体清洗设备的多个清洗区上分别设置有至少一个所述排液管路，多个所述排液管路与汇流管路连接，并通过所述汇流管路与所述进液口连接。

9、可选地，所述温度传感器包括第一温度传感器和第二温度传感器；

10、所述第一温度传感器设置在所述汇流管路上，并用于检测所述汇流管路内的液体的第一温度值；

11、所述第二温度传感器设置在所述排液盒上，并用于检测所述排液盒内的液体的第二温度值；

12、所述控制单元在所述第一温度值大于设定温度值和/或在所述第二温度值大于设定温度值时控制所述冷却组件启动，使得所述排液盒内的温度不大于所述设定温度值。

13、可选地，所述ph传感器包括第一ph传感器和第二ph传感器；

14、所述第一ph传感器设置在所述汇流管路上，并用于检测所述汇流管路内的液体的第一ph值；

15、所述第二ph传感器设置在所述排液盒上，并用于检测所述排液盒内的液体的第二ph值。

16、可选地，还包括粘度传感器，所述粘度传感器用于检测所述半导体清洗设备排出的液体的粘度值，所述粘度值用于判断所述液体是否为有机液体。

17、可选地，所述出液管路包括分别连接一个所述出液口的碱性液体出液管路、酸性液体出液管路和有机液体出液管路；

18、所述控制单元根据所述第一ph值控制所述中和液供应组件向所述排液盒内供应中和液，直至所述第二ph值处于第一阈值范围内时，控制中和后的液体根据所述第二ph值由所述碱性液体出液管路或所述酸性液体出液管路排出；

19、所述控制单元在所述粘度值大于设定粘度值时控制所述液体由所述有机液体出液管路排出。

20、可选地，所述用于半导体清洗设备的排液系统还包括清洁组件，所述清洁组件包括：

21、结晶物厚度检测部件，设置在所述排液盒内，用于检测所述排液盒内壁上的结晶物的厚度值；

22、冲洗部件，与所述排液盒连接，所述冲洗部件用于根据所述厚度值对所述排液盒的内壁进行冲洗。

23、可选地，所述冲洗部件包括储液罐，所述储液罐用于储存清洗液，所述储液罐上连接有冲洗管路，所述冲洗管路延伸至所述排液盒的内部，并用于传输所述清洗液对所述排液盒的内壁进行冲洗。

24、可选地，所述结晶物厚度检测部件包括设置在所述排液盒的底板上的电容传感器，所述电容传感器的触发片与所述底板之间的距离为第一设定值，所述结晶物触发所述触发片时所述控制单元控制所述冲洗部件对所述排液盒的内壁冲洗设定时长。

25、可选地，其中一个所述出液口上连接有清洗液出液管路，所述控制单元在所述冲洗部件对所述排液盒的内壁的冲洗时长达到所述设定时长时控制所述排液盒内的清洗液由所述清洗液出液管路排出。

26、可选地，所述中和液供应组件包括分别用于储存碱性中和液和酸性中和液的碱性中和液储罐和酸性中和液储罐，所述碱性中和液储罐和所述酸性中和液储罐分别通过第一连接管路和第二连接管路连接有第一喷洒部件和第二喷洒部件，所述第一连接管路和所述第二连接管路上分别设置有第一控制部件和第二控制部件，所述第一控制部件和所述第二控制部件分别用于控制所述第一连接管路和所述第二连接管路的通断。

27、可选地，所述冷却组件包括冷却液储罐、冷却液输入管路、冷却液输出管路和冷却箱体，所述冷却箱体的内部设置有第一冷却腔，所述冷却箱体的顶面上设置有多个格栅板，多个所述格栅板并排间隔排列，所述格栅板内设置有与所述第一冷却腔连通的第二冷却腔，所述冷却液输入管路和所述冷却液输出管路连接所述冷却箱体。

28、可选地，所述冷却箱体的底面与所述排液盒的底板连接，所述格栅板的高度为所述冷却箱体的顶面与所述排液盒的顶板之间的距离的三分之二；每个所述格栅板的中部设置有至少一个缝隙，所述缝隙的总宽度不小于所述排液盒的内部宽度的三分之一。

29、本发明还提供一种半导体清洗设备，包括：

30、多个清洗区；

31、上述的用于半导体清洗设备的排液系统；

32、所述用于半导体清洗设备的排液系统通过排液管路与多个所述清洗区连接。

33、本发明提供一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备，其有益效果在于：该排液系统通过ph传感器能够检测液体的ph值，判断液体的酸碱性，进而根据液体的酸碱性控制中和液供应组件向排液盒内供应中和液，使得排液盒内的液体的ph值达到排放标准，该排液系统仅通过一个排液盒即可实现对半导体清洗设备的不同ph属性的液体的排液，减少了排液盒和排液管的数量，减小占用的空间，有利于排液管的布局。

34、本发明的其它特征和优点将在随后具体实施方式部分予以详细说明。

技术特征：

1.一种用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述排液系统还包括温度传感器和冷却组件，所述温度传感器用于检测所述半导体清洗设备排出的液体的温度值，所述冷却组件设置在所述排液盒内，所述控制单元根据所述温度值控制所述冷却组件的运行。

3.根据权利要求2所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述进液口设置有一个，所述半导体清洗设备的多个清洗区上分别设置有至少一个所述排液管路，多个所述排液管路与汇流管路连接，并通过所述汇流管路与所述进液口连接。

4.根据权利要求3所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述温度传感器包括第一温度传感器和第二温度传感器；

5.根据权利要求3所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述ph传感器包括第一ph传感器和第二ph传感器；

6.根据权利要求5所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，还包括粘度传感器，所述粘度传感器用于检测所述半导体清洗设备排出的液体的粘度值，所述粘度值用于判断所述液体是否为有机液体。

7.根据权利要求6所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述出液管路包括分别连接一个所述出液口的碱性液体出液管路、酸性液体出液管路和有机液体出液管路；

8.根据权利要求1所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述用于半导体清洗设备的排液系统还包括清洁组件，所述清洁组件包括：

9.根据权利要求8所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述冲洗部件包括储液罐，所述储液罐用于储存清洗液，所述储液罐上连接有冲洗管路，所述冲洗管路延伸至所述排液盒的内部，并用于传输所述清洗液对所述排液盒的内壁进行冲洗。

10.根据权利要求9所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述结晶物厚度检测部件包括设置在所述排液盒的底板上的电容传感器，所述电容传感器的触发片与所述底板之间的距离为第一设定值，所述结晶物触发所述触发片时所述控制单元控制所述冲洗部件对所述排液盒的内壁冲洗设定时长。

11.根据权利要求10所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，其中一个所述出液口上连接有清洗液出液管路，所述控制单元在所述冲洗部件对所述排液盒的内壁的冲洗时长达到所述设定时长时控制所述排液盒内的清洗液由所述清洗液出液管路排出。

12.根据权利要求1所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述中和液供应组件包括分别用于储存碱性中和液和酸性中和液的碱性中和液储罐和酸性中和液储罐，所述碱性中和液储罐和所述酸性中和液储罐分别通过第一连接管路和第二连接管路连接有第一喷洒部件和第二喷洒部件，所述第一连接管路和所述第二连接管路上分别设置有第一控制部件和第二控制部件，所述第一控制部件和所述第二控制部件分别用于控制所述第一连接管路和所述第二连接管路的通断。

13.根据权利要求1所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述冷却组件包括冷却液储罐、冷却液输入管路、冷却液输出管路和冷却箱体，所述冷却箱体的内部设置有第一冷却腔，所述冷却箱体的顶面上设置有多个格栅板，多个所述格栅板并排间隔排列，所述格栅板内设置有与所述第一冷却腔连通的第二冷却腔，所述冷却液输入管路和所述冷却液输出管路连接所述冷却箱体。

14.根据权利要求13所述的用于半导体清洗设备的排液系统，其特征在于，所述冷却箱体的底面与所述排液盒的底板连接，所述格栅板的高度为所述冷却箱体的顶面与所述排液盒的顶板之间的距离的三分之二；每个所述格栅板的中部设置有至少一个缝隙，所述缝隙的总宽度不小于所述排液盒的内部宽度的三分之一。

15.一种半导体清洗设备，其特征在于，包括：

技术总结本发明提供一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备，涉及半导体技术领域，包括：排液盒，排液盒上设置有至少一个进液口和至少一个出液口，进液口用于与半导体清洗设备的排液管路连接，出液口用于连接出液管路；PH传感器，用于检测半导体清洗设备排出的液体的PH值；中和液供应组件，与排液盒连接；控制单元，控制单元用于根据PH值控制中和液供应组件向排液盒内供应中和液；解决现有的排液系统针对不同PH属性的液体需要设置不同的排液盒进行分开排放，排液盒和排液管数量繁多，占用空间大，不利于排液管的布局的问题。技术研发人员：郑洪,许璐,赵宏宇,陈忠明,李欢受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司技术研发日：技术公布日：2024/10/17