液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备的制作方法

本发明涉及一种用于向基板供应液体的液体供应单元以及包括其的基板处理装置以及基板处理设备。

背景技术：

1、为了制造半导体元件，可以执行清洗、蒸镀、光蚀刻、蚀刻以及离子注入之类的各种工艺。在这些工艺中，光蚀刻工艺包括：涂布工艺，在基板的表面涂布光刻胶之类的感光液而形成膜；曝光工艺，将电路图案转印到形成于基板的膜；显影工艺，在曝光处理的区域或者其相反区域中选择性地去除形成于基板上的膜。

2、在涂布工艺中执行将预湿液喷出到基板上之后喷出光刻胶的工艺。喷出到基板上的光刻胶按照工艺所需的条件，构成光刻胶的物质的组成比各不相同。最近，在多层化、基板的大型化的趋势下，需要能够喷出具有彼此不同特性的光刻胶的喷嘴。然而，为了将具有各个不同特性的光刻胶喷出到基板上，并提高对于大型化基板的生产性，需要增加喷嘴的数量。若喷嘴的数量增加，则由喷嘴构成的喷嘴部件必然大型化。

3、当喷嘴部件大型化时，在将液体供应到基板上的装置中，喷嘴部件所占据的空间可以相对增大。由此，将难以对供应液体的装置进行维护。另外，紧接着是包括在液体供应装置的其它结构的空间上的限制，当喷嘴移动时可能产生与其它结构的干扰。

技术实现思路

1、本发明的一目的在于，提供一种可以提高基板处理效率的液体供应单元以及包括其的基板处理装置。

2、另外，本发明的一目的在于，提供一种可以将具有彼此不同特性的光刻胶喷出到基板上的液体供应单元以及包括其的基板处理装置。

3、另外，本发明的一目的在于，提供一种在用于确认喷嘴部件的不良状态的拍摄过程中，配置单个喷嘴以使得仅通过单个拍摄就能够获得喷嘴部件的整个图像，从而能够有效地进行喷嘴检查的液体供应单元以及包括其的基板处理装置。

4、本发明的目的不限于此，本领域技术人员可以从以下的记载明确地理解未提及的又另一目的。

5、根据本发明的一实施例，可以是，提供一种液体供应单元，包括：喷嘴部件，将处理液供应到基板上；以及驱动器，使所述喷嘴部件移动。可以是，所述喷嘴部件包括：主体；第一组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第一列的方式沿着第一方向排列；以及第二组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第二列的方式沿着所述第一方向排列，当从上方观察时，所述第一列和所述第二列在所述第一方向以及与所述第一方向垂直的第二方向上隔开一定距离，从而当从正面观察所述喷嘴部件时，所述第一组的喷嘴和所述第二组的喷嘴构成为彼此不重叠。

6、在一实施例中，可以是，所述驱动器使所述主体分别在所述第一方向以及所述第二方向上进行直线移动，并在与所述第一方向以及所述第二方向垂直的第三方向上进行升降移动。

7、在一实施例中，可以是，构成所述喷嘴部件的多个喷嘴按照各自所在的区域喷出不同粘度的处理液。

8、在一实施例中，可以是，配置于所述主体的中央区域的喷嘴喷出与配置于所述中央区域的两侧区域的喷嘴喷出的处理液相比高粘度的处理液。

9、在一实施例中，可以是，所述液体供应单元还包括待机港，当所述主体位于所述待机港时，支承于所述支承单元的基板的中心位于所述第一列的延伸线上。

10、在一实施例中，可以是，为了利用所述第一组的喷嘴而将处理液供应到基板，所述驱动器使所述主体沿着所述第一方向移动。选择性地，可以是，使所述主体沿着第三方向追加移动。

11、在一实施例中，可以是，为了利用所述第二组的喷嘴而将处理液供应到基板，所述驱动器使所述主体沿着所述第一方向以及所述第二方向移动。选择性地，可以是，使所述主体沿着第三方向追加移动。

12、在一实施例中，可以是，所述喷嘴部件还包括：预湿液喷嘴，位于所述第一列的中央，并将预湿液供应到基板上。

13、在一实施例中，可以是，所述第一组的喷嘴数量设置为比所述第二组的喷嘴数量多。

14、在一实施例中，可以是，所述处理液是涂布液。具体地，可以是光刻胶。

15、根据本发明的一实施例，可以是，提供一种基板处理装置，包括：处理容器，在内部具有处理空间；支承单元，在所述处理空间中支承基板；以及液体供应单元，将处理液供应到所述基板上。可以是，所述液体供应单元包括：喷嘴部件，提供为通过驱动器能够进行移动，所述喷嘴部件包括：主体；第一组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第一列的方式沿着第一方向排列；以及第二组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第二列的方式沿着所述第一方向排列。此时，可以是，当从上方观察时，所述第一列和所述第二列在所述第一方向以及与所述第一方向垂直的第二方向上隔开一定距离，从而当从正面观察所述喷嘴部件时，所述第一组的喷嘴和所述第二组的喷嘴构成为彼此不重叠。

16、根据本发明的一实施例，可以是，提供一种基板处理设备，包括：转位模组，输入或者输出基板；以及处理模组，包括针对所述基板执行液体处理工艺的基板处理装置。可以是，所述基板处理装置包括：多个处理容器，排列成一列，并在内部空间配置支承基板的支承单元；以及液体供应单元，将处理液供应到所述基板上，所述液体供应单元包括：喷嘴部件，通过驱动器向排列有所述多个处理容器的方向移动，所述喷嘴部件包括：主体；第一组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第一列的方式沿着第一方向排列；以及第二组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第二列的方式沿着所述第一方向排列。此时，可以是，当从上方观察时，所述第一列和所述第二列在所述第一方向以及与所述第一方向垂直的第二方向上隔开一定距离，从而当从正面观察所述喷嘴部件时，所述第一组的喷嘴和所述第二组的喷嘴构成为彼此不重叠。

17、根据本发明的实施例，可以是，使基板的生产性提高并提高基板处理效率。

18、另外，根据本发明的实施例，可以是，通过单个喷嘴部件将具有彼此不同特性的光刻胶喷出到基板上。

19、另外，根据本发明的实施例，可以是，最小化喷出处理液的喷嘴部件和与喷嘴部件相邻的其他部件的干扰并最小化设备的设置面积。

20、另外，根据本发明的实施例，可以是，缩短喷嘴部件的检查时间以及维护时间。

21、本发明的效果不被上述的效果限定，在本发明所属技术领域中具有通常知识的人可以从本说明书以及所附的附图明确地理解未提及的效果。

技术特征：

1.一种液体供应单元，包括：

2.根据权利要求1所述的液体供应单元，其中，

3.根据权利要求2所述的液体供应单元，其中，

4.根据权利要求3所述的液体供应单元，其中，

5.根据权利要求2所述的液体供应单元，其中，

6.根据权利要求2所述的液体供应单元，其中，

7.根据权利要求6所述的液体供应单元，其中，

8.根据权利要求1所述的液体供应单元，其中，

9.根据权利要求1所述的液体供应单元，其中，

10.根据权利要求1所述的液体供应单元，其中，

11.一种基板处理装置，包括：

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，

14.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，

15.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，

16.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，

17.一种基板处理设备，包括：

18.根据权利要求17所述的基板处理设备，其中，

19.根据权利要求18所述的基板处理设备，其中，

20.根据权利要求18所述的基板处理设备，其中，

技术总结本发明提供一种液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备。处理基板的装置包括：处理容器，在内部具有处理空间；支承单元，在所述处理空间中支承基板并使基板旋转；以及液体供应单元，将处理液供应到所述基板上，所述液体供应单元包括：喷嘴部件以及使所述喷嘴部件移动的驱动器，所述喷嘴部件包括：主体；第一组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第一列的方式沿着第一方向排列；以及第二组的喷嘴，结合于所述主体，并以多个喷嘴构成第二列的方式沿着所述第一方向排列，当从上方观察时，所述第一列和所述第二列在所述第一方向以及与所述第一方向垂直的第二方向上隔开。此时，构成所述喷嘴部件的多个喷嘴能够从正面全部观察到整体。技术研发人员：方成镇,吴昌石受保护的技术使用者：细美事有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/16