一种高雾度、高强度的导电玻璃及其制备方法与流程

本发明涉及导电玻璃，具体涉及一种高雾度、高强度的导电玻璃及其制备方法。

背景技术：

1、目前，主流的tco导电玻璃主要分为fto玻璃、ito玻璃以及azo玻璃等，其中ito玻璃的导电性和透光性要优于其他玻璃，但其缺点在于离线制备的工艺成本较高，雾度较低；而fto玻璃的主要优势在于镀膜有一定雾度，可以增加陷光效果，同时采用在线镀膜的方式，其工艺成本相对较低，但其无法进行热强化处理，故玻璃的强度较低。因此，目前的导电玻璃存在雾度较差以及强度较低的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于：针对现有的导电玻璃存在雾度较差，陷光效果不足和玻璃强度较低的问题，提供了一种高雾度、高强度的导电玻璃及其制备方法，从而解决了上述问题。

2、本发明是通过如下技术方案实现的：

3、提供一种高雾度、高强度的导电玻璃，该导电玻璃包括玻璃基体，以及设置于所述玻璃基体其中一面的减反射膜层和设置于所述玻璃基体另一面的阻隔层，所述的阻隔层上还设置有导电层；所述阻隔层的材料包括氧化铝和二氧化硅。所述的减反射膜层可以设置为单层膜，也可以设置为双层膜。

4、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃：所述的玻璃基体具有相对的第一表面和第二表面，所述的第一表面设置为绒面结构、第二表面设置为光面结构，所述的减反射膜层设置于第一表面上。

5、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃：所述玻璃基体的厚度设置为1.1～3.2mm。

6、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃：所述阻隔层的厚度设置为120～180nm。

7、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃：所述阻隔层中氧化铝的含量为5.0～30.0wt％。

8、优选的，阻隔层的厚度为150nm，阻隔层中含有粒径50～200nm的氧化铝粒子，部分氧化铝粒子被二氧化硅阻隔层覆盖，部分氧化铝粒子则凸起，从而增加导电玻璃的整体的雾度，使整体雾度大于1％。

9、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃：所述的导电层为ito导电层。具体的，所述的ito导电层是利用pvd在阻隔层上镀膜形成。

10、提供一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法，该方法包括如下具体步骤：

11、s1、提供玻璃基体，并将其洗净；

12、s2、在所述玻璃基体的其中一面上镀设用于形成所述阻隔层的材料，然后预固化；

13、s3、预固化后翻转所述玻璃基体，在玻璃基体的另一面镀设形成所述减反射膜层；

14、s4、进入钢化炉进行热强化；

15、s5、在所述阻隔层上形成所述导电层，完成该高雾度、高强度的导电玻璃的制备。

16、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法：通过辊涂方式形成所述阻隔层。

17、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法：热强化参数为：一区温度540～560℃，二区温度630～660℃，三区温度630～660℃，热强化时间为40～80s。

18、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法：所述高雾度、高强度的导电玻璃的整体雾度不小于1.0％。

19、进一步的，一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法：所述高雾度、高强度的导电玻璃的表面应力大于40.0mpa、四点弯曲强度大于100.0mpa。

20、本发明的有益效果：

21、(1)本发明设计的高雾度、高强度的导电玻璃，其自上而下为依次层叠设置的减反射膜层、玻璃基体、阻隔层以及导电层，其中减反射膜层主要用于增加透光率；而阻隔层能够阻止玻璃中na+的迁出，避免因na+的迁移而导致玻璃基体出现发雾的问题，玻璃中na+迁移引起的发雾是不均匀的，这种发雾与我们想要的雾度效果是不同的，因na+迁移导致的玻璃发雾会影响最终组件的功率，本发明通过阻隔层的设计可以阻隔na+的迁出，解决了玻璃发雾影响组件功率的问题。

22、(2)在本发明的制备方法中通过对热强化工艺的优化调整，可以使得导电玻璃的强度高且制备的良率高；本发明的工艺还通过采用辊涂的方式形成阻隔层，这种方式可以既有利于工艺成本的降低，又可以进一步增加雾度，从而增加陷光效果，最终提升组件功率。

技术特征：

1.一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，该导电玻璃包括玻璃基体(1)，以及设置于所述玻璃基体(1)其中一面的减反射膜层(2)和设置于所述玻璃基体(1)另一面的阻隔层(3)，所述的阻隔层(3)上还设置有导电层(4)；所述阻隔层(3)的材料包括氧化铝和二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，所述的玻璃基体(1)具有相对的第一表面(11)和第二表面(12)，所述的第一表面(11)设置为绒面结构、第二表面(12)设置为光面结构，所述的减反射膜层(2)设置于第一表面(11)上。

3.根据权利要求1或2所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，所述玻璃基体(1)的厚度设置为1.1～3.2mm。

4.根据权利要求1所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，所述阻隔层(3)的厚度设置为120～180nm。

5.根据权利要求1所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，所述阻隔层(3)中氧化铝的含量为5.0～30.0wt％。

6.根据权利要求1所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃，其特征在于，所述的导电层(4)为ito导电层。

7.根据权利要求1～6任一项所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

8.根据权利要求7所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法，其特征在于，通过辊涂方式形成所述阻隔层(3)。

9.根据权利要求7所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法，其特征在于，热强化参数为：一区温度540～560℃，二区温度630～660℃，三区温度630～660℃，热强化时间为40～80s。

10.根据权利要求7所述的一种高雾度、高强度的导电玻璃的制备方法，其特征在于，所述高雾度、高强度的导电玻璃的整体雾度不小于1.0％；所述高雾度、高强度的导电玻璃的表面应力大于40.0mpa、四点弯曲强度大于100.0mpa。

技术总结本发明公开了一种高雾度、高强度的导电玻璃及其制备方法；该导电玻璃包括玻璃基体，以及设置于玻璃基体其中一面的减反射膜层和设置于玻璃基体另一面的阻隔层，阻隔层上设有导电层；阻隔层的材料包括氧化铝和二氧化硅。本发明的导电玻璃，自上而下为依次层叠设置的减反射膜层、玻璃基体、阻隔层以及导电层，其中减反射膜层主要用于增加透光率；阻隔层能够阻止玻璃中Na<supgt;+</supgt;的迁出，避免因Na<supgt;+</supgt;的迁移而导致玻璃基体出现发雾的问题，玻璃中Na<supgt;+</supgt;迁移引起的发雾是不均匀的，这种发雾与我们想要的雾度效果是不同的，因Na<supgt;+</supgt;迁移导致的玻璃发雾会影响最终组件的功率，本发明通过阻隔层的设计可以阻隔Na<supgt;+</supgt;的迁出，解决了玻璃发雾影响组件功率的问题。技术研发人员：童强,初文静,林俊良,林金锡,林金汉受保护的技术使用者：常州亚玛顿股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/27