用于改善腔室洁净度的清洁装置的制作方法

本技术涉及半导体制造设备，尤其涉及一种用于改善腔室洁净度的清洁装置。

背景技术：

1、电镀技术是一种广泛应用于微电子、半导体制造和其他工业领域的表面处理技术。在电镀过程中，目标工件(例如晶圆)被浸没在含有金属离子的电解液中。通过在工件和阳极之间建立电场，可以驱动金属离子向工件表面迁移并在其上沉积，形成均匀的金属涂层。

2、然而，电镀过程也会面临着一些挑战。随着电镀过程的进行，电解液中的金属离子会逐渐消耗，而杂质则会逐渐积累。这不仅会导致溶液的浓度和纯度下降，还会导致电化学特性的变化，从而影响沉积过程的稳定性和均匀性。此外，如果不进行适当的清洁和维护，溶液中的杂质会降低设备的工作寿命和可靠性。

3、传统的电镀设备通常包括腔室以及置于腔室内的阳极和用于支撑晶圆的结构。在电镀过程结束后，必须将废水排出，以准备下一个电镀循环或进行其他后续处理。但在直接排出废水过程中，会存在因为废水浓度不均而导致结晶，从而出现杂质沉积。

4、因此，为了确保腔室更为洁净，使得产品的品质更好，如何实现废水有效排出已成为业界亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于改善腔室洁净度的清洁装置，可以促使腔室内的物质流动，提升腔室内物质浓度的均匀性，避免杂质析出沉积，促进杂质的排出从而确保腔室的洁净。

2、为了解决上述问题，本实用新型提供了一种用于改善腔室洁净度的清洁装置，所述装置包括：第一磁性部件，所述第一磁性部件设置于所述腔室外侧；控制器，所述控制器设置于所述腔室外侧，并与所述第一磁性部件相连接，所述控制器能够驱动控制所述第一磁性部件旋转；第二磁性部件，所述第二磁性部件设置于所述腔室内侧，所述第二磁性部件与所述第一磁性部件形成磁性耦合，跟随所述第一磁性部件旋转，以促进所述腔室内的物质流动；排放口，所述排放口位于所述腔室底部，用于排出所述腔室内带杂质的物质。

3、在一些具体实施方式中，所述第一磁性部件设置在所述腔室底部的外侧，所述第二磁性部件设置在所述腔室底部的内侧。

4、在一些具体实施方式中，所述第一磁性部件设置在所述腔室侧壁的外侧，所述第二磁性部件设置在所述腔室侧壁的内侧。

5、在一些具体实施方式中，所述腔室内的物质选自液体和气体中的一种。

6、在一些具体实施方式中，所述控制器包含一马达，所述马达通过第一轴承连接至所述第一磁性部件，以驱动控制所述第一磁性部件旋转。

7、在一些具体实施方式中，所述第一磁性部件固定于一托盘上，所述第一轴承连接至所述托盘。

8、在一些具体实施方式中，所述腔室内侧设有固定轴，所述第二磁性部件通过第二轴承设置在所述固定轴上，所述第二磁性部件通过所述第二轴承相对于所述固定轴转动。

9、在一些具体实施方式中，所述第二磁性部件环绕所述固定轴设置，所述第二磁性部件与所述腔室内壁之间具有间隙。

10、在一些具体实施方式中，所述第二磁性部件与所述第一磁性部件具有互补的磁极排列。

11、在一些具体实施方式中，所述第一磁性部件包含一个或多个磁铁，所述第二磁性部件包含一个或多个磁铁。

12、上述技术方案中，所述腔室内侧安装的所述第二磁性部件与所述腔室外侧安装的所述第一磁性部件形成磁性耦合，当所述控制器驱动所述第一磁性部件旋转时，所述第二磁性部件也会进行同步旋转，旋转产生的动力使所述腔室内部的物质产生均匀流动，避免杂质沉积，同时能通过所述腔室底部的排放口将所述腔室内带杂质的物质排出，从而确保所述腔室的洁净。

13、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本实用新型。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。

技术特征：

1.一种用于改善腔室洁净度的清洁装置，其特征在于，所述装置包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一磁性部件设置在所述腔室底部的外侧，所述第二磁性部件设置在所述腔室底部的内侧。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一磁性部件设置在所述腔室侧壁的外侧，所述第二磁性部件设置在所述腔室侧壁的内侧。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述腔室内的物质选自液体和气体中的一种。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制器包含一马达，所述马达通过第一轴承连接至所述第一磁性部件，以驱动控制所述第一磁性部件旋转。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第一磁性部件固定于一托盘上，所述第一轴承连接至所述托盘。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述腔室内侧设有固定轴，所述第二磁性部件通过第二轴承设置在所述固定轴上，所述第二磁性部件通过所述第二轴承相对于所述固定轴转动。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第二磁性部件环绕所述固定轴设置，所述第二磁性部件与所述腔室内壁之间具有间隙。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二磁性部件与所述第一磁性部件具有互补的磁极排列。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一磁性部件包含一个或多个磁铁，所述第二磁性部件包含一个或多个磁铁。

技术总结本技术提供了一种用于改善腔室洁净度的清洁装置，所述装置包括：第一磁性部件，所述第一磁性部件设置于所述腔室外侧；控制器，所述控制器设置于所述腔室外侧，并与所述第一磁性部件相连接，所述控制器能够驱动控制所述第一磁性部件旋转；第二磁性部件，所述第二磁性部件设置于所述腔室的内侧，所述第二磁性部件与所述第一磁性部件形成磁性耦合，跟随所述第一磁性部件旋转，以促进所述腔室内的物质流动；排放口，所述排放口位于所述腔室底部，用于排出所述腔室内带杂质的物质。技术研发人员：秦杰,严翔,闫晓晖受保护的技术使用者：上海积塔半导体有限公司技术研发日：20231007技术公布日：2024/5/9