无碱玻璃基板的制作方法

本发明涉及适合作为各种显示器用玻璃基板或磁盘用玻璃基板的无碱玻璃基板。

背景技术：

1、当各种显示器用玻璃基板、特别是在表面形成有金属或氧化物薄膜等的玻璃基板中含有碱金属氧化物时，碱金属离子会扩散至薄膜中而使膜特性劣化，因此优选使用实质上不含碱金属离子的无碱玻璃基板。

2、出于上述目的而使用的无碱玻璃基板通过如下方式得到：将以规定的配比调配的原料在熔融炉中加热熔融而制成玻璃，将该熔融玻璃澄清，然后通过浮法或融合法(フュージョン法)成形为规定板厚的玻璃带，并将该玻璃带切割成规定的形状。

3、在通过浮法或融合法等进行成形而得到的玻璃板的表面，存在变形(ディストーション)、波纹(コルゲーション)等微小的凹凸或起伏。

4、变形是指在存在微小的凹凸或起伏的部分板厚稍有不同，主要起因于熔融玻璃的组成的局部不均匀。在成形过程中将玻璃带平面地拉伸得越薄，基于熔融玻璃的异质组成的粘度特性的差异就越扩大，变形就越显著。针对变形的基本对策是提高熔融玻璃的均质性。

5、另一方面，波纹是指虽然板厚实质上是恒定的、但微小的凹凸或起伏在玻璃带的宽度方向上以细小的间距波动，认为其主要是在成形过程中在将玻璃带沿宽度方向和长度方向平面地拉伸得较薄的过程中产生的。针对波纹的基本对策是对玻璃带的宽度方向的拉力和长度方向的牵引力进行调节。

6、这种微小的凹凸或起伏在作为汽车用、建筑用等的玻璃板使用的情况下没有大问题，但在作为各种显示器用玻璃基板使用的情况下，会引起给所制造的显示器的图像带来畸变和颜色不均。因此，特别是在将通过浮法成形的玻璃板作为显示器用玻璃基板使用的情况下，需要通过对玻璃板的表面进行研磨而除去微小的凹凸或起伏。

7、在成形后的玻璃板的表面残留微小的凹凸或起伏，以往认为，其中，20mm间距的起伏高度对玻璃板的研磨性、液晶显示器的品质造成显著影响。例如，在专利文献1中，公开了为了提高研磨性而选择20mm间距的起伏高度为0.3μm以下的浮法玻璃的玻璃基板的制造方法。

8、现有技术文献

9、专利文献

10、专利文献1：日本特开平3-65529号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、但是，对于以往的玻璃板而言，在作为各种显示器用玻璃基板使用的情况下，为了减少所制造的显示器中的图像的畸变或颜色不均，需要增加研磨量，研磨时间变长，因此存在生产效率降低的问题。特别是变形导致的微小的凹凸或起伏使生产效率降低。

3、为了解决上述的现有技术中的问题，本发明的目的在于提供一种能够飞跃性地提高研磨性的无碱玻璃基板。

4、用于解决课题的手段

5、为了达成上述目的，本发明提供一种无碱玻璃基板，其特征在于，玻璃板的截面的折射率的最大值与最小值之差(δn)为0.40×10-5以下。

6、本发明的无碱玻璃基板中，优选上述δn为0.30×10-5以下。

7、本发明的无碱玻璃基板中，优选上述δn为0.20×10-5以下。

8、另外，本发明的无碱玻璃基板中，优选以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度为0.13μm以下。

9、本发明的无碱玻璃基板中，优选以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度为0.10μm以下。

10、另外，本发明的无碱玻璃基板中，优选两主面的起伏间距为5mm～30mm。

11、另外，本发明的无碱玻璃基板中，优选上述以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度与两主面的起伏间距之比(起伏高度(20mm间距换算)/起伏间距)为1.3×10-5以下。

12、另外，本发明的无碱玻璃基板中，优选板厚为1.0mm以下。

13、本发明的无碱玻璃基板中，更优选板厚为0.45mm以下。

14、另外，本发明的无碱玻璃基板中，优选基板尺寸为2100mm×2400mm以上。

15、本发明的无碱玻璃基板中，优选基板尺寸为2900mm×3200mm以上。

16、本发明的无碱玻璃基板优选为显示器用玻璃基板。

17、本发明的无碱玻璃基板优选为浮法玻璃。

18、本发明的无碱玻璃基板中，优选以下述氧化物基准的质量百分率表示含有54％～73％的sio2、10.5％～24％的al2o3、0.1％～12％的b2o3、0～8％的mgo、0～14.5％的cao、0～24％的sro、0～13.5％的bao、0～5％的zro2，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为8％～29.5％。

19、本发明的无碱玻璃基板中，优选以下述氧化物基准的质量百分率表示含有58％～66％的sio2、15％～22％的al2o3、5％～12％的b2o3、0～8％的mgo、0～9％的cao、0～12.5％的sro、0～2％的bao，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为9％～18％。

20、本发明的无碱玻璃基板中，优选以下述氧化物基准的质量百分率表示含有54％～73％的sio2、10.5％～22.5％的al2o3、0.1％～5.5％的b2o3、0～8％的mgo、0～9％的cao、0～16％的sro、0～9％的bao，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为8％～26％。

21、发明效果

22、根据本发明的无碱玻璃基板，能够飞跃性地提高研磨性，并且能够缩短研磨时间从而提高生产效率。

技术特征：

1.一种无碱玻璃基板，其特征在于，玻璃板的截面的折射率的最大值与最小值之差δn为0.40×10-5以下，

2.如权利要求1所述的无碱玻璃基板，其中，所述δn为0.30×10-5以下。

3.如权利要求2所述的无碱玻璃基板，其中，所述δn为0.20×10-5以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度为0.13μm以下。

5.如权利要求4所述的无碱玻璃基板，其中，所述以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度为0.10μm以下。

6.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，两主面的起伏间距为5mm～30mm。

7.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，以20mm间距的起伏换算的两主面的起伏高度与两主面的起伏间距之比、即以20mm间距换算的起伏高度/起伏间距为1.3×10-5以下。

8.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的板厚为1.0mm以下。

9.如权利要求8所述的无碱玻璃基板，其中，所述板厚为0.45mm以下。

10.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，基板尺寸为2100mm×2400mm以上。

11.如权利要求10所述的无碱玻璃基板，其中，所述基板尺寸为2900mm×3200mm以上。

12.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其为显示器用玻璃基板。

13.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其为浮法玻璃。

14.如权利要求1～3中任一项所述的无碱玻璃基板，其中，以下述氧化物基准的质量百分率表示，所述无碱玻璃基板含有54％～73％的sio2、10.5％～24％的al2o3、0.1％～12％的b2o3、0～8％的mgo、0～14.5％的cao、0～24％的sro、0～13.5％的bao、0～5％的zro2，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为8％～29.5％。

15.如权利要求14所述的无碱玻璃基板，其中，以下述氧化物基准的质量百分率表示，所述无碱玻璃基板含有58％～66％的sio2、15％～22％的al2o3、5％～12％的b2o3、0～8％的mgo、0～9％的cao、0～12.5％的sro、0～2％的bao，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为9％～18％。

16.如权利要求14所述的无碱玻璃基板，其中，以下述氧化物基准的质量百分率表示，所述无碱玻璃基板含有54％～73％的sio2、10.5％～22.5％的al2o3、0.1％～5.5％的b2o3、0～8％的mgo、0～9％的cao、0～16％的sro、0～9％的bao，且mgo、cao、sro和bao的总量(mgo+cao+sro+bao)为8％～26％。

技术总结本发明涉及一种无碱玻璃基板，其特征在于，玻璃板的截面的折射率的最大值与最小值之差(Δn)为0.40×10<supgt;‑5</supgt;以下。根据本发明的无碱玻璃基板，能够飞跃性地提高研磨性，能够缩短研磨时间从而提高生产效率。技术研发人员：齐藤健太,小林大介受保护的技术使用者：AGC株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/27