垂直连续显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置的制作方法

本发明涉及一种非接触式与浸渍式的垂直连续显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置，尤其涉及一种垂直固定基板并连续移送而以非接触方式与浸渍(dipping)方式进行显影工序、蚀刻工序、连续显影蚀刻工序的显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置。

背景技术：

1、作为关于蚀刻装置的在先技术，在韩国授权专利公报第10-1663081号(授权日：2016年9月29日，下称在先技术)中曾揭示了“蚀刻装置”。

2、上述在先技术揭示了一种蚀刻装置，包括：提供进行蚀刻的空间的腔室；位于上述腔室内并对上述待处理物喷射蚀刻液的一个以上的喷射部；用于移动上述待处理物的多个传送辊；用于吸入上述待处理物上面的蚀刻液的吸入部，上述吸入部包括一个以上的吸入管，上述各个传送辊包括旋转轴与沿着上述旋转轴的长度方向而成的多个支撑部件，上述各个吸入管位于一个移送辊的支撑部件和与上述一个移送辊邻接的移送辊的支撑部件之间的间隔内。

3、上述在先技术中吸入部包括吸入管，并且吸入管位于一个传送辊的支撑部件和与其邻接的传送辊的支撑部件之间的间隔内，从而既能够防止水坑现象又能够防止待处理物附着在吸入部，而能够提高蚀刻工程的效率，然而由于上述传送辊与待处理物的基板相接触移动基板，从而传送辊有可能破损在基板两面形成的干膜，因此完成蚀刻工序的基板上会引发电路不良的问题。

4、【在先技术文献】

5、【专利文献】

6、【文献1】韩国授权专利公报第10-1663081号(授权日：2016年9月29日)

技术实现思路

1、本发明是为解决如上所述的问题而研究出的，其目的在于提供一种非接触式与浸渍式的垂直连续显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置，其不仅能够防止基板显影工序与蚀刻工序中发生的水坑现象，又能够以非接触式进行显影工序与蚀刻工序从而能够防止基板上形成的干膜破损及从而引发的电路不良。

2、本发明要解决的课题并不限于所提及的课题。对于在此没有提及的其他技术课题，具有本发明所属技术领域通常知识的人根据下面的记载会明确理解。

3、为了解决如上所述的课题，根据本发明的实施例揭示了一种非接触式与浸渍式的垂直连续蚀刻装置，其包括：多个夹具，其用于夹持并固定基板；装载部，其用于将基板供给上述各夹具；第一蚀刻部，其设在上述装载部的后方，并包括在内部装有蚀刻液的第一蚀刻槽，将完成显影工序的基板进行第一次蚀刻工序；第一后处理部，其设在上述第一蚀刻部的后方，并包括在内部装有后处理液的处理槽，将完成上述第一蚀刻工序的基板进行第一次后处理工序；第二蚀刻部，其设在上述第一后处理部的后方，并包括在内部装有湿式蚀刻液的的第二蚀刻槽，将完成上述第一次后处理工序的基板进行第二次蚀刻工序；第二后处理部，其设在上述第二蚀刻部的后方，并将完成上述第二次蚀刻工序的基板进行第二次后处理工序；干燥部，其设在上述第二后处理部的后方，并将完成上述第二次后处理工序的基板进行干燥工序；卸载部，其设在上述干燥部的后方，并将完成上述干燥工序的基板从上述夹具上卸下；以及移送部，为使上述各夹具经过上述各工序循环，移送各夹具。

4、根据本发明的实施例，在上述装载部与第一蚀刻部之间设有等待部而将基板手工安装在上述夹具。

5、根据本发明的实施例，在上述装载部与第一蚀刻部之间设有水帘部而从基板的上方朝下方喷射水而上下形成水膜。

6、根据本发明的实施例，上述第一蚀刻部包括：第一蚀刻槽，其前后延伸而成，并在内部装有蚀刻液；喷嘴，其设在上述第一蚀刻槽内部而朝基板喷射蚀刻液；回收管，其设在上述第一蚀刻槽内部而回收废蚀刻液；以及废液再加工部，将通过上述回收管回收到容器的废蚀刻液进行再加工后供到喷嘴。

7、根据本发明的实施例，上述喷嘴具有多个，并沿着上述第一蚀刻槽的长度方向隔开布置，上述回收管具有多个，并布置在上述各喷嘴之间，上述各回收管比上述各喷嘴更靠近基板布置。

8、根据本发明的实施例，上述干燥部包括：吹风件，其以适当压力对基板喷射50℃以下的冷风而去除水分；以及蒸发式干燥件，其设在上述吹风件的后方，并对基板喷射80℃以上的热风而蒸发水分。

9、根据本发明的实施例，上述移送部包括：移送轨，其沿着基板移送的路径延伸设置，并将夹持基板的夹具进行支撑；回收轨，其在上述移送轨的侧方隔开设置，并将卸下基板的夹具进行支撑；前方转向件，其设在上述移送轨与回收轨的前方，将布置在回收轨前端的夹具进行转向，移到移送轨的前端；后方转向件，其设在上述移送轨与回收轨的后方，将布置在移送轨后端的夹具进行转向，移到回收轨的后端；升降件，其当上述夹具依次经过上述第一蚀刻部、第一后处理部、第二蚀刻部及第二后处理部时将夹具进行升降；以及驱动件，其推出上述移送轨与回收轨所支撑的夹具而移动。

10、根据本发明的实施例，上述驱动件包括：第一驱动件，其在上述各夹具中，将浸渍在上述第一蚀刻部、第一后处理部、第二蚀刻部及第二后处理部内设的各处理槽内部的夹具进行连续移动；以及第二驱动件，其在上述各夹具中，将布置在上述各处理槽外侧的夹具间歇式移动特定距离。

11、根据本发明的实施例，上述第一驱动件包括：两个同步带轮，其前后隔开设置；第一发动机，其与上述两个同步带轮中的任意一个相连接；同步皮带，其卷绕在上述两个同步带轮上进行旋转；以及第一挂止部件，其安装在上述夹具的上方，当上述同步皮带旋转时挂在同步皮带齿轮上而推出夹具。

12、根据本发明的实施例，上述第二驱动件包括：线性执行器，其包括前后延伸而成的外壳、在上述外壳内部能够旋转地设置的滚珠螺杆、与上述滚珠螺杆相结合而通过滚珠螺杆的旋转而进行前后移动的移动块、与上述滚珠螺杆相连接而旋转滚珠螺杆的伺服电动机；第二挂止部件，其与上述线性执行器的移动块相连接，当上述移动块前移时与上述夹具相接触而推出夹具；以及进出气缸，缸筒与上述移动块相结合，缸杆与上述第二挂止部件相结合，以使上述第二挂止部件朝侧方进出移动，当上述移动块后退时移动第二挂止部件而不使第二挂止部件与上述夹具接触。

13、根据本发明的实施例，上述第二驱动件包括：齿条，其前后延伸设置；齿轮，其设置成与上述齿条相啮合；第二发动机，其与上述齿轮相连接，而正旋转或反旋转齿轮，以使上述齿条进行进出；以及第二挂止部件，其设在上述齿条的下侧，当齿条前移时，挂在上述夹具上方的突出部而推出夹具，而当齿条后移时，则跨越上述突出部。

14、进而，为了解决如上所述的课题，本发明的实施例揭示了一种非接触式与浸渍式的垂直连续显影装置，其包括：多个夹具，其用于夹持并固定基板；装载部，其将基板供给上述各夹具；显影部，其设在上述装载部的后方，并包括在内部装有显影液的显影槽，将完成曝光工序的基板进行显影工序；洗涤部，其设在上述显影部的后方，并将完成上述显影工序的基板进行洗涤工序；干燥部，其设在上述洗涤部的后方，并将完成上述洗涤工序的基板进行干燥工序；卸载部，其设在上述干燥部的后方，并将完成上述干燥工序的基板从上述各夹具上卸下；以及移送部，其为使上述各夹具经过上述各工序循环，而移送各夹具。

15、进而，为了解决如上所述的课题，本发明的实施例揭示了一种非接触式与浸渍式的垂直连续显影蚀刻装置，其包括：多个夹具，其用于夹持并固定基板；装载部，其将基板供给上述各夹具；显影部，其设在上述装载部的后方，并包括在内部装有显影液的显影槽，将完成曝光工序的基板进行显影工序；洗涤部，其设在上述显影部的后方，并将完成上述显影工序的基板进行洗涤工序；第一蚀刻部，其设在上述洗涤部的后方，并包括在内部装有蚀刻液的第一蚀刻槽，将完成洗涤工序的基板进行第一次蚀刻工序；第一后处理部，其设在上述第一蚀刻部的后方，并包括在内部装有后处理液的处理槽，将完成上述第一次蚀刻工序的基板进行第一次后处理工序；第二蚀刻部，其设在上述第一后处理部的后方，并包括在内部装有湿式蚀刻液的的第二蚀刻槽，将完成上述第一次后处理工序的基板进行第二次蚀刻工序；第二后处理部，其设在上述第二蚀刻部的后方，并将完成上述第二次蚀刻工序的基板进行第二次后处理工序；干燥部，其设在上述第二后处理部的后方，并将完成上述第二次后处理的基板进行干燥工序；卸载部，其设在上述干燥部的后方，并将完成上述干燥工序的基板从上述夹具上卸下；以及移送部，其为使上述各夹具经过上述各工序循环，而移送各夹具。

16、根据本发明具有如下效果，垂直固定基板并连续移送，以非接触方式与浸渍(dipping)方式进行显影工序、蚀刻工序、连续显影蚀刻工序，从而能够防止在基板显影工序与蚀刻工序中发生的水坑现象(puddling)，又能够防止基板上形成的干膜破损从而引发的电路不良。