一种多工艺镀膜设备及其方法与流程

本发明涉及镀膜设备，并且更具体地，涉及一种多工艺镀膜设备及其方法。

背景技术：

1、目前市场上主流的镀膜设备采用化学气相沉积法技术，其原理是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解而在基体上形成薄膜。常用的设备为pecvd，该设备是使反应气体在辉光放电等离子体中受激分解成具有高反应活性的物质，这些物质在基低表面上发生化学反应沉积生产薄膜。

2、然而，当前pecvd技术设备存在如下缺点：(1)沉积薄膜速度慢；(2)工艺过程中容易生产颗粒，影响镀膜质量；(3)镀膜过程中有等离子体产生，影响镀膜质量。

3、因此，现有技术有待改进，亟需设计一种新型的镀膜设备。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本发明的目的是提供一种多工艺镀膜设备及其方法。本发明的设计在镀膜过程中不会产生等离子体，沉积薄膜质量高，同时不会有有害气体产生。

2、为了解决上述技术问题或实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

3、根据本发明的一方面，提供一种多工艺镀膜设备，包括：

4、进料腔；

5、加热腔，该加热腔的入口与进料腔的出口可操作地连通；

6、多个工艺腔，多个工艺腔串联可操作地连通，并且首个工艺腔的入口与加热腔的出口可操作地连通；

7、出料腔，该出料腔的入口与最后一个工艺腔的出口可操作地连通；

8、真空系统，该真空系统与进料腔、加热腔、多个工艺腔和出料腔可操作地连通。

9、在本发明的一个实施例中，该多工艺镀膜设备还包括：

10、上料架，该上料架可操作地连通到进料腔的入口并将待镀膜的载板输送至进料腔中；

11、下料架，该下料架可操作地连通到出料腔的出口并将镀膜后的载板输送至所需位置。

12、在本发明的一个实施例中，上料架通过驱动机构自动化操作或人工操作将待镀膜的载板输送至进料腔中，并且下料架通过驱动机构自动化操作或人工操作将镀膜后的载板输送至所需位置。

13、在本发明的一个实施例中，上料架、进料腔、加热腔、多个工艺腔、出料腔以及下料架之间互相通过隔离机构可操作地连通。

14、在本发明的一个实施例中，隔离机构包括插板阀和/或翻板阀。

15、在本发明的一个实施例中，进料腔、加热腔、多个工艺腔和出料腔的组件均包括：

16、下机架，该下机架固定在地面上；

17、腔体，该腔体固定在下机架上；

18、托盘输送组件，该托盘输送组件固定在腔体上并且承载输送相应的载板。

19、在本发明的一个实施例中，下机架通过脚杯安装固定在地面上，腔体通过螺丝与顶丝组合的调平固定在下机架上，托盘输送组件通过螺丝与顶丝组合的调平固定在腔体上。

20、在本发明的一个实施例中，上料架和下料架均包括：

21、下框架，该下框架固定在地面上；

22、上框架，该上框架固定在下框架上；

23、托盘输送组件，托盘输送组件固定在上框架上并且承载输送相应的载板。

24、在本发明的一个实施例中，下框架通过脚杯安装固定在地面上，上框架通过螺丝与顶丝组合的调平固定在下框架上，托盘输送组件通过螺丝与顶丝组合的调平固定在上框架上。

25、在本发明的一个实施例中，真空系统包括干泵和分子泵中的任一个或其组合。

26、在本发明的一个实施例中，当真空系统包括干泵和分子泵两者时，进料腔和出料腔仅与干泵可操作地连通，加热腔和多个工艺腔与干泵和分子泵的组合可操作地连通，并且干泵与分子泵的排气口相连通，分子泵通过角阀与相应的腔连接。

27、在本发明的一个实施例中，干泵通过第一挡板阀对相应的腔内真空度进行控制，并且分子泵通过第二挡板阀对相应的腔内真空度进行控制。

28、在本发明的一个实施例中，每个工艺腔内设置有可调节热丝结构，可调节热丝结构调节与载板衬底的距离来调节载板的温度。

29、在本发明的一个实施例中，可调节热丝结构包括：

30、热丝固定座；

31、热丝夹头，该热丝夹头上设置有热丝调节支座；

32、电极模块，该电极模块连接在热丝夹头上；

33、热丝，该热丝的一端通过热丝连接块连接在热丝固定座上并且另一端连接在热丝调节支座上，热丝、热丝连接块以及热丝固定座一起移动使得热丝处于热丝调节支座上的不同位置，调节热丝与载板衬底之间的距离。

34、在本发明的一个实施例中，多个工艺腔对同一载板连续进行镀膜，或者多个工艺对多个载板相继地进行镀膜。

35、根据本发明的另一方面，提供一种多工艺镀膜方法，该多工艺镀膜方法采用如前所述的多工艺镀膜设备来实现，多工艺镀膜方法包括以下步骤：

36、通过真空系统对进料腔、加热腔、多个工艺腔和出料腔进行抽真空处理；

37、响应于真空处理达到预设气压之后，使进料腔内的载板依次进入加热腔和多个工艺腔进行镀膜处理；

38、在最后一个工艺腔处理结束后，使镀膜后的载板进入到出料腔中并破真空后出料。

39、在本发明的一个实施例中，该多工艺镀膜方法还包括：

40、通过上料架将待镀膜的载板输送至进料腔内；

41、通过下料架将镀膜后的载板输送至所需位置。

42、本发明提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点：

43、本发明的结构方案布局简单、使用方便。本发明可以实现连续镀膜，使用效率高。本发明可以支持一次沉积三种以上镀膜工艺，具备上下料便捷、热丝到载板间距可调、镀膜速度快、镀膜质量高等特点，并且本发明在镀膜过程中不会产生等离子体，沉积薄膜质量高，同时不会产生有害气体。

技术特征：

1.一种多工艺镀膜设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，还包括：

3.根据权利要1所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，所述进料腔、所述加热腔、多个所述工艺腔和所述出料腔的组件均包括：

4.根据权利要求2所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，所述上料架和所述下料架均包括：

5.根据权利要求1所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，所述真空系统包括干泵和分子泵中的任一个或其组合。

6.根据权利要求5所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，当所述真空系统包括干泵和分子泵两者时，所述进料腔和所述出料腔仅与所述干泵可操作地连通，所述加热腔和多个所述工艺腔与所述干泵和所述分子泵的组合可操作地连通，并且所述干泵与所述分子泵的排气口相连通，所述分子泵通过角阀与相应的腔连接。

7.根据权利要求1所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，每个所述工艺腔内设置有可调节热丝结构，所述可调节热丝结构调节与载板衬底的距离来调节载板的温度。

8.根据权利要求7所述的多工艺镀膜设备，其特征在于，所述可调节热丝结构包括：

9.一种多工艺镀膜方法，其特征在于，所述多工艺镀膜方法采用如前述权利要求1-8中任一项所述的多工艺镀膜设备来实现，所述多工艺镀膜方法包括以下步骤：

10.根据权利要求9所述的多工艺镀膜方法，其特征在于，还包括：

技术总结本申请涉一种多工艺镀膜设备，包括：进料腔；加热腔，该加热腔的入口与进料腔的出口可操作地连通；多个工艺腔，多个工艺腔串联可操作地连通，并且首个工艺腔的入口与加热腔的出口可操作地连通；出料腔，该出料腔的入口与最后一个工艺腔的出口可操作地连通；真空系统，该真空系统与进料腔、加热腔、多个工艺腔和出料腔可操作地连通。此外，本发明还涉及一种采用该多工艺镀膜设备进行镀膜的方法。本发明可以支持一次沉积三种以上镀膜工艺，具备上下料便捷、镀膜速度快、镀膜质量高等特点，并且本发明在镀膜过程中不会产生等离子体，沉积薄膜质量高，同时不会产生有害气体。技术研发人员：黄海宾,刘翠翠,刘峰学,彭文和受保护的技术使用者：江苏汉可智能装备有限公司技术研发日：技术公布日：2025/1/6