技术新讯 > 金属材料,冶金,铸造,磨削,抛光设备的制造及处理,应用技术 > 研磨设备及研磨方法与流程  >  正文

研磨设备及研磨方法与流程

  • 国知局
  • 2024-12-06 12:32:31

本申请涉及显示,特别是涉及一种研磨设备及研磨方法。

背景技术:

1、显示模组生产过程中,盖板容易划伤,显示模组的使用效果可能受到影响。对于盖板划伤的显示模组,需要对盖板进行修复,修复过程一般包括:退镀(将盖板表面抗指纹涂层打掉)、研磨(将划伤位置打磨平整)、清洁、镀膜(重新喷涂抗指纹涂层)、烘烤等步骤。其中,现有的研磨过程会导致显示模组发生损坏。

技术实现思路

1、本申请提供一种研磨设备及研磨方法,可以实现只对产品的待研磨区域进行研磨,避免研磨过程中产品的其他区域被污染。

2、为解决上述问题,本申请提供的第一个技术方案是提供一种研磨设备,所述研磨设备包括:基座,所述基座用于放置产品,所述产品的表面包括待研磨区域;盖膜机构,所述盖膜机构对应所述基座设置,所述盖膜机构用于固定密封膜,所述盖膜机构还用于传动所述密封膜,以使所述密封膜覆盖所述产品或与所述产品分离,其中,所述密封膜设有一开口,当所述密封膜覆盖在所述产品上时,所述待研磨区域自所述开口中裸露;研磨机构,所述研磨机构对应所述基座设置,所述研磨机构用于透过所述密封膜上的所述开口对所述产品进行研磨。

3、在一种可能的实施方式中,所述盖膜机构包括位于所述基座至少相对两侧的牵引部以及驱动所述牵引部的驱动件,所述牵引部用于固定密封膜的至少两侧,所述驱动件用于驱动所述牵引部朝向或背离所述基座运动;优选地,所述牵引部配置成盖膜时沿预设方向移动直至低于所述基座的支撑面,以使所述密封膜覆盖所述产品时处于弯折状态。

4、在一种可能的实施方式中,所述研磨设备还包括:翻转机构,所述翻转机构连接所述基座、所述盖膜机构,所述翻转机构用于驱动所述基座以及所述盖膜机构翻转,以使所述产品的被覆盖面朝向地面。

5、在一种可能的实施方式中,所述研磨设备还包括:固定装置,所述固定装置设置在所述基座上,所述固定装置用于将所述产品固定在所述基座上;优选地,所述固定装置为真空吸盘、气动吸盘、粘胶固定装置中的至少一种;优选地,所述固定装置的数量为多个。

6、在一种可能的实施方式中,所述密封膜为硅胶膜、聚氨酯膜中的至少一种;优选地,所述密封膜的硬度小于邵氏30度;优选地,所述密封膜的厚度小于2毫米;优选地,所述密封膜的撕裂强度大于30牛顿/毫米。

7、在一种可能的实施方式中,所述研磨机构包括研磨盘以及驱动装置,所述研磨盘用于对所述产品进行研磨,所述驱动装置用于驱动所述研磨盘运动;优选地,所述研磨机构还包括研磨液输送装置,用于输送研磨液;优选地,所述研磨盘的尺寸范围为1毫米至4毫米。

8、在一种可能的实施方式中,所述研磨设备还包括:清洁干燥装置,所述清洁干燥装置对应所述基座设置,所述清洁干燥装置用于对研磨后的所述产品进行清洁与干燥;优选地,所述清洁干燥装置包括风刀机构。

9、为解决上述问题,本申请提供的第二个技术方案是提供一种研磨方法,应用于上述任一研磨设备;该研磨方法包括:将产品放置在所述基座上;通过所述盖膜机构传动所述密封膜,使密封膜覆盖所述产品;控制所述研磨机构透过所述密封膜上的开口对所述产品进行研磨。

10、在一种可能的实施方式中,所述研磨机构透过所述密封膜上的开口对所述产品进行研磨的步骤前,还包括:通过所述翻转机构驱动所述基座以及所述盖膜机构翻转,使所述产品的被覆盖面朝向地面;优选地,所述盖膜机构包括位于所述基座至少相对两侧的牵引部,所述通过所述盖膜机构传动所述密封膜,使密封膜覆盖所述产品的步骤,包括:在控制所述牵引部固定所述密封膜的至少两侧之后,驱动所述牵引部朝向所述基座运动,直至所述牵引部低于所述基座的支撑面。

11、在一种可能的实施方式中,所述研磨机构透过所述密封膜上的开口对所述产品进行研磨的步骤后,还包括:控制所述清洁干燥装置对研磨后的所述产品进行清洁与干燥;通过所述翻转机构驱动所述基座以及所述盖膜机构再次翻转,使所述产品被覆盖面背向地面;控制所述盖膜机构将所述密封膜从所述产品上分离。

12、有益效果是:本申请设置密封膜接触式覆盖在产品上,只露出产品的待研磨区域,从而可以实现只对产品的待研磨区域进行研磨,避免研磨过程中产品的其他区域被污染。特别的是,当产品为显示模组时,本申请使密封膜接触式覆盖在显示模组上,保证显示模组的边缘区域也能被密封膜密封覆盖,对全面屏、窄边框、无边框的显示模组也能起到密封显示模组待研磨面的作用。密封膜具有开口,当密封膜覆盖在显示模组上时,显示模组需要研磨的区域从密封膜上的开口漏出,研磨机构可以透过开口对显示模组的待研磨区域进行研磨,在研磨过程中研磨液只存在于显示模组需研磨的区域,其他被密封膜接触覆盖的区域,研磨液无法进入,从而可以避免其他区域被污染。

13、附图说明

14、为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:

15、图1是本申请研磨设备一实施例的俯视结构示意图;

16、图2是图1研磨设备在盖膜机构盖膜前沿aa截面的截面结构示意图;

17、图3是图1研磨设备在盖膜机构盖膜后沿aa截面的截面结构示意图;

18、图4是图1研磨设备在盖膜并翻转后沿aa截面的截面结构示意图;

19、图5是本申请研磨方法一实施方式的流程示意图;

20、图6是图5中s11一实施方式的流程示意图。

技术特征:

1.一种研磨设备,其特征在于,所述研磨设备包括:

2.根据权利要求1所述的研磨设备,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的研磨设备,其特征在于,所述研磨设备还包括:

4.根据权利要求1或3所述的研磨设备,其特征在于,所述研磨设备还包括:

5.根据权利要求1所述的研磨设备,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的研磨设备,其特征在于,

7.根据权利要求1所述的研磨设备,其特征在于,所述研磨设备还包括:

8.一种研磨方法,应用于权利要求1-7任一项所述的研磨设备,其特征在于,所述研磨方法包括:

9.根据权利要求8所述的研磨方法,其特征在于,所述研磨机构透过所述密封膜上的开口对所述产品进行研磨的步骤前,还包括:

10.根据权利要求8所述的研磨方法,其特征在于,所述研磨机构透过所述密封膜上的开口对所述产品进行研磨的步骤后,还包括:

技术总结本申请公开了一种研磨设备及研磨方法,研磨设备包括基座、盖膜机构以及研磨机构。基座用于放置产品;产品的表面包括待研磨区域。盖膜机构对应基座设置,盖膜机构用于固定密封膜,盖膜机构还用于传动密封膜,以使密封膜覆盖产品或与产品分离,其中,密封膜设有一开口,当密封膜覆盖在产品上时,待研磨区域自开口中裸露;研磨机构对应基座设置,研磨机构用于透过密封膜上的开口对产品进行研磨。上述设置可以实现只对产品的待研磨区域进行研磨,避免研磨过程中产品的其他区域被污染。技术研发人员:付金东受保护的技术使用者:霸州市云谷电子科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/12/2

本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20241204/341999.html

版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 YYfuon@163.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。