一种等离子水洗式单腔废气处理设备的制作方法

本技术涉及废气净化，特别涉及一种等离子水洗式单腔废气处理设备。

背景技术：

1、半导体生产过程中使用的、或产生的气体，大多是具有毒性、能够对人类环境造成严重影响的气体。因此，在将这些气体排放到大气之前，必须经过净化处理。半导体生产过程中产生的这些气体种类繁多，必须根据不同气体的特性采用适当的方法进行净化处理。因此，为了净化处理这些毒性气体，必须使用复合式废气处理设备。

2、现有的复合式废气处理设备采用等离子燃烧水洗的单腔设计，6个进口可支持至多6个工艺连接，最大处理容量800slm，占地面积为0.8m2。现有的复合式废气处理设备存在以下问题：

3、不能同时处理更多制程。废气处理容量或能力偏小，无法满足客户大剂量废气处理的需求。废气的预热通道偏短，废气不能充分预热，导致某些难以处理的废气(nf3,cf4,sf6,c2f6等)不能充分高温燃烧分解，处理效率偏低。结构设计不合理，复合式废气处理设备的汇流装置(manifold)、反应腔的部件的安装维护不方便，不符合人体工程学。水箱(tank)因作隔板处理，导致粉尘清理不方便。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种等离子水洗式单腔废气处理设备，以解决上述技术问题。

2、为了解决以上问题，本实用新型通过以下技术方案实现：

3、一种等离子水洗式单腔废气处理设备，包括：反应腔100；位于所述反应腔100内部的内腔部101和外腔部102，所述内腔部101和所述外腔部102相互套设且间隔设置；所述外腔部102位于所述内腔部101和所述反应腔100内侧壁之间。

4、所述外腔部102的顶端与所述反应腔100的顶部连接，其底部与所述反应腔的内部底面之间具有第一间隙。

5、所述内腔部101的底端与所述反应腔100的底部连接，其顶部与所述反应腔的内部顶面之间具有第二间隙。所述内腔部101和所述外腔部102共同界定一反应空间。

6、多根进气管200，其设置在所述反应腔100的顶部上，用于向所述反应腔100)内通入待处理废气；所述待处理废气从所述外腔部102的外侧顶部流入，经所述第一间隙和所述第二间隙流入至所述反应空间。

7、点火装置500，设置在所述反应腔100的顶部上，用于在所述反应空间内产生等离子火焰；所述待处理废气与所述等离子火焰在所述反应空间内充分接触并发生燃烧反应。

8、水箱400，洗涤塔600，用于对反应后的气体进行再冷却和吸附。连接部300，其具有一个输入端和两个输出端，所述输入端连接所述反应腔100，一个输出端连接所述水箱400，另一个输出端连接所述洗涤塔600，所述连接部300用于采用冷却水对反应后的气体和副产物进行初冷却，以及将经过冷却的反应后的气体通入至所述洗涤塔600，而使冷却水通入至水箱400。

9、所述水箱400用于存储所述连接部300排出的冷却水和副产物。

10、可选地，所述连接部300为t型组件。

11、可选地，所述反应腔100呈长方体或正方体形。

12、可选地，所述进气管200的数量为至少12根。

13、可选地，还包括：汇流装置203，其设置在所述反应腔100的顶部，其与多根进气管200连通，用于将来自所述进气管的废气导入所述反应腔100。其中，8根所述进气管200中每两根一组，分别设置在所述反应腔100的四个侧面上，且连接处靠近所述反应腔100的顶端。4根所述进气管200分别设置在所述汇流装置203上，并通过所述汇流装置203通入至所述反应腔100内侧壁与所述外腔部102的外侧壁之间。

14、可选地，还包括：设备箱体800，其内部具有容纳空间，用于容纳所述等离子水洗式单腔废气处理设备；其中多根所述进气管200均从所述设备箱体800的顶部引出。移动轮801，其设置在所述设备箱体800的底部，用于移动所述等离子水洗式单腔废气处理设备。固定架802，其设置在所述设备箱体800的底部外侧，用于在使用所述等离子水洗式单腔废气处理设备时，固定所述设备箱体800。

15、可选地，还包括：移动支撑装置700，其设置在所述设备箱体800内，且与所述反应腔100的外侧壁滑动连接；用于将所述等离子水洗式单腔废气处理设备从所述设备箱体800内水平移出或移进。

16、可选地，所述移动支撑装置700为两组，分别设置在反应腔100相对的两个外侧壁上，每一组所述移动支撑装置700包括：轴支座701，其与所述反应腔100的外侧壁连接；滑块702，所述轴支座701设置在所述滑块702上；支撑架，所述支撑架设置在所述设备箱体800的内部底部上；用于支撑所述等离子水洗式单腔废气处理设备；滑杆703，所述滑杆703设置在所述支撑架上；所述滑块702滑动设置在所述滑杆703上，且沿所述滑杆703的延伸方向往复滑动。

17、可选地，所述水箱400包括：观察窗401，其设置在所述水箱400的侧面。水箱保养口403，其开设在所述水箱400的顶面上；所述水箱保养口403在所述水箱400内不需保养时处于密封状态；液位计402，用于检测所述水箱400内的液位；反应腔保养口，其设置在所述反应腔100的侧面上，所述反应腔保养口在所述反应腔不需清洁的情况时保持密封状态。

18、可选地，所述反应腔100处理待处理废气的容量为3000lpm及以下。

19、本实用新型至少具有以下技术效果之一：

20、本实用新型通过所述外腔部和内腔部的设置可以延长废气从进气管处进口到反应区域之间的路径，即增长废气的预热通道，以此充分预热废气，提高废气处理效率，促进其被充分燃烧分解。

21、本实用新型的反应腔呈方形，由此可以实现设置更多的进气管，例如至少12根进气管，且其排列从俯视角度看呈矩阵型分布，空间利用合理，减小占位空间的同时增加了处理制程，增大了废气处理剂量或容量，满足客户更大剂量废气处理需求，最大可达3000lpm。

22、本实用新型的反应腔采用移动支撑装置支撑，方便安装维护，省时省力。

23、本实用新型在所述反应腔侧壁上开设反应腔保养口，最大程度的清理反应腔内的残留物，如无必要，不必完全拆解反应腔等部件，保养维护方便，提高维护效率。

24、本实用新型在水箱顶部添加水箱保养口，粉尘清理方便，提高清理效率。

技术特征：

1.一种等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述连接部(300)为t型组件。

3.如权利要求2所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述反应腔(100)呈长方体或正方体型。

4.如权利要求3所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述进气管(200)的数量至少为12根。

5.如权利要求4所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，还包括：汇流装置(203)，其设置在所述反应腔(100)的顶部，其与多根进气管(200)连通，用于将来自所述进气管的废气导入所述反应腔(100)；

6.如权利要求5所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，还包括：设备箱体(800)，其内部具有容纳空间，用于容纳所述等离子水洗式单腔废气处理设备；其中多根所述进气管(200)均从所述设备箱体(800)的顶部引出；

7.如权利要求6所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，还包括：移动支撑装置(700)，其设置在所述设备箱体(800)内，且与所述反应腔(100)的外侧壁滑动连接；

8.如权利要求7所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述移动支撑装置(700)为两组，分别设置在反应腔(100)相对的两个外侧壁上，每一组所述移动支撑装置(700)包括：

9.如权利要求8所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述水箱(400)包括：观察窗(401)，其设置在所述水箱(400)的侧面；

10.如权利要求1所述的等离子水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述反应腔(100)处理待处理废气的容量为3000lpm及以下。

技术总结本技术公开了一种等离子水洗式单腔废气处理设备，反应腔包括：相互套设且间隔设置的内腔部和外腔部；外腔部的顶端与反应腔的顶部连接，其底部与反应腔的内部底面之间具有第一间隙；内腔部的底端与反应腔的底部连接，其顶部与反应腔的内部顶面之间具有第二间隙；内腔部和外腔部共同界定一反应空间；进气管，用于通入废气；废气从外腔部的外侧顶部流入，经第一间隙和第二间隙流入至反应空间；点火装置在反应空间内产生等离子火焰；废气发生燃烧反应；连接部，连接反应腔、水箱和洗涤塔，连接部对反应后的气体和副产物进行冷却，洗涤塔对反应后的气体进行再冷却和吸附；水箱存储排出的冷却水和副产物。本技术提高了废气处理效率和容量。技术研发人员：吴伟力,张丹,杨子威受保护的技术使用者：浙江亚笙半导体设备有限公司技术研发日：20231219技术公布日：2024/7/18