一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺的制作方法

本发明涉及硅片清洗，具体为一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺。

背景技术：

1、硅片在进行加工的过程中，由于硅原子非常容易在含有氧气及水的环境下被氧化形成自然氧化层较薄，该氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着，例如公开号为cn111613554b所公开的硅片清洗机，该申请通过将硅片放在清洗篮内进行清洗，虽然能够降低硅片相互碰撞而刮伤的风险，但是仍然存在着氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着的问题，因此提出一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本发明提供了一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，解决了硅片在进行加工的过程中，由于硅原子非常容易在含有氧气及水的环境下被氧化形成自然氧化层较薄，该氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着的问题。

2、为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池、连通在清洗池上的液位仪，所述清洗池的侧壁上通过安装板固定有电动推杆，所述电动推杆的顶部固定有支撑柱，所述支撑柱的底部设置有盛放网，所述盛放网的内部侧壁上固定有固定夹，所述支撑柱上设置有用于连接盛放网的连接组件以及驱动盛放网转动的动力组件，所述连接组件中包括：

3、活动轴，固定在支撑柱的底部用于给连接组件中的其他零件提供支撑，所述活动轴内滑动穿设有固定座；

4、连接杆，固定在固定座的底部用于给盛放网提供支撑力，所述连接杆的一端固定在盛放网的顶部。

5、优选的，所述活动轴内穿设有横杆，所述横杆内固定有弹簧，所述弹簧的一端固定有凸块。

6、优选的，所述凸块的一端从横杆内滑动穿出，所述凸块的侧壁上固定有连杆，所述凸块的另一侧壁上固定有推杆，所述推杆的一端从横杆内滑动穿出。

7、优选的，所述支撑柱的侧壁上通过电机箱固定有包括在动力组件内的动力电机，所述动力电机的输出端上固定有输出轴，所述输出轴的底部固定有齿轮，所述齿轮上啮合有齿环。

8、优选的，所述齿环内滑动穿设有导向杆，所述导向杆的一端固定在支撑柱上，所述齿环的底部固定有滑动杆，所述滑动杆的侧壁滑动抵接在连接杆的侧壁上。

9、优选的，所述支撑柱的侧壁上固定有支撑杆，所述支撑杆的底部固定有过滤网，所述过滤网位于盛放网的下方，所述清洗池的侧壁上固定有支撑板，所述支撑板的侧壁上固定有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的一端固定有推板，所述推板与过滤网之间滑动适配。

10、本发明还提供了适用于一种提升最终洗净后表面颗粒的设备的清洗工艺，包括以下步骤：

11、s1、将清洗池内灌入适量的dhf清洗液，将待清洗的硅片通过固定夹安装在盛放网内；

12、s2、通过启动电动推杆使盛放网浸入dhf清洗液内；

13、s3、通过动力组件驱动浸入dhf溶液内的盛放网转动；

14、s4、再次启动电动推杆将盛放网从清洗池内取出；

15、s5、将清洗后的硅片从固定夹上取出并更换下一组待清洗的硅片。

16、优选的，所述盛放网浸入dhf清洗液内的时间位于5-15min之间，所述盛放网的转速位于3s/r-6s/r之间。

17、本发明提供了一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺。与现有技术相比具备以下有益效果：

18、(1)、该提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，通过设置清洗池、液位仪、电动推杆、支撑柱、盛放网、固定夹，通过启动电动推杆带动支撑柱下移，支撑柱带动盛放网下移，盛放网带动固定夹下移，使带清洗的硅片浸入清洗池内，通过清洗池内的dhf清洗液将表面生成的自然氧化膜腐蚀掉，有效地去除氧化物，并保持硅片表面的平整度和光洁度，提高产品的质量，通过液位仪对清洗池内的dhf清洗液存量进行显示，在dhf清洗液不足时及时添加。

19、(2)、该提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，通过设置活动轴、固定座、连接杆、横杆、弹簧、凸块、连杆、推杆、动力电机、输出轴、齿轮、齿环、导向杆、滑动杆，动力电机驱动连接组件转动，从而使得装有待清洗硅片的盛放网转动，通过盛放网在清洗池内转动，使得硅片能够在清洗池内缓慢旋转，从而使dhf清洗液与硅片之间充分接触，将硅片表面生成的自然氧化膜腐蚀掉，有效地去除氧化物，并保持硅片表面的平整度和光洁度，提高产品的质量。

20、(3)、该提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，通过设置过滤网、支撑杆、推板、电动伸缩杆、支撑板，在完成对这一批硅片的清洗后，当过滤网移至与清洗池顶水平位置后，启动电动伸缩杆，通过电动伸缩杆带动推板移动，通过推板将过滤网表面滤除的颗粒物进行去除，保持清洗池内dhf清洗液的洁净程度。

技术特征：

1.一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池(1)、连通在清洗池(1)上的液位仪(12)，其特征在于：所述清洗池(1)的侧壁上通过安装板固定有电动推杆(13)，所述电动推杆(13)的顶部固定有支撑柱(14)，所述支撑柱(14)的底部设置有盛放网(15)，所述盛放网(15)的内部侧壁上固定有固定夹(16)，所述支撑柱(14)上设置有用于连接盛放网(15)的连接组件以及驱动盛放网(15)转动的动力组件，所述连接组件中包括：

2.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述活动轴(2)内穿设有横杆(23)，所述横杆(23)内固定有弹簧(24)，所述弹簧(24)的一端固定有凸块(25)。

3.根据权利要求2所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述凸块(25)的一端从横杆(23)内滑动穿出，所述凸块(25)的侧壁上固定有连杆(26)，所述凸块(25)的另一侧壁上固定有推杆(27)，所述推杆(27)的一端从横杆(23)内滑动穿出。

4.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述支撑柱(14)的侧壁上通过电机箱固定有包括在动力组件内的动力电机(3)，所述动力电机(3)的输出端上固定有输出轴(31)，所述输出轴(31)的底部固定有齿轮(32)，所述齿轮(32)上啮合有齿环(33)。

5.根据权利要求4所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述齿环(33)内滑动穿设有导向杆(34)，所述导向杆(34)的一端固定在支撑柱(14)上，所述齿环(33)的底部固定有滑动杆(35)，所述滑动杆(35)的侧壁滑动抵接在连接杆(22)的侧壁上。

6.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述支撑柱(14)的侧壁上固定有支撑杆(41)，所述支撑杆(41)的底部固定有过滤网(4)，所述过滤网(4)位于盛放网(15)的下方，所述清洗池(1)的侧壁上固定有支撑板(44)，所述支撑板(44)的侧壁上固定有电动伸缩杆(43)，所述电动伸缩杆(43)的一端固定有推板(42)，所述推板(42)与过滤网(4)之间滑动适配。

7.适用于权利要求1-6任意一项所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤：

8.根据权利要求7所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备的清洗工艺，其特征在于：所述盛放网(15)浸入dhf清洗液内的时间位于5-15min之间，所述盛放网(15)的转速位于3s/r-6s/r之间。

技术总结本发明公开了一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，本发明涉及硅片清洗技术领域。该提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，包括清洗池、连通在清洗池上的液位仪，所述清洗池的侧壁上通过安装板固定有电动推杆，所述电动推杆的顶部固定有支撑柱，所述支撑柱的底部设置有盛放网，所述盛放网的内部侧壁上固定有固定夹，所述支撑柱上设置有用于连接盛放网的连接组件以及驱动盛放网转动的动力组件，所述连接组件中包括：活动轴，固定在支撑柱的底部用于给连接组件中的其他零件提供支撑；使DHF清洗液与硅片之间充分接触，将硅片表面生成的自然氧化膜腐蚀掉，有效地去除氧化物，并保持硅片表面的平整度和光洁度，提高产品的质量。技术研发人员：朱墨涵受保护的技术使用者：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/11/4