利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法与流程

本发明涉及单晶硅生产设备，特别是涉及利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法。

背景技术：

1、单晶炉是对单晶硅生产过程中所必须使用的设备，单晶炉采用竖直放置，里面会通过一个钨丝绳将单晶硅片悬吊起来，然后加热气氛下对单晶硅进行处理。处理完成之后需要对单晶炉内进行清扫处理，目前常用的清扫设备采用旋转的方式清扫，并且清扫设备的中心设置有闭合的圆孔，以供钨丝绳穿过，但是钨丝绳底部还设置有重锤，所以在实际操作过程中，钨丝绳要先与重锤分离，然后将钨丝绳穿过清扫设备的中心的圆孔，之后再重新将重锤与钨丝绳连接。这期间，重锤和钨丝绳之间要反复操作，浪费人力物力。而由于在单晶炉加热操作完成之后，炉内温度仍然较高，普通的工人无法立刻将钨丝绳与重锤分离，必须等到炉内温度降低之后才能进行分离操作，这就进一步导致清洁处理的效率低下。

技术实现思路

1、本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，解决现有清扫设备清扫之前需要将钨丝绳与重锤分离、然后重新连接、以及分离之前需要等待单晶炉降温等工序导致的清洁处理的效率低下问题。

2、为了解决上述技术问题，本发明提供了利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，使用单晶炉清洁装置，包括：

3、工序一、单晶炉的预处理；

4、工序二、单晶炉清洁装置的准备工作；

5、工序三、将单晶炉清洁装置送入到单晶炉中；

6、工序四、单晶炉清洁装置在单晶炉内进行清洁工作；

7、工序五、单晶炉清洁装置与单晶炉分离。

8、工序一包括步骤s1、待单晶炉完成对单晶硅的加热工序后，打开单晶炉底部的开口，并取出单晶炉内的单晶硅，清空单晶炉的炉腔，并且在本步骤和接下来的步骤都不拆开钨丝绳与重锤的连接。

9、工序二包括：

10、步骤s2、提供单晶炉清洁装置，并使将单晶炉清洁装置的摆动清洁机构及与其连接的脚轮行走单元安放基座的升降台上，并且使摆动清洁机构、脚轮行走单元以及升降台的缺口上下对应在同一个方位；

11、步骤s3、移动基座至单晶炉底部的开口的下方，并使摆动清洁机构和脚轮行走单元的缺口靠近下垂的钨丝绳，同时使重锤的高度低于升降台底部的高度，并在水平方向对准底座内的空腔，以使底座水平移动之后，重锤能够进入到空腔中；

12、步骤s4、沿着缺口的开口方向移动基座，使缺口将钨丝绳包围，并使钨丝绳反向进入到摆动驱动组件的中心；

13、步骤s5、控制脚轮行走单元的第一组辊轮行走机构和第二组辊轮行走机构、和摆动驱动组件的摆动清洁机构均向内收拢，收拢后的直径小于单晶炉的内径；其中第一组辊轮行走机构位于第二组辊轮行走机构的上方；并调整第一组辊轮行走机构的三个辊轮中的一个，与观察窗的位置上下对应，同时使第二组辊轮行走机构的三个辊轮均与观察窗的位置错开；由于第一组辊轮行走机构位于上方，第二组辊轮行走机构位于下方，从而使第一组辊轮行走机构的辊轮全部高于观察窗之后，第二组辊轮行走机构的辊轮可以与观察窗错开，这样就保证了全部辊轮都不会卡入到观察窗中。

14、工序三包括：

15、步骤s6、控制基座的升降台带动摆动驱动组件和脚轮行走单元先后进入到单晶炉内；并使脚轮行走单元的第一组辊轮行走机构的辊轮高度高于观察窗；

16、步骤s7、控制脚轮行走单元的第一组辊轮行走机构和第二组辊轮行走机构打开，使辊轮与单晶炉的内壁抵接，然后控制两组辊轮行走机构沿着单晶炉的内壁向上滚动，进而带动摆动驱动组件沿着单晶炉向上移动；

17、步骤s8、当脚轮行走单元带动摆动驱动组件向上移动到单晶炉内的顶部时停止。

18、工序四包括步骤s9、控制摆动驱动组件将两组摆动清洁组件向两侧打开，与单晶炉的内壁抵接之后控制两组摆动清洁组件围绕单晶炉的中心往复摆动，同时通过脚轮行走单元带动摆动驱动组件沿着单晶炉的内壁向下移动。

19、工序五包括：

20、步骤s10、当脚轮行走单元移动到单晶炉的底部并回落到基座的升降台时，脚轮行走单元和摆动驱动组件均停止运动，并控制两组摆动清洁组件向内收拢和两组辊轮行走机构向中心收缩，从而均与单晶炉内壁分离；

21、步骤s11、控制升降台下降以将摆动驱动组件和脚轮行走单元从单晶炉内分离，然后控制基座沿着缺口的反向移动，使单晶炉清洁装置全部与钨丝绳分离，完成对单晶炉的清洁工艺。

22、在步骤s3之前还包括，控制摆动驱动组件将两组摆动清洁组件向两侧打开，以增大二者之间的间隙，允许钨丝绳穿过。

23、步骤s6包括周向调整脚轮行走单元，使第一组辊轮行走机构中的一个辊轮行走机构对准观察窗的中部；

24、向上移动脚轮行走单元和摆动驱动组件，并使第一组辊轮行走机构的辊轮高度高于观察窗；

25、分别控制第一组辊轮行走机构和第二组辊轮行走机构的辊轮打开，并与单晶炉的内壁抵接，其中控制第一组辊轮行走机构的抵接力大于第二组辊轮行走机构的抵接力；

26、控制第一组辊轮行走机构的辊轮主动滚动向上移动，以带动第二组辊轮行走机构向上移动，并使第二组辊轮行走机构的辊轮高度高于观察窗的高度。

27、步骤s8包括利用摆动驱动组件的检测装置检测与单晶炉顶壁之间的距离，当距离小于预设值时控制脚轮行走单元停止向上移动。

28、其中的单晶炉清洁装置，包括基座、摆动驱动组件和脚轮行走单元，摆动驱动组件安装在脚轮行走单元的上定位基体上，摆动驱动组件和脚轮行走单元的中心具有上下贯通的中心孔，摆动驱动组件和脚轮行走单元的侧方设有竖直向下、连通到中心孔的缺口，所述脚轮行走单元安置在所述基座上，并且能够在基座的升降台的带动下在竖直方向上做升降运动，以将脚轮行走单元和摆动驱动组件送入单晶炉中或自单晶炉中接收脚轮行走单元和摆动驱动组件。

29、本发明提供的利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，能够通过单晶炉清洁装置实现从钨丝绳的侧方切入到清扫装置的中心孔中，从而不再需要拆卸钨丝绳底部的重锤，可以提高清洗工艺时间；同时，通过摆动式的清扫方式，可以快速将清洗头上的颗粒物振落，不会累积，减少对单晶炉内壁的摩擦损伤。

技术特征：

1.利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，使用单晶炉清洁装置，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

10.根据权利要求1-9任一项所述的方法，其特征在于，

技术总结本发明提供了利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，使用单晶炉清洁装置，包括：工序一、单晶炉的预处理；工序二、单晶炉清洁装置的准备工作；工序三、将单晶炉清洁装置送入到单晶炉中；工序四、单晶炉清洁装置在单晶炉内进行清洁工作；工序五、单晶炉清洁装置与单晶炉分离。本发明提供的利用单晶炉清洁装置对单晶炉进行处理的方法，能够通过单晶炉清洁装置实现从钨丝绳的侧方切入到清扫装置的中心孔中，从而不再需要拆卸钨丝绳底部的重锤，可以提高清洗工艺时间。技术研发人员：刘尊玲,王一烽,刘尊玄受保护的技术使用者：无锡上京精密科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29