一种抛光瓷砖的弹性磨块的制作方法

本技术涉及瓷砖抛光，尤其涉及一种抛光瓷砖的弹性磨块。

背景技术：

1、随着建筑陶瓷技术的发展，弹性磨块在被磨料磨具及陶瓷装饰材料的生产企业所关注。在现有技术中，弹性磨块一般设置有相互垂直的排屑槽，但在瓷砖研磨和抛光过程中，产生的抛光碎屑却难以借助冷却液经由排屑槽排出，特别地抛光碎屑容易聚集在排屑槽的中部而无法排出，抛光碎屑会在后续研磨和抛光过程中导致砖面出现划痕。为此，有必要设计出一种新的抛光瓷砖的弹性磨块以解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种抛光瓷砖的弹性磨块，旨在解决现有技术中抛光碎屑难以排出的问题。

2、为了达到上述的目的，本实用新型提供了一种抛光瓷砖的弹性磨块，其包括从下往上依次层叠的夹持头、弹性层和抛光组件；抛光组件包括底座以及设置在底座的顶面的四组抛光部，底座的底面与弹性层连接，四组抛光部从前往后依次设置，底座为前后对称结构，在从前往后的方向上，第一组抛光部与第四组抛光部对称，第二组抛光部与第三组抛光部对称，相邻的抛光部之间设有第一排屑槽；底座左右两侧一高一低，以使底座的顶面呈倾斜。

3、进一步地，第一组抛光部的整体呈前小后大的梯形结构，第一组抛光部包括三个第一抛光件；三个第一抛光件分别呈等边三角形结构，三个第一抛光件从左往右排布，它们的朝向分别为反向、正向、反向。

4、进一步地，第一抛光件靠近底座一侧的截面面积大于远离底座一侧的截面面积，第一抛光件远离底座一侧的边角均设为倒角结构。

5、进一步地，相邻的第一抛光件之间设有第二排屑槽，第二排屑槽的宽度为w2，第一排屑槽的宽度为w1，w1>w2。

6、进一步地，第二组抛光部的整体呈矩形结构，第二组抛光部包括一个第二抛光件与四个第三抛光件；第二抛光件呈正方形结构并在第二组抛光部中间放置成菱形；四个第三抛光件均呈直角三角形结构并分别放置在第二抛光件的四边，且四个第三抛光件的斜边分别平行于第二抛光件的四条边。

7、进一步地，第二抛光件靠近底座一侧的截面面积大于其远离底座一侧的截面面积，第三抛光件靠近底座一侧的截面面积大于其远离底座一侧的截面面积，第二抛光件和第三抛光件远离底座一侧的边角均设为倒角结构。

8、进一步地，第二抛光件与第三抛光件之间设有第三排屑槽，第三排屑槽的宽度为w3，第一排屑槽的宽度为w1，w1>w3。

9、进一步地，底座的顶面相对于弹性层的倾斜角度为2-4度。

10、本实用新型所提供的一种抛光瓷砖的弹性磨块，相比于现有技术，其抛光组件的底座左右两侧一高一低，以使底座的顶面呈倾斜；同样地，第一排屑槽、第二排屑槽与第三排屑槽均分别顺应底座的顶面呈倾斜，倾斜设置的排屑槽对冷却液有单向引导的作用，可以使在瓷砖研磨和抛光过程中，产生的抛光碎屑会顺着单向流动的冷却液运动而不会堆积在排屑槽的中部，抛光碎屑会快速排出；第一排屑槽的宽度w1大于第二排屑槽的宽度w2，第一排屑槽的宽度w1大于第三排屑槽的宽度w3，三种排屑槽的存在加快了抛光碎屑的排出速度，并有利于减少抛光碎屑在砖面的残留，有效地避免了砖面出现划痕。

技术特征：

1.一种抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：包括从下往上依次层叠的夹持头(1)、弹性层(2)和抛光组件(3)；

2.根据权利要求1所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：第一组抛光部(31)的整体呈前小后大的梯形结构，第一组抛光部(31)包括三个第一抛光件(311)；三个第一抛光件(311)分别呈等边三角形结构，三个第一抛光件(311)从左往右排布，它们的朝向分别为反向、正向、反向。

3.根据权利要求2所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：第一抛光件(311)靠近底座(30)一侧的截面面积大于远离底座(30)一侧的截面面积，第一抛光件(311)远离底座(30)一侧的边角均设为倒角结构(38)。

4.根据权利要求2所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：相邻的第一抛光件(311)之间设有第二排屑槽(36)，第二排屑槽(36)的宽度为w2，第一排屑槽(35)的宽度为w1，w1>w2。

5.根据权利要求1所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：第二组抛光部(32)的整体呈矩形结构，第二组抛光部(32)包括一个第二抛光件(321)与四个第三抛光件(322)；第二抛光件(321)呈正方形结构并在第二组抛光部(32)中间放置成菱形；四个第三抛光件(322)均呈直角三角形结构并分别放置在第二抛光件(321)的四边，且四个第三抛光件(322)的斜边分别平行于第二抛光件(321)的四条边。

6.根据权利要求5所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：第二抛光件(321)靠近底座(30)一侧的截面面积大于其远离底座(30)一侧的截面面积，第三抛光件(322)靠近底座(30)一侧的截面面积大于其远离底座(30)一侧的截面面积，第二抛光件(321)和第三抛光件(322)远离底座(30)一侧的边角均设为倒角结构(38)。

7.根据权利要求5所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：第二抛光件(321)与第三抛光件(322)之间设有第三排屑槽(37)，第三排屑槽(37)的宽度为w3，第一排屑槽(35)的宽度为w1，w1>w3。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的抛光瓷砖的弹性磨块，其特征在于：底座(30)的顶面相对于弹性层(2)的倾斜角度为2-4度。

技术总结本技术涉及瓷砖抛光技术领域，尤其涉及一种抛光瓷砖的弹性磨块，其包括从下往上依次层叠的夹持头、弹性层和抛光组件；抛光组件包括底座以及设置在底座的顶面的四组抛光部，底座的底面与弹性层连接，四组抛光部从前往后依次设置，底座为前后对称结构，在从前往后的方向上，第一组抛光部与第四组抛光部对称，第二组抛光部与第三组抛光部对称，相邻的抛光部之间设有第一排屑槽；底座左右两侧一高一低，以使底座的顶面呈倾斜。其能够解决现有技术中抛光碎屑难以排出的问题。技术研发人员：沈福林,沈君卿受保护的技术使用者：佛山市盛科新材料有限公司技术研发日：20230921技术公布日：2024/6/11