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EEPROM器件的制作方法
本申请涉及半导体,尤其涉及一种eeprom器件。背景技术:1、在制备eeprom器件的工艺过程中,随着器件单元的不断缩小,如从0.18um缩小至0.15um,甚至是95nm,进而调节器件内在写操作或擦......
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EEPROM电路的制作方法
本发明涉及半导体集成电路领域,特别是涉及一种eeprom电路。背景技术:1、如图1所示,是现有eeprom的存储单元101的电路结构示意图;如图2所示,是现有eeprom的存储单元101的剖面结构示意......