蒸镀材料、蒸镀装置、蒸镀方法以及显示装置的制造方法与流程

本公开关于蒸镀材料、蒸镀装置、蒸镀方法以及显示装置的制造方法。

背景技术：

1、作为薄膜的形成方法，已知有利用加热器使坩埚中的材料熔融和蒸发，使其与位于坩埚上方的物体的表面接触并凝固，从而在物体的表面形成包含该材料的薄膜的蒸镀法。在蒸镀法中，从降低所形成的薄膜的均匀性或薄膜的劣化等观点出发，要求更均匀地加热坩埚内的材料。专利文献1公开了将蒸发材料和热传导率比该蒸发材料高的传热介质收容于坩埚，通过加热坩埚而将蒸发材料更均匀地加热。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本国专利特开2003-2778号公报

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题

2、对于专利文献1所记载的传热介质之间的热传导而言，点接触的传热介质彼此之间的热传导占支配地位。因此，在使用包含上述传热介质的材料的蒸镀中，有时热不会充分地传导至蒸发材料的整体，蒸发材料的加热的均匀性降低。

3、解决问题的方案

4、本公开的一个方式所涉及的蒸材料包含：蒸发材料；和熔融材料，其融点比所述蒸发材料的沸点低，且其沸点比所述蒸发材料的沸点高，并且，相对于所述蒸发材料是非活性的。

5、本公开的一个方式所涉及的蒸镀装置包括：坩埚；以及护套加热器，其对所述坩埚的内部进行加热，所述护套加热器在规定方向上的所述坩埚的第一端与位于所述坩埚的所述第一端的相反侧的第二端之间的仅一部分延伸。

6、本公开的一个方式所涉及的蒸镀方法是一种用于将薄膜形成于物体的表面的蒸镀方法，其包括：向蒸镀材料的上方设置所述物体，其中，所述蒸镀材料包含蒸发材料和熔融材料，所述蒸发材料包含所述蒸镀膜的材料，所述熔融材料的融点比所述蒸发材料的沸点低，所述熔融材料的沸点比所述蒸发材料的沸点高，并且，相对于所述蒸发材料是非活性的；以及所述蒸镀材料的加热，其中，加热至所述蒸发材料的沸点以上且不足所述熔融材料的沸点；以及已蒸发的所述蒸发材料的所述表面上的凝固。

7、发明效果

8、根据本公开的各方式，实现蒸镀膜的均匀性的提高、或蒸镀膜的劣化的降低。

技术特征：

1.一种蒸镀材料，其特征在于，包含：

2.根据权利要求1所述的蒸镀材料，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

4.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

5.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

6.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

7.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

8.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

9.根据权利要求1或2所述的蒸镀材料，其特征在于，

10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：

11.一种用于将蒸镀膜形成于物体的表面的蒸镀方法，其特征在于，包括：

12.一种显示装置的制造方法，所述显示装置具备多个发光元件，所述多个发光元件分别具有第一电极、第二电极、以及所述第一电极与所述第二电极之间的至少包含发光层的功能层，

技术总结为了达成蒸镀膜的均匀性的提高、或蒸镀膜的劣化的降低，蒸镀材料(4)包含：蒸发材料(41)；和熔融材料(42)，其融点比蒸发材料的沸点低，且其沸点比蒸发材料的沸点高，并且，相对于蒸发材料是非活性的。技术研发人员：小林勇毅受保护的技术使用者：夏普显示科技株式会社技术研发日：技术公布日：2024/6/11