一种油墨组合物、油墨组合物的制备方法及固化层与流程

本申请属于油墨，尤其涉及一种油墨组合物、油墨组合物的制备方法及固化层。

背景技术：

1、无机填料型油墨具有更高的折射率，可广泛应用于光学镜头、电子元器件和生物医学等领域，尤其是在光电子领域中，它具有重要作用。现有技术中的无机填料型油墨通常会加入纳米无机填料来提高油墨的折射率，然而纳米无机填料容易团聚且分散性差，导致油墨稳定性差，进而导致油墨出现折射率不足、光固化率低以及透光率下降等不良影响，难以满足市场需求。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种油墨组合物，该油墨组合物折射率高、稳定性好，同时光固化率和透光率均满足应用。

2、本申请实施例提供一种油墨组合物，该油墨组合物包括填料树脂、光固化单体和光引发剂；填料树脂包括有机单体和纳米金属氧化物；有机单体包括含-s-基团单体或含-o-基团单体中的至少一种；纳米金属氧化物占填料树脂的5wt％～50wt％。

3、进一步地，有机单体包括如下结构式(ⅰ)的单体或如下结构式(ⅱ)的单体中的至少一种，

4、结构式(ⅰ)为，

5、

6、结构式(ⅰ)中，r1基团包括取代或未取代的碳环化合物残基，r2基团包括-s-或-o-中的至少一种，r3基团包括-h、取代或未取代的碳原子数为1～10的直链或支链烷基中的至少一种，r4基团包括-h、取代或未取代的碳原子数为1～10的直链或支链烷基中的至少一种；

7、结构式(ⅱ)为，

8、

9、结构式(ⅱ)中，r5基团、r6基团、r7基团和r8基团各自独立的选自-s-、-o-、取代或未取代的碳原子数为1～10的直链或支链亚烷基中的至少一种，r5基团、r6基团、r7基团和r8基团的至少之一处为含-s-基团或含-o-基团中的至少一种，r9基团包括-h、取代或未取代的碳原子数为1～10的直链或支链烷基中的至少一种。

10、进一步地，结构式(ⅰ)对应的单体和结构式(ⅱ)对应的单体占有机单体的重量百分比之和大于等于80wt％。

11、进一步地，纳米金属氧化物包括氧化锆、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锌、氧化钙、氧化铌或氧化镧中的至少一种。

12、进一步地，填料树脂还包括树脂添加剂，树脂添加剂包括分散剂和稳定剂中的至少一种。

13、进一步地，有机单体占填料树脂的40wt％～90wt％，纳米金属氧化物占填料树脂的5wt％～50wt％，树脂添加剂占填料树脂的0.1wt％～10wt％。

14、进一步地，光固化单体包括单官能团丙烯酸酯类单体、双官能团丙烯酸酯类单体或多官能团丙烯酸酯类单体中的至少一种；光引发剂的吸收峰至少部分位于368～420nm内。

15、进一步地，油墨组合物还包括组合物添加剂，油墨组合物，填料树脂的重量百分比为10wt％～50wt％，光固化单体的重量百分比为15wt％～75wt％、光引发剂的重量百分比为1wt％～20wt％，组合物添加剂的重量百分比为0.01wt％～1wt％。

16、本申请实施例提供一种油墨组合物的制备方法，该制备方法用于制备上述任一油墨组合物；制备方法具体包括，预处理：将纳米金属氧化物加入至有机溶剂中，加热至50～100℃并加入分散剂和稳定剂，搅拌6～8h后得到无机填料混合物；填料树脂的制备：将无机填料混合物与有机单体混合，搅拌2～5h后制得填料树脂；油墨组合物的制备：填料树脂经离心和过滤后，与光固化单体和光引发剂混合，制得油墨组合物。

17、本申请实施例提供一种固化层，该固化层由上述任一油墨组合物或上述制备方法制备的油墨组合物固化形成。

18、本申请中油墨组合物将纳米金属氧化物先与分散性能好、折射率高的有机单体混合，再与光固化单体和光引发剂混合，纳米金属氧化物分散均匀保证了油墨组合物固化性能，并提高油墨组合物的折射率、透光率和稳定性。

技术特征：

1.一种油墨组合物，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的油墨组合物，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的油墨组合物，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的油墨组合物，其特征在于：

5.根据权利要求1所述的油墨组合物，其特征在于：

6.根据权利要求5所述的油墨组合物，其特征在于：

7.根据权利要求1所述的油墨组合物，其特征在于：

8.根据权利要求1所述的油墨组合物，其特征在于：

9.一种油墨组合物的制备方法，其特征在于：

10.一种固化层，其特征在于：

技术总结本申请属于油墨技术领域。本申请公开了一种油墨组合物，该油墨组合物包括填料树脂、光固化单体和光引发剂；填料树脂包括有机单体和纳米金属氧化物；有机单体包括含‑S‑基团或含‑O‑基团中的至少一种；纳米金属氧化物占填料树脂的5wt％～50wt％。本申请还公开了一种油墨组合物的制备方法。本申请还公开了一种固化层。本申请中的油墨组合物折射率高、透光率高及稳定性好，能够适用于多种光电子器件，并满足喷墨打印的需求。技术研发人员：罗超,张冬林,洪海兵,杨楚峰受保护的技术使用者：浙江福斯特新材料研究院有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/5