一种仿陶瓷玻璃制品及其制备方法和用途与流程

本公开属于镀膜，具体涉及一种仿陶瓷玻璃制品及其制备方法和用途。

背景技术：

1、现有的仿陶瓷制备工艺，多为制品成型时添加特定的色粉，从而使玻璃达到类同于陶瓷的色泽；但该类工艺存在较大的局限性：1)如不同色系的仿陶瓷需要不同种方案，膜层结构复杂，成本较高；2)即便做到类似陶瓷的色泽，但无法仿制陶瓷表面的反光效果，实际色泽不够亮，且曲线不平滑，导致有角度色差；3)存在膜层硬度较差的问题，日常使用过程中，频繁与外界各类物质摩擦，无法承受高强度摩擦。

技术实现思路

1、本公开的目的是提供一种仿陶瓷玻璃制品及其制备方法，本发明中的仿陶瓷玻璃，外镀膜层与玻璃呈一体效果，搭配油墨层后，整体质感与陶瓷十分相似，同时具备较高的硬度、较好的耐摩擦性能。

2、为了实现上述目的，本发明第一方面提供一种仿陶瓷玻璃制品，包括油墨层、玻璃基材层和镀膜层；所述油墨层和所述镀膜层分别覆于所述玻璃基材层的两侧；所述镀膜层包括多个低折射率材料层和多个高折射率材料层，所述低折射率材料层与所述高折射率材料层交替层叠设置；所述低折射率材料层的折射率为1.8以下，所述高折射率材料层的折射率为1.9～2.3；所述镀膜层的反射率为19～26％。

3、可选地，所述低折射率材料的折射率为1.46～1.75；所述低折射率材料层包含sio2层、al2o3层、氮氧化硅层中的一种或几种；所述氮氧化硅层中硅原子个数百分比为35～40％，氧原子个数百分比为30～50％，氮原子个数百分比为15～30％。

4、可选地，所述镀膜层的最外侧为低折射率材料层，优选为sio2层。

5、可选地，所述镀膜层包含的低折射率材料层的层数为2～8层，所述镀膜层包含的高折射率材料层的层数为2～8层；

6、可选地，每个所述低折射率材料层的厚度不同，且每个所述高折射率材料层的厚度不同。

7、可选地，所述高折射率材料层包含si3n4、zro2和ta2o5中的一种或几种，优选为si3n4；所述高折射率材料层的折射率为1.9～2.1。

8、可选地，所述低折射率材料层的单层厚度为1～100nm，所述高折射率材料层的单层厚度为1～100nm；所述镀膜层的总厚度为3～1000nm。

9、可选地，所述镀膜层由内至外依次包括第一sio2层、第一si3n4层、第二sio2层、第二si3n4层和第三sio2层；所述第一sio2层厚度为40～60nm，所述第一si3n4层厚度为6～15nm，所述第二sio2层厚度为50～70nm，所述第二si3n4层厚度为60～80nm，所述第三sio2层厚度为10～30nm。

10、可选地，所述仿陶瓷玻璃制品还包括覆于所述镀膜层表面的抗指纹膜层，所述抗指纹膜层的厚度为17～30nm；所述油墨层的厚度为20～40um。

11、可选地，所述低折射率材料层和所述高折射率材料层分别为溅射沉积形成的膜层。

12、可选地，所述玻璃基材层为光面玻璃，所述光面玻璃为2.5d玻璃或者3d玻璃中的一种或几种；可选地，所述玻璃基材层经过强化处理。

13、可选地，所述仿陶瓷玻璃制品还包括覆于所述镀膜层表面的抗指纹膜层，所述抗指纹膜层的厚度为17～30nm；

14、所述油墨层的厚度为20～40um。

15、可选地，所述镀膜层的反射率为19～23％。

16、本公开第二方面提供制备本公开第一方面所述的仿陶瓷玻璃制品的方法，其中，该方法包括如下步骤：

17、在所述玻璃基材层的第一主表面形成所述镀膜层，在所述玻璃基材层的第二主表面形成油墨层；

18、其中，形成所述镀膜层包括交替形成所述低折射率材料层和所述高折射率材料层。

19、可选地，所述低折射率材料层和所述高折射率材料层分别通过溅射沉积形成；

20、通过溅射沉积形成所述低折射率材料层、高折射率材料层条件包括：靶材氩气流量20～110sccm，靶材功率为6～8kw，icp轰击功率为2.5～3kw，icp氩气流量80～300sccm，氧气流量70～280sccm，氮气流量180～280sccm，镀膜温度为100～180℃，真空度为1×10-3～10×10-3pa，单层厚度为1～100nm，其中，根据材料层的材料种类确定通入气体的种类，例如，当溅射沉积形成sio2材料层时，通入氧气；当溅射沉积形成si3n4材料层时，通入氮气；

21、可选地，所述油墨层通过丝印法或喷涂法形成，可选地，丝印或喷涂后进行固烤，固烤温度为90～150℃，固烤30～60min；

22、可选地，该方法还包括，在所述镀膜层的表面形成抗指纹膜层，所述抗指纹膜层通过蒸镀形成，所述蒸镀的条件包括：真空度为5.0×10-3～7.0×10-3pa，厚度17～30nm。

23、本公开第三方面提供本公开第一方面所述的仿陶瓷玻璃制品在电子设备盖板、摄像头元器件或装饰件中的用途。

24、通过上述技术方案，本发明利用膜层先于玻璃呈色的原理，将镀膜层置于玻璃外侧，极大地削弱了视觉玻璃感，从而使肉眼感知下膜层与玻璃呈一体性；油墨层位于玻璃基材内侧直接与玻璃接触，其附着力更好，且不会存在与膜层不良干涉的风险，能够呈现所需的有色陶瓷的效果；同时，交替层叠的低折射率材料和高折射率材料组成的特定镀膜膜系使制品具备硬质耐磨性能和陶瓷光泽，并且各个观察角度均不存在可见大角度，使仿陶瓷的质感始终一致。本发明的制备仿陶瓷玻璃制品的方法工艺简单且成本较低。

25、本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

技术特征：

1.一种仿陶瓷玻璃制品，其中，包括油墨层、玻璃基材层和镀膜层；所述油墨层和所述镀膜层分别覆于所述玻璃基材层的两侧；所述镀膜层包括多个低折射率材料层和多个高折射率材料层，所述低折射率材料层与所述高折射率材料层交替层叠设置；所述低折射率材料层的折射率为1.8以下，所述高折射率材料层的折射率为1.9～2.3；所述镀膜层的反射率为19～26％。

2.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述低折射率材料的折射率为1.46～1.75；所述低折射率材料层包含sio2层、al2o3层、氮氧化硅层中的一种或几种；所述氮氧化硅层中硅原子个数百分比为35～40％，氧原子个数百分比为30～50％，氮原子个数百分比为15～30％。

3.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述镀膜层的最外侧为低折射率材料层，优选为sio2层。

4.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述镀膜层包含的低折射率材料层的层数为2～8层，所述镀膜层包含的高折射率材料层的层数为2～8层；

5.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述高折射率材料层包含si3n4、zro2和ta2o5中的一种或几种，优选为si3n4；所述高折射率材料层的折射率为1.9～2.1。

6.根据权利要求1或4所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述低折射率材料层的单层厚度为1～100nm，所述高折射率材料层的单层厚度为1～100nm；所述镀膜层的总厚度为3～1000nm。

7.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述镀膜层由内至外依次包括第一sio2层、第一si3n4层、第二sio2层、第二si3n4层和第三sio2层；

8.根据权利要求1所述的外镀硬质薄膜的仿陶瓷玻璃，其中，所述低折射率材料层和所述高折射率材料层分别为溅射沉积形成的膜层。

9.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述玻璃基材层为光面玻璃，所述光面玻璃为2.5d玻璃或者3d玻璃中的一种或几种；可选地，所述玻璃基材层经过强化处理。

10.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述仿陶瓷玻璃制品还包括覆于所述镀膜层表面的抗指纹膜层，所述抗指纹膜层的厚度为17～30nm；

11.根据权利要求1所述的仿陶瓷玻璃制品，其中，所述镀膜层的反射率为19～23％。

12.制备权利要求1～11中任意一项所述的仿陶瓷玻璃制品的方法，其中，该方法包括如下步骤：

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述低折射率材料层和所述高折射率材料层分别通过溅射沉积形成；

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述油墨层通过丝印法或喷涂法形成，可选地，丝印或喷涂后进行固烤，固烤温度为90～150℃，固烤30～60min；

15.权利要求1～14中任意一项所述的仿陶瓷玻璃制品在电子设备盖板、摄像头元器件或装饰件中的用途。

技术总结本公开涉及提供一种仿陶瓷玻璃制品，包括油墨层、玻璃基材层和镀膜层；油墨层和镀膜层分别覆于玻璃基材层的两侧；镀膜层包括交替层叠设置的多个低折射率材料层和多个高折射率材料层；低折射率材料层的折射率为1.8以下，高折射率材料层的折射率为1.9～2.3；镀膜层的反射率为19～26％。本发明还提供了一种仿陶瓷玻璃制品的制备方法，本发明制备的仿陶瓷玻璃制品削弱了视觉玻璃感，使肉眼感知下膜层与玻璃呈一体性，整体光谱曲线平整，在各个角度观察仿陶瓷的质感始终一致，搭配有色油墨能够呈现所需的有色陶瓷的效果。同时，利用低折射率材料和高折射率材料组成的特定镀膜膜系使制品具备硬质耐磨性能且磨损后仍保持良好的仿陶瓷外观。技术研发人员：黎原,马兰,刘玉阳,李超受保护的技术使用者：比亚迪股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29