一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置及系统的制作方法

【】本技术涉及圆柱体外圆磨抛，尤其涉及一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置及系统。

背景技术

0、背景技术：

1、随着经济社会的发展，人类对高端合金材料的需求不断增加，如高性能马氏体不锈钢、钛合金等。在高端新金属产品的开发过程中，通常需要进行大量的科学研究。这些基础且必要的科研实验包括拉伸、压缩、剪切等，其中压缩实验所需的圆柱状试样要求表面光滑。该类型试样的表面加工在很多情况是较为困难的。目前，较为常见的方法是利用外圆磨样机器或者手工进行处理，然而磨样机的砂轮粗糙、无法进行表面抛光等，并且磨样机器设备价格较为昂贵。为了使作业人员能够更高效、更方便的对圆柱样品进行表面磨抛处理，急需一种简易的磨样装置，方便作业人员使用。

2、因此，有必要研究一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置及系统来应对现有技术的不足，以解决或减轻上述一个或多个问题。

技术实现思路

0、技术实现要素：

1、有鉴于此，本实用新型提供了一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置及系统，该手持式圆柱状金属外圆磨样装置可根据圆柱试样尺寸灵活加工，配合金相磨抛设备进行圆柱表面的打磨与抛光，可任意处理表面的粗糙程度，该装置给使用者提供便利，方便使用，节约成本的同时提高了工作效率。

2、一方面，本实用新型提供一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置，适用于圆柱状金属的外圆打磨，所述磨样装置包括：耐磨块体、阻挡组件和圆柱磨样槽，所述圆柱磨样槽设置在耐磨块体底部，所述阻挡组件设置在圆柱磨样槽两端，所述圆柱磨样槽顶部与耐磨块体连接形成封闭空间，所述圆柱磨样槽底部设有离位型圆柱缺口，所述离位型圆柱缺口的缺口的最小距离小于圆柱磨样槽的内部最大横向距离。

3、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述圆柱磨样槽为圆柱形槽，所述圆柱磨样槽的内部最大距离为圆柱形槽的直径。

4、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述圆柱形槽的直径不小于待打磨圆柱状金属的直径，所述圆柱形槽的长度不小于待打磨圆柱状金属的长度。

5、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述圆柱磨样槽至少包括两个，任意两个圆柱磨样槽之间均互相平行设置。

6、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述阻挡组件为两组，其中一组阻挡组件固定设置在圆柱磨样槽的一端，另一组阻挡组件可活动设置在圆柱磨样槽的另一端，两组阻挡组件均垂直于圆柱磨样槽的径向方向。

7、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，每组阻挡组件均包括活动档把和限位挂钩，所述限位挂钩固定设置在耐磨块体底部的一端，所述活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部的另一端，所述限位挂钩为l型结构。

8、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述两组阻挡组件中固定设置在圆柱磨样槽的一端的阻挡组件，其活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部，另一端固定连接限位挂钩。

9、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述两组阻挡组件中可活动设置在圆柱磨样槽一端的阻挡组件，其活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部，另一端活动连接限位挂钩。

10、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述离位型缺口呈水平状态，并且贯穿整个耐磨块体底部。

11、如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种简易手持式圆柱状金属外圆磨样系统，包括所述的磨样装置，所述磨样系统还包括金相磨抛机或砂带机，所述磨样装置设置在金相磨抛机或砂带机上方，放置在所述离位型缺口处的待打磨圆柱状金属与金相磨抛机或砂带机连接。

12、与现有技术相比，本实用新型可以获得包括以下技术效果：

13、本实用新型手持式圆柱状金属外圆磨样装置可根据圆柱试样尺寸灵活加工，配合金相磨抛设备进行圆柱表面的打磨与抛光，可任意处理表面的粗糙程度。该装置给使用者提供便利，方便使用，节约成本的同时提高了工作效率。

14、当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

技术特征：

1.一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置，适用于圆柱状金属的外圆打磨，其特征在于，所述磨样装置包括：耐磨块体、阻挡组件和圆柱磨样槽，所述圆柱磨样槽设置在耐磨块体底部，所述阻挡组件设置在圆柱磨样槽两端，所述圆柱磨样槽顶部与耐磨块体连接形成封闭空间，所述圆柱磨样槽底部设有离位型圆柱缺口，所述离位型圆柱缺口的缺口的最小距离小于圆柱磨样槽的内部最大横向距离。

2.根据权利要求1所述的磨样装置，其特征在于，所述圆柱磨样槽为圆柱形槽，所述圆柱磨样槽的内部最大距离为圆柱形槽的直径。

3.根据权利要求2所述的磨样装置，其特征在于，所述圆柱形槽的直径不小于待打磨圆柱状金属的直径，所述圆柱形槽的长度不小于待打磨圆柱状金属的长度。

4.根据权利要求1所述的磨样装置，其特征在于，所述圆柱磨样槽至少包括两个，任意两个圆柱磨样槽之间均互相平行设置。

5.根据权利要求1所述的磨样装置，其特征在于，所述阻挡组件为两组，其中一组阻挡组件固定设置在圆柱磨样槽的一端，另一组阻挡组件可活动设置在圆柱磨样槽的另一端，两组阻挡组件均垂直于圆柱磨样槽的径向方向。

6.根据权利要求5所述的磨样装置，其特征在于，每组阻挡组件均包括活动档把和限位挂钩，所述限位挂钩固定设置在耐磨块体底部的一端，所述活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部的另一端，所述限位挂钩为l型结构。

7.根据权利要求5所述的磨样装置，其特征在于，所述两组阻挡组件中固定设置在圆柱磨样槽的一端的阻挡组件，其活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部，另一端固定连接限位挂钩。

8.根据权利要求5所述的磨样装置，其特征在于，所述两组阻挡组件中可活动设置在圆柱磨样槽一端的阻挡组件，其活动档把一端可转动固定在耐磨块体底部，另一端活动连接限位挂钩。

9.根据权利要求1所述的磨样装置，其特征在于，所述离位型圆柱缺口呈水平状态，并且贯穿整个耐磨块体底部。

10.一种手持式圆柱状金属外圆磨样系统，包括上述权利要求1-9之一所述的磨样装置，其特征在于，所述磨样系统还包括金相磨抛机或砂带机，所述磨样装置设置在金相磨抛机或砂带机上方，放置在所述离位型圆柱缺口处的待打磨圆柱状金属与金相磨抛机或砂带机连接。

技术总结本技术提供了一种手持式圆柱状金属外圆磨样装置及系统，所述磨样装置包括：耐磨块体、阻挡组件和圆柱磨样槽，所述圆柱磨样槽设置在耐磨块体底部，所述阻挡组件设置在圆柱磨样槽两端，所述圆柱磨样槽顶部与耐磨块体连接形成封闭空间，所述圆柱磨样槽底部设有离位型圆柱缺口，所述离位型圆柱缺口的缺口的最小距离小于圆柱磨样槽的内部最大横向距离，本技术可根据圆柱试样尺寸灵活加工，配合金相磨抛设备进行圆柱表面的打磨与抛光，可任意处理表面的粗糙程度，该装置给使用者提供便利，方便使用，节约成本的同时提高了工作效率。技术研发人员：梁盛隆,林颖,刘文乐,王学林,尚成嘉受保护的技术使用者：阳江合金材料实验室技术研发日：20231120技术公布日：2024/7/18