防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法与流程

本发明涉及防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法。

背景技术：

1、已知在电子部件、印刷基板、显示面板等物体的表面涂布感光性物质并曝光成图案状，从而形成图案的技术(即，光刻法)。光刻法中，使用在一面形成有图案的透明基板。该透明基板被称为光掩模(以下，也称为“原版”。)。光掩模上会贴附防护膜组件以防止尘埃等异物附着于光掩模的表面。

2、近年来，随着曝光图案的高精细化的发展，作为曝光的光源，正在扩大利用更短波长的euv(extreme ultra violet：极紫外)光来代替duv(deep ultra violet：远紫外)光。

3、专利文献1公开了一种防护膜组件，其不进行表面改性剂等化合物的添加等，且防护膜组件剥离后的残渣少。专利文献1中公开的防护膜组件具备防护膜组件框架、防护膜以及防护膜组件用粘着剂。防护膜铺设在防护膜组件框架的上端面。防护膜组件用粘着剂附着在防护膜组件框架的下端面。防护膜组件用粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比在预定范围内。

4、专利文献2公开了为了防止雾度而使粘着层的聚合引发剂为8ppm以下，并且记载了为了表现出对于掩模的适度的粘接力，优选为具有碳原子数4～14的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。

5、专利文献1：日本特开2018-21182号公报

6、专利文献2：日本特开2011-107469号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、在曝光中，光掩模高速移动。为了不使异物附着于光掩模，防护膜组件需要维持贴合的状态。因此，防护膜组件的粘着层被要求在曝光中防护膜组件不会从光掩模剥离的剥离强度。

3、euv光容易被光掩模吸收。因此，在利用euv光进行的曝光中，光掩模容易成为高温。光掩模的热会热传导至防护膜组件。防护膜组件的粘着层容易吸收euv光的散射光。此外，开发了一种高输出的实用的euv光源。其结果是，在利用euv光进行的曝光中，防护膜组件所暴露的温度成为高温。具体而言，可预期防护膜组件所暴露的温度将达到60℃。

4、然而，专利文献1中记载的防护膜组件的剥离强度在暴露于高温环境时可能会下降。其结果是，专利文献1中记载的防护膜组件在euv曝光中有可能会从光掩模剥离。

5、进一步，以往的防护膜组件多数使用柔软的粘着层作为防护膜组件的粘着层，以便在使防护膜组件贴合于光掩模时抑制防护膜组件对光掩模造成的歪曲。但是，柔软的粘着剂的剥离强度在暴露于高温环境时有可能会下降。

6、根据这些情况，利用euv光进行的曝光中所使用的防护膜组件被要求即使在高温环境下也能够维持剥离强度，以免从光掩模剥离。

7、对于利用arf等euv光以外的光进行的曝光中所使用的防护膜组件，为了使可使时间更长，也要求高可靠性。

8、本公开是鉴于上述情况而完成的。

9、本公开的一个实施方式所要解决的课题在于，提供即使暴露于高温环境也不易从光掩模剥离的防护膜组件、曝光原版、曝光装置以及防护膜组件的制造方法。

10、所谓“高温环境”，表示60℃的温度。

11、用于解决课题的方法

12、用于解决上述课题的方法包括以下实施方式。

13、＜1＞一种防护膜组件，其具备防护膜组件框、支撑于上述防护膜组件框的一个端面的防护膜、以及设于上述防护膜组件框的另一个端面的粘着层，

14、所述防护膜组件满足下述式(1)。

15、式(1)：[a60℃]≥4.0gf/mm2

16、(上述式(1)中，

17、[a60℃]表示将上述防护膜组件制成试验用层叠体时的第一剥离强度，上述试验用层叠体是通过将上述防护膜组件以上述粘着层与石英玻璃基板的表面接触的方式载置在上述石英玻璃基板上，将5kgf载荷在上述防护膜组件上保持30秒并将上述载荷去除后，在23℃放置24小时而获得的，

18、上述第一剥离强度表示：在上述石英玻璃基板的温度为60℃的条件下，使用标准型万能试验机将上述防护膜组件框相对于上述石英玻璃基板以0.1mm/秒的速度沿上述防护膜组件框的高度方向拉拽时，为了将上述试验用层叠体所含的上述防护膜组件从上述石英玻璃基板剥离所需要的每单位粘接面积的载荷。)

19、＜2＞如上述＜1＞所述的防护膜组件，其满足下述式(2)。

20、式(2)：([a60℃]/[a23℃])＞0.35

21、(上述式(2)中，

22、[a23℃]表示将上述防护膜组件制成上述试验用层叠体时的第二剥离强度，

23、上述第二剥离强度表示：在上述石英玻璃基板的温度为23℃的条件下，使用标准型万能试验机将上述防护膜组件框相对于上述石英玻璃基板以0.1mm/秒的速度沿上述防护膜组件框的高度方向拉拽时，为了将上述试验用层叠体所含的上述防护膜组件从上述石英玻璃基板剥离所需要的每单位粘接面积的载荷。)

24、＜3＞如上述＜1＞或＜2＞所述的防护膜组件，其满足下述式(3)。

25、式(3)：[a23℃]≤30.0gf/mm2

26、＜4＞如上述＜1＞～＜3＞中任一项所述的防护膜组件，上述粘着层的玻璃化转变温度tg高于-25℃且小于10℃。

27、＜5＞如上述＜1＞～＜4＞中任一项所述的防护膜组件，上述粘着层包含：(甲基)丙烯酸烷基酯单体与具有官能团的单体的共聚物，上述官能团与异氰酸酯基、环氧基和酸酐中的至少一者具有反应性。

28、＜6＞如上述＜5＞所述的防护膜组件，上述(甲基)丙烯酸烷基酯单体具有碳原子数1～3的烷基和脂环式烷基中的至少一者。

29、＜7＞如上述＜4＞所述的防护膜组件，上述粘着层包含：(甲基)丙烯酸烷基酯单体与具有官能团的单体的共聚物，上述官能团与异氰酸酯基、环氧基和酸酐中的至少一者具有反应性，并且

30、上述(甲基)丙烯酸烷基酯单体具有碳原子数1～3的烷基和脂环式烷基中的至少一者。

31、＜8＞如上述＜5＞～＜7＞中任一项所述的防护膜组件，相对于构成上述共聚物的单体的合计量100质量份，上述(甲基)丙烯酸烷基酯单体的含量为80质量份～99.5质量份。

32、＜9＞如上述＜5＞～＜8＞中任一项所述的防护膜组件，相对于构成上述共聚物的单体的合计量100质量份，上述具有官能团的单体的含量为0.5质量份～20质量份。

33、＜10＞如上述＜5＞～＜9＞中任一项所述的防护膜组件，上述粘着层包含上述共聚物与交联剂的反应生成物，

34、相对于构成上述共聚物的单体的合计量100质量份，上述交联剂的含量为0.002质量份～3.000质量份。

35、＜11＞一种曝光原版，其包含具有图案的原版、以及安装于上述原版中的具有图案一侧的面的上述＜1＞～＜10＞中任一项所述的防护膜组件。

36、＜12＞一种曝光装置，其具有：

37、发出曝光光的光源、

38、上述＜11＞所述的曝光原版、以及

39、将从上述光源发出的曝光光引导至上述曝光原版的光学系统，

40、上述曝光原版以从上述光源发出的曝光光透过上述防护膜而照射至上述原版的方式配置。

41、＜13＞一种防护膜组件的制造方法，其为制造上述＜1＞～＜10＞中任一项所述的防护膜组件的方法，包括：

42、将防护膜贴合于防护膜组件框的一个端面的工序；以及

43、将涂布组合物涂布于上述防护膜组件框的另一个端面并进行加热而形成上述粘着层的工序，

44、上述涂布组合物包含(甲基)丙烯酸烷基酯单体与具有官能团的单体的共聚物，上述官能团与异氰酸酯基、环氧基和酸酐中的至少一者具有反应性。

45、发明效果

46、根据本公开，可提供即使暴露于高温环境也不易从原版剥离的防护膜组件、曝光原版、曝光装置以及防护膜组件的制造方法。