一种溶铜罐进液装置的制作方法

本技术涉及铜箔生产，具体为一种溶铜罐进液装置。

背景技术：

1、电解铜箔作为锂离子电池负极集流体和活性材料的载体,其性能直接影响电池的容量和循环寿命。现有溶铜罐放液时，由侧边进入到收集管的溶液，形成很大的翻涌，导致罐内随之进入后续槽罐中的铜粉增多，最终进入生箔槽参与电镀的铜粉增多，从而造成箔面毛刺缺陷。

2、电解铜箔分为光面和毛面。毛刺是毛面一种常见的缺陷，主要表现为铜箔毛面存在凸出的刺状物，用强光手电在收卷光面照射时有明显凸起，配戴白手套在铜箔毛面轻擦，有明显的刮擦感。毛刺会降低铜箔的抗氧化性和耐蚀性，影响印刷线路板和理离子电池的性能，因此电解铜箔生产中需要防止毛刺缺陷的产生。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种溶铜罐进液装置，该种溶铜罐进液装置通过设置基座、套筒以及进液管，将原有的侧边进液方式改为了正上方溢流进液，大大减少溶铜罐内溶液的翻涌，使得槽罐内的铜粉沉积在罐体下方，不会进入后续槽罐参与电镀，改善箔面毛刺问题，提升产品质量，同时也会减少为了改善毛刺而增加添加剂的耗量，降低了化工成本，达到降本增效的目的。

2、本实用新型的上述优化结构是通过以下技术方案得以实现的：一种溶铜罐进液装置，设置在溶铜罐内，包括设于所述溶铜罐壁底上的基座，所述基座上设有套筒，所述套筒顶部高于所述溶铜罐内液体的高度，所述套筒内设有进液管，所述进液管一端贯穿所述溶铜罐顶部，所述套筒内设有限位装置，所述限位装置可使所述进液管的出液口位于所述套筒底壁上方。

3、在一些实施例中，所述基座上设有螺纹槽，所述套筒底部设有外螺纹，所述套筒与所述螺纹槽螺纹配合。

4、在一些实施例中，所述限位装置包括至少三块限位板，多块所述限位板呈环状分布在所述套筒内壁上，多块所述限位板承托所述进液管。

5、在一些实施例中，所述限位装置还包括开设在所述进液管管口的限位槽，所述限位槽与所述限位板插接配合。

6、在一些实施例中，所述套筒与所述进液管之间设有多块折流板，多块所述折流板交替分布在所述套筒内壁上。

7、在一些实施例中，所述进液管为dn100的管道。

8、在一些实施例中，所述进液管的出液口与所述套筒底壁之间的高度为100mm。

9、在一些实施例中，所述套筒的内径为φ350mm。

10、在一些实施例中，所述套筒的高度为2900mm。

11、综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

12、该种溶铜罐进液装置通过设置在溶铜罐内设置基座，基座上设置套筒，套筒内设置进液管，避免了进液管与溶铜罐内液体的直接接触，可以有效地保护进液管不受高温、冷却、氧化等影响，延长了进液管的使用寿命；同时使进液管内溶液从套筒底部填充至套筒顶部并从套筒顶部出口溢流，并沿套筒外壁流入溶铜罐内，改变了原有溶铜罐侧边进液方式，可以减少溶铜罐中的翻涌现象，从而减少进入生箔槽内铜粉的数量，降低了箔面产生毛刺缺陷的可能性。

13、通过设置套筒和折流板，可以有效地控制进液量和进液速度，进一步降低进液管内液体流向溶铜罐内的速度。

14、本发明的溶铜罐进液装置通过设置套筒和基座，可以有效地隔离进液管和空气或者其他杂质的接触，减少了化学反应或者污染的风险；

技术特征：

1.一种溶铜罐进液装置，设置在溶铜罐(1)内，其特征在于，包括设于所述溶铜罐(1)壁底上的基座(2)，所述基座(2)上设有套筒(3)，所述套筒(3)顶部高于所述溶铜罐(1)内液体的高度，所述套筒(3)内设有进液管(4)，所述进液管(4)一端贯穿所述溶铜罐(1)顶部，所述套筒(3)内设有限位装置(5)，所述限位装置(5)可使所述进液管(4)的出液口位于所述套筒(3)底壁上方。

2.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述基座(2)上设有螺纹槽，所述套筒(3)底部设有外螺纹，所述套筒(3)与所述螺纹槽螺纹配合。

3.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述限位装置(5)包括至少三块限位板，多块所述限位板呈环状分布在所述套筒(3)内壁上，多块所述限位板承托所述进液管(4)。

4.根据权利要求3所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述限位装置(5)还包括开设在所述进液管(4)管口的限位槽，所述限位槽与所述限位板插接配合。

5.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述套筒(3)与所述进液管(4)之间设有多块折流板，多块所述折流板交替分布在所述套筒(3)内壁上。

6.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述进液管(4)为dn100的管道。

7.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述进液管(4)的出液口与所述套筒(3)底壁之间的高度为100mm。

8.根据权利要求1所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述套筒(3)的内径为φ350mm。

9.根据权利要求6所述的一种溶铜罐进液装置，其特征在于：所述套筒(3)的高度为2900mm。

技术总结本技术公开了一种溶铜罐进液装置，涉及铜箔生产技术领域，设置在溶铜罐内，包括设于溶铜罐壁底上的基座，基座上设有套筒，套筒顶部高于溶铜罐内液体的高度，套筒内设有进液管，进液管一端贯穿溶铜罐顶部，套筒内设有限位装置，限位装置可使进液管的出液口位于套筒底壁上方；该种溶铜罐进液装置通过设置基座、套筒以及进液管，将原有的侧边进液方式改为了正上方溢流进液，大大减少溶铜罐内溶液的翻涌，使得槽罐内的铜粉沉积在罐体下方，不会进入后续槽罐参与电镀，改善箔面毛刺问题，提升产品质量，同时也会减少为了改善毛刺而增加添加剂的耗量，降低了化工成本，达到降本增效的目的。技术研发人员：王锦辉,王贵权,方振锋,蔡刚,罗志超受保护的技术使用者：江西江铜华东铜箔有限公司技术研发日：20230927技术公布日：2024/4/29