一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法与流程

本发明涉及玻璃加工，特别是涉及一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法。

背景技术：

1、手机玻璃加工中新出现了玻璃带孔的加工需求，此种情况需要经过清洗、抛光、等工序以达到表面光洁度和外观无缺陷的要求，现今主要存在的清洗方法有超声波清洗、平板清洗，主要的抛光方法有物理抛光与化学抛光。

2、常见的物理抛光是机械抛光，通常使用抛光盘下压在玻璃基板上进行旋动，加以抛光液、磨粒进行切削、腐蚀，以达到抛光和减薄的目的。

3、化学液抛通常使用对玻璃有腐蚀作用的化学药剂对玻璃进行腐蚀，常用的药剂有koh、naoh等碱性药剂，或hf、hno3等酸性药剂，其中，碱性药剂对玻璃腐蚀较慢，而氢氟酸等利用强酸进行的酸性抛光可以对玻璃均匀地腐蚀，因此更具有普适性。该方法成本低，下丝快，且能同时清除粉尘。

4、使用物理抛光的方法成本高，且在加工工序上有时并不适合使用，因此，使用化学药液腐蚀玻璃进行抛光成为一种受青睐的加工方法。

5、但是通常情况下，酸性抛光并不考虑玻璃带孔的情况，对带孔玻璃进行酸性抛光时，抛光过程中玻璃孔周围易出现凹陷，且凹陷中心明显偏离孔中心，即流痕的问题，影响产品外观。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法，能改善玻璃酸性抛光过程中，玻璃孔周围出现凹陷、有流痕的问题。

2、为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

3、提供一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法，包括如下步骤：

4、将多个待液抛的玻璃摆放在液抛槽中，其中至少一对相邻的玻璃以相互靠拢的方式倾斜放置以在所述相邻的玻璃之间形成一个尺寸逐渐缩窄的顶部开口；

5、驱动所述液抛槽中的液抛药剂向上流动经过所述玻璃，所述液抛药剂流经所述顶部开口时形成涡流。

6、在本发明的一些实施例中，多对相邻的玻璃之间分别形成一个尺寸逐渐缩窄的顶部开口，所述多个待液抛的玻璃整体呈锯齿形摆放。

7、在本发明的一些实施例中，所述相邻的玻璃中的至少一个的玻璃平面与水平面的夹角小于90度。

8、在本发明的一些实施例中，通过在所述液抛槽中鼓泡以使所述液抛槽中的酸液向上流动。

9、在本发明的一些实施例中，所述液抛药剂为酸液。

10、在本发明的一些实施例中，所述酸液为浓度为0.1wt％至8wt％的氢氟酸溶液。

11、在本发明的一些实施例中，所述玻璃在所述液抛槽中处理5-15min。

12、在本发明的一些实施例中，所述玻璃在所述液抛槽中处理10min。

13、在本发明的一些实施例中，所述玻璃完全浸没在所述液抛药剂中。

14、在本发明的一些实施例中，所述玻璃通过夹具夹持的方式固定在所述液抛槽中。

15、本发明具有如下有益效果：

16、本发明通过相邻玻璃之间倾斜放置在所述相邻的玻璃之间形成一个尺寸逐渐缩窄的顶部开口，液抛药剂向上流动经过这样的顶部开口时会在顶部周围形成涡流，从而能够改变玻璃上的玻璃孔周围液抛药剂的流态，使得玻璃孔流痕问题得到有效改善。

17、进一步地，将多个玻璃按照上述方法，使相邻玻璃彼此之间均形成具有上述结构特点的顶部开口，整体呈锯齿形摆放，能够高效地批量改善玻璃孔流痕问题。

18、本发明实施例中的其他有益效果将在下文中进一步述及。

技术特征：

1.一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的玻璃液抛方法，其特征在于，多对相邻的玻璃之间分别形成一个尺寸逐渐缩窄的顶部开口，所述多个待液抛的玻璃整体呈锯齿形摆放。

3.如权利要求1或2所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述相邻的玻璃中的至少一个的玻璃平面与水平面的夹角小于90度。

4.如权利要求1至3任一项所述的玻璃液抛方法，其特征在于，通过在所述液抛槽中鼓泡以使所述液抛槽中的酸液向上流动。

5.如权利要求1至4任一项所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述液抛药剂为酸液。

6.如权利要求5所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述酸液为浓度为0.1wt％至8wt％的氢氟酸溶液。

7.如权利要求5至6任一项所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述玻璃在所述液抛槽中处理5-15min。

8.如权利要求7所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述玻璃在所述液抛槽中处理10min。

9.如权利要求1至8任一项所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述玻璃完全浸没在所述液抛药剂中。

10.如权利要求1至9任一项所述的玻璃液抛方法，其特征在于，所述玻璃通过夹具夹持的方式固定在所述液抛槽中。

技术总结本发明提出一种适用于带孔玻璃的玻璃液抛方法，包括如下步骤：将多个待液抛的玻璃摆放在液抛槽中，其中至少一对相邻的玻璃以相互靠拢的方式倾斜放置以在相邻的玻璃之间形成一个尺寸逐渐缩窄的顶部开口；驱动液抛槽中的液抛药剂向上流动经过玻璃，液抛药剂流经顶部开口时形成涡流，从而改变了玻璃孔周围液抛药剂的流态，使得玻璃孔流痕问题得到有效改善。技术研发人员：洪嘉乐,颜嘉丽,李欢园,高再功,赖秋怡受保护的技术使用者：伯恩高新科技（惠州）有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/19