反射镜器件的制造方法与流程

1.本公开涉及反射镜器件的制造方法。背景技术：2.作为由soi(silicon on insulator：绝缘体上硅)基板构成的mems(micro electro mechanical systems：微电子机械系统)器件，已知有一种反射镜器件，其具备：包含基底部和在基底部支撑的可动部的结构体、以及设置在可动部的反射镜层。作为这样的反射镜器件的制造方法，有时在以可动部相对于基底部可动的方式释放可动部之后，通过清洗液清洗该晶圆(例如，参照专利文献1)。3.现有技术文献4.专利文献5.专利文献1：日本特开2006-334697号公报技术实现要素：6.发明所要解决的问题7.在上述那样的反射镜器件的制造方法中，由于通过清洗液清洗可动部被释放了的晶圆，所以有可能因清洗液带来的负荷而在多个可动部产生损伤。为了抑制这样的损伤的产生，考虑减弱清洗液的清洗强度，但是如此则有可能在晶圆残留异物。8.本公开的目的在于提供一种能够抑制反射镜器件的损伤的产生和异物的残留的反射镜器件的制造方法。9.用于解决问题的方式10.本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法，其中，反射镜器件具备：包含基底部和支撑在基底部的可动部的结构体、以及设置在可动部的反射镜层的反射镜器件的制造方法，该反射镜器件的制造方法具备：准备具有支撑层和器件层的晶圆的第一工序；在第一工序之后，通过将支撑层和器件层中的各个的一部分通过蚀刻从晶圆去除，以可动部相对于基底部可动的方式在晶圆形成狭缝，并且将分别与结构体对应的多个部分形成在晶圆的第二工序；在第二工序之后，实施通过清洗液清洗晶圆的湿法清洗的第三工序；以及在第三工序之后，将多个部分中的各个从晶圆切出的第四工序，在第二工序中，通过蚀刻，在晶圆中的、狭缝以外的部分，形成贯通晶圆的流通孔。11.在该反射镜器件的制造方法中，在第三工序中，通过清洗液清洗可动部相对于基底部可动(以下，称为“释放了可动部”)的状态的晶圆。由此，能够从释放了多个可动部的晶圆去除异物。此处，在第二工序中，通过蚀刻，在晶圆中的、狭缝以外的部分，形成有贯通晶圆的流通孔。因此，在第三工序的湿法清洗中，能够经由流通孔使清洗液流通，并且清洗释放了多个可动部的晶圆。因此，能够减小多个可动部因清洗液而承受的负荷，能够抑制在多个可动部产生损伤。由此，根据该反射镜器件的制造方法，能够抑制反射镜器件的损伤的产生和异物的残留。12.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，在晶圆中的、与可动部对应的部分形成反射镜层。由此，能够通过第三工序的湿法清洗将附着在反射镜层的异物去除。13.本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法，也可以为，在第三工序与第四工序之间，还具备：针对晶圆的表面中的、形成有反射镜层的第一表面和/或与第一表面为相反侧的第二表面，形成矫正层的第五工序。由此，能够抑制异物被矫正层覆盖。14.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，在将支撑层的一部分从晶圆去除后，实施用于去除保护膜的保护膜去除，在保护膜去除之后，完成多个部分。由此，能够在将支撑层的一部分从晶圆去除时通过第二工序的保护膜去除来去除附着在晶圆的异物。另外，能够在去除保护膜时，通过第三工序的湿法清洗将残留于晶圆的异物等去除。15.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在保护膜去除中，根据湿法工艺去除保护膜。如果根据湿法工艺去除保护膜，则有时例如由于器件层的凹凸而产生斑痕等。在这种情况下，能够通过第三工序的湿法清洗将该斑痕等去除。16.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，实施用于去除图案化构件的图案化构件去除，在图案化构件去除之后，完成多个部分。由此，在释放多个可动部之前去除图案化构件，因此能够抑制因图案化构件去除引起的反射镜器件的损伤的产生。17.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在图案化构件去除中，根据湿法工艺去除图案化构件。由此，由于在释放多个可动部之前去除图案化构件，因此，即使根据湿法工艺去除了图案化构件，也能够抑制反射镜器件的损伤的产生。18.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，在与可动部对应的部分形成多个流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，由于在可动部的附近变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够从与可动部对应的部分可靠地去除异物。19.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，在与基底部对应的部分形成流通孔。由此，能够在第三工序的湿法清洗中，经由形成在与基底部对应的部分的流通孔使清洗液流通。因此，能够减小晶圆因清洗液而承受的负荷，能够抑制反射镜器件的损伤的产生。20.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以可动部由连结部支撑于基底部的方式，形成狭缝，并且在与连结部对应的部分形成流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，由于在连结部的附近变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够保持连结部的强度并且从与连结部对应的部分可靠地去除异物。21.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在至少在一部分包含弯曲部的方式，形成流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，流通孔的弯曲部因清洗液而承受的负荷变小，因此，能够抑制晶圆的损伤的产生。22.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在从晶圆的厚度方向观察的情况下，与厚度方向垂直的方向上的流通孔的宽度变化的方式，形成流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够从晶圆可靠地去除异物。23.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在从晶圆的厚度方向观察的情况下，流通孔的一侧的边缘和与一侧的边缘为相反侧的另一侧的边缘呈不同的形状的方式，形成流通孔。由此，能够通过形成更大的流通孔，在第三工序的湿法清洗中，经由流通孔使更大量的清洗液流通。因此，能够从晶圆可靠地去除异物。24.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以形成有跨流通孔的连接部的方式，形成流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，晶圆通过连接部增强，因此，能够抑制晶圆的损伤的产生。25.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以流通孔与狭缝连通的方式，形成流通孔。由此，能够在第三工序的湿法清洗中，经由流通孔使更大量的清洗液流通。26.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在从晶圆的厚度方向观察的情况下，流通孔包含在与所厚度方向垂直的方向上彼此相邻的第一流通区域和第二流通区域的方式，将流通孔形成在与可动部对应的部分。由此，在第三工序的湿法清洗中，在第一流通区域与第二流通区域相邻的场所变得容易发生清洗液的紊流，因此，能够从晶圆可靠地去除异物。27.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在从厚度方向观察的情况下，在第一流通区域与第二流通区域排列的方向上，形成有跨第一流通区域的连接部的方式，形成流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，晶圆通过连接部增强，因此，能够抑制晶圆的损伤的产生。此外，在第三工序的湿法清洗中，能够经由第二流通区域使清洗液流通，因此，能够减小连接部因清洗液而承受的负荷，能够抑制在连接部产生损伤。28.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以在从厚度方向观察的情况下，第二流通区域包含在与厚度方向垂直的方向上的第二流通区域的宽度小于在与厚度方向垂直的方向上的第一流通区域的宽度的部分的方式，形成流通孔。由此，第一流通区域的宽度与第二流通区域的宽度不同，因此，在第三工序的湿法清洗中变得容易产生清洗液的紊流。因此，能够从晶圆可靠地去除异物。29.在本公开的一个方面的反射镜器件的制造方法中，也可以为，在第二工序中，以可动部由连结部支撑于基底部的方式，形成狭缝，并且以在从厚度方向观察的情况下，在第一流通区域与第二流通区域排列的方向上第二流通区域与连结部相邻的方式，形成第二流通区域。由此，在第三工序的湿法清洗中，能够经由第二流通区域使清洗液流通，因此，能够减小连结部因清洗液而承受的负荷，能够抑制在连结部产生损伤。30.发明的效果31.根据本公开，能够提供一种反射镜器件的制造方法，其能够抑制反射镜器件的损伤的产生和异物的残留。附图说明32.图1是第一实施方式的反射镜器件的俯视图。33.图2是沿图1所示的ii-ii线的反射镜器件的截面图。34.图3是图1所示的反射镜器件的制造方法的流程图。35.图4是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的截面图。36.图5是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的截面图。37.图6是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的图案化构件去除和保护膜去除的结构图。38.图7是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的截面图。39.图8是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的湿法清洗的结构图。40.图9是用于说明图1所示的反射镜器件的制造方法的截面图。41.图10是第二实施方式的反射镜器件的截面图。42.图11是图10所示的反射镜器件的制造方法的流程图。43.图12是用于说明图10所示的反射镜器件的制造方法的截面图。44.图13是用于说明图10所示的反射镜器件的制造方法的截面图。45.图14是用于说明图10所示的反射镜器件的制造方法的截面图。46.图15是用于说明图10所示的反射镜器件的制造方法的截面图。47.图16是第三实施方式的反射镜器件的俯视图。48.图17是图16所示的反射镜器件的放大图。49.图18是第四实施方式的反射镜器件的俯视图。50.图19是变形例的反射镜器件的俯视图。51.图20是变形例的反射镜器件的俯视图。52.图21是变形例的反射镜器件的俯视图。53.图22是变形例的反射镜器件的俯视图。具体实施方式54.以下，参照附图，详细说明本公开的一个实施方式。另外，在各图中对相同或者相当部分标注相同的附图标记，省略重复的说明。55.[第一实施方式][0056]如图1和图2所示，第一实施方式的反射镜器件1a具备结构体2a、反射镜层3和矫正层4。反射镜器件1a例如关于沿着x轴方向的第一轴线x1和沿着y轴方向的第二轴线x2中的各自呈轴对称的形状。反射镜器件1a也可以关于第一轴线x1和第二轴线x2的交点呈点对称的形状。反射镜器件1a也可以呈非对称的形状。反射镜器件1a是mems器件，例如用于光通信用光开关、光扫描仪等。[0057]结构体2a例如由soi基板构成。结构体2a具有支撑层11、器件层12和中间层13。支撑层11是第一硅层。器件层12是第二硅层。中间层13是配置在支撑层11与器件层12之间的绝缘层。作为一例，支撑层11的厚度为100μm～700μm程度，器件层12的厚度为20μm～200μm程度，中间层13的厚度为50nm～3000nm程度。[0058]结构体2a例如呈矩形板状。结构体2a具有第一表面2a和第二表面2b。第一表面2a是器件层12的与中间层13为相反侧的面。第二表面2b是结构体2a的与第一表面2a为相反侧的面。第二表面2b包含：支撑层11的与中间层13为相反侧的面、和器件层12的与第一表面2a为相反侧的面。[0059]结构体2a由基底(base)部21、第一可动部22、第二可动部23、一对第一连结部24和一对第二连结部25一体地构成。基底部21由支撑层11的一部分、器件层12的一部分和中间层13的一部分构成。在从z轴方向(结构体2a的厚度方向)观察的情况下，基底部21例如呈矩形环状。在从z轴方向观察的情况下，基底部21例如具有10mm×15mm程度的尺寸。[0060]第一可动部22、第二可动部23、第一连结部24和第二连结部25由器件层12的一部分构成。第一可动部22和第二可动部23分别由第一连结部24和第二连结部25支撑于基底部21。具体而言，在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22和第二可动部23配置在基底部21的内侧。更具体而言，在从z轴方向观察的情况下，第二可动部23经由贯通结构体2a的第二狭缝23a配置在基底部21的内侧。在从z轴方向观察的情况下，第二可动部23例如呈矩形环状。在从z轴方向观察的情况下，第二狭缝23a沿第二可动部23的外缘延伸。在第二狭缝23a，基底部21的支撑层11的端面11a、基底部21的器件层12的端面12a和基底部21的中间层13的端面13a分别露出。第二狭缝23a为了使第二可动部23相对于基底部21可动而形成。在本实施方式中，第二狭缝23a具有为了使第二可动部23相对于基底部21可动所需的最小限度的宽度。[0061]在从z轴方向观察的情况下，各第二连结部25分别配置在y轴方向上的第二可动部23的两侧。各第二连结部25例如沿y轴方向直线状地延伸。各第二连结部25，以第二可动部23相对于基底部21可动的方式，与基底部21和第二可动部23连结。具体而言，各第二连结部25，以第二可动部23可绕第二轴线x2摆动的方式，在第二轴线x2上将第二可动部23与基底部21相互连结。另外，第二狭缝23a包含在x轴方向上的各第二连结部25的两侧沿y轴方向延伸的部分。即，各第二连结部25经由第二狭缝23a配置在基底部21的内侧。[0062]在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22经由贯通结构体2a的第一狭缝22a配置在第二可动部23的内侧。在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22例如呈矩形状。在从z轴方向观察的情况下，第一狭缝22a沿第一可动部22的外缘延伸。第一狭缝22a为了使第一可动部22相对于基底部21可动而形成。在本实施方式中，第一狭缝22a具有为了使第一可动部22相对于基底部21可动所需的最小限度的宽度。[0063]在从z轴方向观察的情况下，各第一连结部24分别配置在x轴方向上的第一可动部22的两侧。各第一连结部24例如沿x轴方向直线状地延伸。各第一连结部24，以第一可动部22相对于基底部21可动的方式，与第二可动部23和第一可动部22连结。具体而言，各第一连结部24，以第一可动部22可绕沿着x轴方向的第一轴线x1摆动的方式，在第一轴线x1上将第一可动部22与第二可动部23相互连结。[0064]在结构体2a，形成有贯通结构体2a的多个流通孔21b、22b、23b。多个流通孔21b、22b、23b在结构体2a中的、第一狭缝22a和第二狭缝23a以外的部分形成。具体而言，在基底部21，例如形成有4个流通孔21b。在从z轴方向观察的情况下，各流通孔21b分别位于基底部21的各角部。4个流通孔21b关于第一轴线x1和第二轴线x2相互轴对称。在从z轴方向观察的情况下，各流通孔21b例如呈矩形状。各流通孔21b贯通基底部21。在各流通孔21b，支撑层11的端面11b、器件层12的端面12b和中间层13的端面13b分别露出。流通孔21b大于流通孔22b和流通孔23b中的各个。[0065]在第一可动部22，形成有一对流通孔22b。即，相对于1个第一可动部22形成有多个流通孔22b。一对流通孔22b关于第二轴线x2轴对称。在从z轴方向观察的情况下，各流通孔22b例如呈半圆环状。各流通孔22b贯通第一可动部22。[0066]在第二可动部23，形成有一对流通孔23b。即，相对于1个第二可动部23形成有多个流通孔23b。一对流通孔23b关于第二轴线x2轴对称。在从z轴方向观察的情况下，各流通孔23b例如呈半矩形环状。在从z轴方向观察的情况下，各流通孔23b沿第二可动部23的外缘延伸。各流通孔23b贯通第二可动部23。[0067]如图2所示，中间层13的端面13a以相对于支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a的双方不凹陷的方式形成。中间层13的端面13a、支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a相互为同一平面。同样地，中间层13的端面13b以相对于支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b的双方不凹陷的方式形成。中间层13的端面13b、支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b相互为同一平面。[0068]“中间层的端面相对于支撑层的端面和器件层的端面的双方不凹陷”是指，除“在中间层的端面相对于支撑层的端面和器件层的端面的双方凹陷的情况下，距支撑层的端面和器件层的端面中的任一方，中间层的端面均凹陷超过中间层的厚度的3倍的状态”以外的状态。因此，“中间层的端面、支撑层的端面和器件层的端面相互为同一平面状态”当然可说成“即使在中间层的端面相对于支撑层的端面和器件层的端面的双方凹陷的情况下，距支撑层的端面和器件层的端面中的任一方，中间层的端面也仅凹陷中间层的厚度的0.5倍的状态”也可以说成中间层的端面相对于支撑层的端面和器件层的端面的双方不凹陷。[0069]中间层13的端面13a相对于支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a的双方，优选为凹陷中间层13的厚度的3倍以下，更优选为2倍以下，进一步优选为1倍以下，最优选为0.5倍以下。换言之，中间层13的端面13a相对于支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a的双方，优选为凹陷不超过中间层13的厚度的3倍地，更优选为不超过2倍，进一步优选为不超过1倍，最优选为不超过0.5倍。同样地，中间层13的端面13b相对于支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b的双方，优选为凹陷中间层13的厚度的3倍以下，更优选为2倍以下，进一步优选为1倍以下，最优选为0.5倍以下。换言之，中间层13的端面13b相对于支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b的双方，优选为凹陷不超过中间层13的厚度的3倍，更优选为不超过2倍，进一步优选为不超过1倍，最优选为不超过0.5倍。[0070]反射镜层3设置在第一可动部22。具体而言，反射镜层3设置在结构体2a的第一表面2a中与第一可动部22对应的区域。在从z轴方向观察的情况下，反射镜层3配置为比一对流通孔22b更靠内侧。在从z轴方向观察的情况下，反射镜层3例如呈圆形。反射镜层3将第一轴线x1与第二轴线x2的交点作为中心位置(重心位置)地配置。反射镜层3例如由反射膜构成，该反射膜由铝、铝系合金、银、银系合金、金、电介质多层膜等构成。[0071]矫正层4形成在第二表面2b的整体。具体而言，矫正层4，在基底部21，形成在支撑层11的与中间层13为相反侧的面。矫正层4，在第一可动部22、第二可动部23、各第一连结部24和各第二连结部25，形成在器件层12的与反射镜层3为相反侧的面。矫正层4矫正第一可动部22、第二可动部23、各第一连结部24和各第二连结部25的翘曲等。矫正层4例如由氧化硅或氮化硅等材料构成。矫正层4例如也可以为铝等的金属薄膜。矫正层4的厚度例如为10nm～1000nm程度。[0072]反射镜器件1a还具备第一线圈221和第二线圈231。第一线圈221例如嵌入第一可动部22，在从z轴方向观察的情况下，在比一对流通孔22b更靠外侧(第一可动部22的外缘部)螺旋状地延伸。第二线圈231例如嵌入第二可动部23，在从z轴方向观察的情况下，在比一对流通孔23b更靠外侧(第二可动部23的外缘部)螺旋地延伸。第一线圈221和第二线圈231例如由铜等金属材料构成。另外，在图2中，省略第一线圈221和第二线圈231的图示。[0073]在以上那样构成的反射镜器件1a中，使设置有反射镜层3的第一可动部22绕相互正交的第一轴线x1和第二轴线x2摆动。具体而言，当经由设置在结构体2a的电极焊盘(省略图示)和配线(省略图示)向第二线圈231输入线性动作用的驱动信号时，通过与磁场产生部(省略图示)产生的磁场的相互作用，对第二线圈231作用洛伦兹力。通过利用该洛伦兹力与各第二连结部25的弹性力的平衡，能够使反射镜层3(第一可动部22)与第二可动部23一起绕第二轴线x2进行线性动作。[0074]另一方面，当经由电极焊盘和配线向第一线圈221输入谐振动作用的驱动信号时，通过与磁场产生部产生的磁场的相互作用，对第一线圈221作用洛伦兹力。除了该洛伦兹力之外，通过利用谐振频率下的第一可动部22的谐振，还能够使反射镜层3(第一可动部22)绕第一轴线x1进行谐振动作。[0075]接着，对反射镜器件1a的制造方法进行说明。首先，如图3和图4(a)所示那样，准备具有支撑层11、器件层12和中间层13的晶圆10w(步骤s1、第一工序)。晶圆10w具有表面(第一表面)10a和与表面10a为相反侧的背面(第二表面)10b。表面10a是成为结构体2a的第一表面2a的面。晶圆10w包含分别成为结构体2a的多个部分11w。部分11w是形成结构体2a之前的晶圆10w的一部分。反射镜器件1a的制造方法的各工序以晶圆级实施。另外，在图4、图5、图7和图9中，示出晶圆10w中的一个部分11w。以下，着眼于晶圆10w中的一个部分11w进行说明。[0076]接着，通过将支撑层11、器件层12和中间层13中的各个的一部分从晶圆10w去除，以第一可动部22和第二可动部23相对于基底部21可动的方式在晶圆10w形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，在晶圆10w形成分别与结构体2a对应的多个部分12wa(参照图7(b))(第二工序)。部分12wa是形成有结构体2a的晶圆10w的一部分。首先，通过蚀刻将器件层12的一部分从晶圆10w去除(步骤s2)。具体而言，将器件层12中的、与第一狭缝22a、第二狭缝23a、流通孔21b、22b、23b对应的部分去除。其结果是，形成器件层12的端面12a和端面12b。在步骤s2中，将第一线圈221、第二线圈231以及用于向第一线圈221和第二线圈231输入驱动信号的电极焊盘和配线等设置在器件层12。在步骤s2，在晶圆10w的表面10a中与第一可动部22对应的部分形成反射镜层3。反射镜层3例如通过金属的蒸镀形成。在步骤s2中，通过用于去除图案化构件的图案化构件去除(详情后述)，将用于器件层12的去除的图案化构件从晶圆10w去除。[0077]接着，如图4(b)所示那样，研磨晶圆10w的背面10b(步骤s3)。晶圆10w通过研磨背面10b而薄化。研磨了的晶圆10w的背面10b是成为结构体2a的第二表面2b的一部分的面。[0078]接着，如图5(a)所示那样，在晶圆10w的背面10b将图案化构件19图案化(patterning)(步骤s4)。具体而言，在背面10b中与基底部21对应的区域、且除与流通孔21b对应的区域以外的区域，设置图案化构件19。图案化构件19例如为抗蚀剂等。然后，如图5(b)所示那样，经由图案化构件19通过蚀刻，将支撑层11的一部分从晶圆10w去除(步骤s5)。具体而言，将支撑层11中的、比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分和与流通孔21b对应的部分去除。其结果是，形成支撑层11的端面11a和端面11b。在步骤s5中，以支撑层11的端面11a和端面11b分别与器件层12的端面12a和端面12b成为同一平面的方式，将支撑层11的一部分从晶圆10w去除。支撑层11的一部分例如通过使用博世工艺的反应性离子蚀刻(drie)去除。另外，在步骤s5中，在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除时，例如使用聚合物等作为保护膜。[0079]接着，如图6所示那样，实施图案化构件去除和保护膜去除(步骤s6)。首先，实施图案化构件去除。图案化构件去除是用于将图案化构件19从晶圆10w的背面10b去除(剥离)的步骤。在图案化构件去除中，在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除后，根据湿法工艺(wet process)去除图案化构件19。具体而言，首先，在呈箱状的承载器(carrier)50内放置多个晶圆10w。[0080]在承载器50的内壁面，形成有沿z轴方向每隔规定的间隔排列的多个槽(省略图示)。槽沿xy面延伸。在图案化构件去除中，通过将各晶圆10w嵌入各个槽，将多个晶圆10w沿z轴方向(晶圆10w的厚度方向)配置。即，在z轴方向上的晶圆10w的一侧和另一侧，分别配置有具有与晶圆10w相同的结构的其他晶圆10w。在彼此相邻的晶圆10w与其他晶圆10w之间，形成有第二区域r2。接着，在第二区域r2存在图案化构件去除液的状态下，去除图案化构件19。具体而言，如上述那样，在将多个晶圆10w和其他晶圆10w放置在承载器50内的状态下，使多个晶圆10w和其他晶圆10w浸渍于图案化构件去除液。图案化构件去除液例如容纳于液池。多个晶圆10w和其他晶圆10w，以承载器50的开口的朝向与图案化构件去除液的液面的朝向相同的方式，浸渍于图案化构件去除液。图案化构件去除液是用于将图案化构件19从晶圆10w去除的药液等。[0081]接着，在使多个晶圆10w浸渍于图案化构件去除液的状态下，沿x轴方向(与晶圆10w的厚度方向和图案化构件去除液的液面交叉的方向)使多个晶圆10w往复运动(摆动)。多个晶圆10w的往复运动通过使承载器50往复运动来实施。在图案化构件去除中，使多个晶圆10w以第二速度往复运动第二時间。“往复运动的速度”是指，每单位时间往复运动的次数。第二速度例如为70次/分钟程度。第二時间例如为40分钟程度。第二時间是使多个晶圆10w以第二速度往复运动的時间的累计。在图案化构件去除中，例如能够改变图案化构件去除液的种类，或者使多个晶圆10w的往复运动暂时停止。在图案化构件去除中，在通过湿法工艺去除图案化构件19后，使多个晶圆10w例如浸渍于水中规定時间。[0082]在图案化构件去除中，在去除了图案化构件19后，即，在使晶圆10w浸渍于水中规定時间之后，实施使晶圆10w干燥的第二旋转干燥。在第二旋转干燥中，通过使晶圆10w以第二旋转速度旋转第四時间，使晶圆10w干燥。当实施图案化构件去除时，如图7(a)所示那样，从晶圆10w去除图案化构件19。[0083]接着，实施保护膜去除。保护膜去除是用于将在步骤s5中用作保护膜的聚合物等从晶圆10w去除的步骤。在保护膜去除中，在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除后，根据使用保护膜去除液的湿法工艺去除保护膜。保护膜去除液是用于将聚合物等从晶圆10w去除的药液等。[0084]接着，如图7(b)所示那样，通过蚀刻将中间层13的一部分从晶圆10w去除(步骤s7)。具体而言，将中间层13中的、比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分和与流通孔21b对应的部分去除。其结果是，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a。此时，形成中间层13的端面13a。在步骤s7中，通过以第一可动部22和第二可动部23相对于基底部21可动的方式在晶圆10w形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，将分别与结构体2a对应的多个部分12wa形成在晶圆10w，完成多个部分12wa。即，释放多个第一可动部22和多个第二可动部23。“释放”是指，相对于基底部，使第一可动部或者第二可动部从固定状态成为可动状态。[0085]在步骤s7中，以第一可动部22和第二可动部23分别由各第一连结部24和各第二连结部25支撑在基底部21的方式，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a。[0086]此外，在步骤s7中，如上述那样，通过将中间层13的一部分从晶圆10w去除，在晶圆10w中的、第一狭缝22a和第二狭缝23a以外的部分形成贯通晶圆10w的多个流通孔21b、22b、23b。具体而言，在步骤s7中，在晶圆10w中的、与基底部21对应的部分，形成贯通晶圆10w的流通孔21b，在与第一可动部22对应的部分，形成贯通晶圆10w的流通孔22b，在与第二可动部23对应的部分，形成贯通晶圆10w的流通孔23b。此时，形成中间层13的端面13b。[0087]在步骤s7中，以中间层13的端面13a相对于支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a的双方不凹陷的方式实施蚀刻。在步骤s7中，以中间层13的端面13a与支撑层11的端面11a和器件层12的端面12a成为同一平面的方式实施蚀刻。同样地，在步骤s7中，以中间层13的端面13b相对于支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b的双方不凹陷的方式实施蚀刻。在步骤s7中，以中间层13的端面13b与支撑层11的端面11b和器件层12的端面12b成为同一平面的方式实施蚀刻。在步骤s7中，通过各向异性蚀刻将中间层13的一部分从晶圆10w去除。在步骤s7中，通过干法蚀刻将中间层13的一部分从晶圆10w去除。[0088]接着，如图8所示那样，实施湿法清洗(步骤s8，第三工序)。湿法清洗是用于将附着在晶圆10w的异物等去除的清洗。在湿法清洗中，通过清洗液(省略图示)清洗晶圆10w。具体而言，首先，在呈箱状的承载器60内放置多个晶圆10w和多个陪片晶圆(dummy wafer)(监控晶圆control wafer)20w。陪片晶圆20w的厚度例如为625μm程度。[0089]在承载器60的内壁面，形成有沿z轴方向每隔规定的间隔排列的多个槽(省略图示)。槽沿xy面延伸。在湿法清洗中，通过将各晶圆10w和各陪片晶圆20w嵌入各个槽，将多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w沿z轴方向(晶圆10w和陪片晶圆20w的厚度方向)交替地配置。即，在z轴方向上的晶圆10w的一侧和另一侧，分别配置有陪片晶圆20w。在彼此相邻的晶圆10w与陪片晶圆20w之间，形成有第一区域r1。z轴方向上的第一区域r1的宽度大于z轴方向上的第二区域r2的宽度。[0090]接着，在第一区域r1存在清洗液的状态下，清洗晶圆10w。具体而言，如上述那样，在将多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w放置在承载器60内的状态下，使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w浸渍于清洗液。清洗液例如容纳于液池。多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w，以承载器60的开口的朝向与清洗液的液面的朝向相同的方式，浸渍于清洗液。清洗液是用于将异物等从晶圆10w去除的药液等。接着，在使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w浸渍于清洗液的状态下，沿x轴方向(与晶圆10w的厚度方向和清洗液的液面交叉的方向)使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w往复运动(摆动)。多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w的往复运动通过使承载器60往复运动来实施。[0091]在湿法清洗中，使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w以第一速度往复运动第一時间。在步骤s8的湿法清洗中施加于晶圆10w的负荷，小于在步骤s6的图案化构件去除中施加于晶圆10w的负荷。即，步骤s8的湿法清洗的强度小于步骤s6的图案化构件去除的强度。同样地，在步骤s8的湿法清洗中施加于晶圆10w的负荷，小于在步骤s6的保护膜去除中施加于晶圆10w的负荷。即，步骤s8的湿法清洗的强度小于步骤s6的保护膜去除的强度。“施加于晶圆的负荷”是指对晶圆施加的机械的功(能量)的大小。例如，在步骤s8的湿法清洗中，使晶圆10w往复运动的速度越大，施加于晶圆10w的负荷就越大。此外，例如，在步骤s8的湿法清洗中，使晶圆10w往复运动的時间越长，施加于晶圆10w的负荷就越大。[0092]第一速度比第二速度小。第一速度例如为40次/分钟程度。第一時间比第二時间短。第一時间例如为20分钟程度。第一時间是使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w以第一速度往复运动的時间的累计。在湿法清洗中，例如能够改变清洗液的种类，或者使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w的往复运动暂时停止。在湿法清洗中，在通过清洗液清洗晶圆10w后，使多个晶圆10w和多个陪片晶圆20w例如浸渍于水中规定時间。[0093]在湿法清洗中，在清洗晶圆10w后，即，在使晶圆10w浸渍于水中规定時间之后，实施使晶圆10w干燥的第一旋转干燥。在第一旋转干燥中，使晶圆10w以第一旋转速度旋转第三時间。在步骤s8的第一旋转干燥中施加于晶圆10w的负荷，小于在步骤s6的第二旋转干燥中施加于晶圆10w的负荷。即，步骤s8的第一旋转干燥的强度小于步骤s6的第二旋转干燥的强度。例如，在步骤s8的第一旋转干燥中，使晶圆10w旋转的旋转速度越大，施加于晶圆10w的负荷就越大。此外，例如，在步骤s8的第一旋转干燥中，使晶圆10w旋转的時间越长，施加于晶圆10w的负荷就越大。第一旋转速度比第二旋转速度小。第一旋转速度例如为200rpm程度。第三時间例如为5分钟程度。[0094]接着，如图9(a)所示那样，对晶圆10w的表面中的、与形成有反射镜层3的表面10a为相反侧的背面10b形成矫正层4(步骤s9，第五工序)。矫正层4在支撑层11和器件层12各自的与反射镜层3为相反侧的面形成。接着，如图9(b)所示那样，将多个部分12wa中的各个从晶圆10w切出(步骤10，第四工序)。由此，制造多个反射镜器件1a。[0095]如以上说明的那样，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s8(第三工序)中，通过清洗液清洗释放了多个第一可动部22和第二可动部23的晶圆10w。由此，能够从释放了多个第一可动部22和第二可动部23的晶圆10w去除异物。当通过步骤s8的湿法清洗清洗释放了多个第一可动部22和第二可动部23的晶圆10w时，容易在多个第一可动部22和第二可动部23产生损伤。此处，在步骤s7(第二工序)中，通过蚀刻，在晶圆10w中的、第一狭缝22a和第二狭缝23a以外的部分，分别形成有贯通晶圆10w的流通孔21b、22b、23b。因此，在步骤s8的湿法清洗中，能够经由流通孔21b、22b、23b使清洗液流通，并且清洗释放了多个第一可动部22和第二可动部23的晶圆10w。因此，能够减小多个第一可动部22和第二可动部23因清洗液而承受的负荷，能够抑制在多个第一可动部22和第二可动部23产生损伤。由此，根据反射镜器件1a的制造方法，能够抑制反射镜器件1a的损伤的产生和异物的残留。此外，在z轴方向上的晶圆10w的一侧与另一侧之间，经由流通孔21b、22b、23b清洗液变得容易流通。因此，提高通过湿法清洗的清洗效率。[0096]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s2中，在晶圆10w中的、与第一可动部22对应的部分形成反射镜层3。由此，能够通过步骤s8的湿法清洗去除附着在反射镜层3的异物。[0097]此外，反射镜器件1a的制造方法在步骤s8与步骤s10之间具备对晶圆10w的背面10b形成矫正层4的步骤s9。由此，能够抑制异物被矫正层4覆盖。[0098]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s6中，在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除后，实施用于去除保护膜的保护膜去除，在保护膜去除之后，完成多个部分12wa。此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s6的保护膜去除中，根据湿法工艺去除保护膜。在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除时，如上述那样，使用聚合物等作为保护膜。在从晶圆10w去除支撑层11的一部分之后，有时该聚合物残留于晶圆10w。此外，起因于由于将器件层12的一部分从晶圆10w去除而晶圆10w成为具有凹凸的形状以及中间层13的一部分未从晶圆10w去除等，在保护膜去除中，有时保护膜去除液残留在形成于晶圆10w的反射镜层3的表面等。当该残留的保护膜去除液干燥时，可能产生斑痕。当聚合物和斑痕等残留在晶圆10w时，该聚合物或者斑痕等的存在成为反射镜器件1a的外观不良的原因，成品率可能下降。根据反射镜器件1a的制造方法，能够在将支撑层11的一部分从晶圆10w去除时通过保护膜去除来去除残留于晶圆10w的聚合物(异物)等。另外，在将保护膜去除时，能够通过步骤s8的湿法清洗来去除残留于晶圆10w的斑痕(异物)等。由此，能够抑制因反射镜器件1a的外观不良而引起的成品率的下降。[0099]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s6中，实施用于去除图案化构件19的图案化构件去除，在图案化构件去除之后，完成多个部分12wa。由此，在释放多个第一可动部22和第二可动部23之前去除图案化构件19，因此，能够抑制因图案化构件去除而引起的反射镜器件1a的损伤的产生。[0100]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s6的在图案化构件去除中，利用湿法工艺去除图案化构件19。由此，在释放多个第一可动部22和第二可动部23之前去除图案化构件19，因此，即使通过湿法工艺去除了图案化构件19，也能够抑制反射镜器件1a的损伤的产生。[0101]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s7中，在与第一可动部22和第二可动部23中的各个对应的部分形成多个流通孔22b和多个流通孔23b。由此，在步骤s8的湿法清洗中，由于在第一可动部22和第二可动部23的附近变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够从与第一可动部22和第二可动部23对应的部分可靠地去除异物。此外，能够从反射镜层3可靠地去除异物。[0102]此外，在反射镜器件1a的制造方法中，在步骤s7中，在与基底部21对应的部分形成有流通孔21b。由此，能够在步骤s8的湿法清洗中，除流通孔22b、23b之外还经由流通孔21b，使更大量的清洗液流通。因此，能够更可靠地减小晶圆10w因清洗液而承受的负荷，能够更可靠地抑制晶圆10w的损伤的产生。此外，可靠地提高通过湿法清洗的清洗效率。[0103][第二实施方式][0104]如图10所示，第二实施方式的反射镜器件1b主要在代替矫正层4而具备梁部5这点上与第一实施方式的反射镜器件1a不同。反射镜器件1b的其它与反射镜器件1a相同，因此省略详细的说明。[0105]反射镜器件1b的结构体2b具备多个梁部5。梁部5由支撑层11和中间层13的一部分构成。梁部5设置在第一可动部22。梁部5设置在器件层12的与反射镜层3为相反侧的面。梁部5例如沿y轴方向直线状地延伸。多个梁部5沿x轴方向每隔规定的间隔排列。多个梁部5也可以以在从z轴方向观察的情况下，例如呈放射状的方式配置。结构体2b也可以具备1个梁部5。在这种情况下，梁部5也可以在从z轴方向观察的情况下，例如呈圆环状。即，梁部5也可以呈圆筒状。梁部5也可以呈各种各样的形状。梁部5为了增强结构体2b而设置。在梁部5，支撑层11的端面11c以相对于中间层13的端面13c不凹陷的方式形成。支撑层11的端面11c和中间层13的端面13c相互为同一平面。在从z轴方向观察的情况下，支撑层11的端面11c和中间层13的端面13c位于比第一可动部22的端面(形成流通孔22b的端面)22c更靠内侧。[0106]接着，对反射镜器件1b的制造方法进行说明。反射镜器件1b的制造方法主要在代替矫正层4而形成梁部5这点上与第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法不同。反射镜器件1b的制造方法的其它与第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法相同，因此省略详细的说明。[0107]首先，如图11所示那样，与第一实施方式的步骤s1(参照图4(a))同样地，准备晶圆10w(步骤s21，第一工序)。接着，与第一实施方式同样地，通过蚀刻将支撑层11、器件层12和中间层13中的各个的一部分从晶圆10w去除，从而以第一可动部22和第二可动部23相对于基底部21可动的方式在晶圆10w形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，并且将分别与结构体2b对应的多个部分12wb(参照图15(a))形成在晶圆10w(第二工序)。首先，与第一实施方式的步骤s2同样地，通过蚀刻将器件层12的一部分从晶圆10w去除，将第一线圈221、第二线圈231、电极焊盘和配线等设置于器件层12，并且将反射镜层3形成在晶圆10w的表面10a(步骤s22)。接着，与第一实施方式的步骤s3(参照图4(b))同样地，研磨晶圆10w的背面10b(步骤s23)。[0108]接着，如图12(a)所示那样，与第一实施方式的步骤s4同样地在晶圆10w的背面10b将图案化构件29图案化(步骤s24)。接着，如图12(b)所示那样，经由图案化构件29通过蚀刻将支撑层11的一部分从晶圆10w去除(步骤s25)。在步骤s25中，仅去除厚度方向上的支撑层11的一部分。步骤s25的其它与第一实施方式的步骤s5相同。接着，与第一实施方式的步骤s6(参照图6)同样地，实施图案化构件去除和保护膜去除(步骤s26)。当实施图案化构件去除时，如图13(a)所示那样，图案化构件29从晶圆10w去除。[0109]接着，如图13(b)所示那样，在晶圆10w的背面10b将图案化构件39图案化(步骤s27)。具体而言，在背面10b中与基底部21对应的区域、且除与流通孔21b对应的区域以外的区域和背面10b中与梁部5对应的区域，设置图案化构件39。接着，如图14(a)所示那样，经由图案化构件39通过蚀刻将支撑层11的一部分从晶圆10w去除(步骤s28)。具体而言，将在支撑层11中比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分、且除与梁部5对应的部分以外的部分和与流通孔21b对应的部分去除。其结果是，形成支撑层11的端面11c。[0110]接着，再次实施图案化构件去除(步骤s29)。当再次实施图案化构件去除时，如图14(b)所示那样，从晶圆10w去除图案化构件39。接着，如图15(a)所示那样，通过蚀刻将中间层13的一部分从晶圆10w去除(步骤s30)。具体而言，将中间层13中比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分、且除与梁部5对应的部分以外的部分和与流通孔21b对应的部分去除。其结果是，形成中间层13的端面13c。在步骤s30中，以中间层13的端面13c相对于支撑层11的端面11c不凹陷的方式实施蚀刻。在步骤s30中，以中间层13的端面13c与支撑层11的端面11c成为同一平面的方式实施蚀刻。接着，与第一实施方式的步骤s8(参照图8)同样地，实施湿法清洗(步骤s31，第三工序)。接着，如图15(b)所示那样，将多个部分12wb中的各个从晶圆10w切出(步骤32，第四工序)。由此，制造多个反射镜器件1b。[0111]如以上说明的那样，根据反射镜器件1b的制造方法，与上述的第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法同样地，能够抑制反射镜器件1b的损伤的产生和异物的残留。[0112]此外，在反射镜器件1b的制造方法中，在步骤s30(第二工序)中，以中间层13的端面13c相对于支撑层11的端面11c不凹陷的方式，实施蚀刻。因此，梁部5不易从第一可动部22剥落。如果中间层13的端面13c相对于支撑层11的端面11c凹陷，则梁部5从第一可动部22剥落，其结果是，结构体2b有可能破损。此处，由于梁部5不易从第一可动部22剥落，所以抑制结构体2b的破损。在步骤s30之后，由于在步骤s31中实施湿法清洗，因此梁部5不易从第一可动部22剥落就特别重要。[0113][第三实施方式][0114]如图16所示，第三实施方式的反射镜器件1c主要以下点上与第一实施方式的反射镜器件1a不同，流通孔22b包含第一流通区域22d和第二流通区域22e、流通孔23b与第一狭缝22a连通、和在第二连结部25形成有流通孔25b。省略对反射镜器件1c的与反射镜器件1a相同的部分的详细说明。[0115]在从z轴方向观察的情况下，结构体2c的第一可动部22例如呈n边形状(n为4以上的自然数)。n优选为5以上的自然数。在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22例如呈八边形。在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22也可以例如呈圆形。第二连结部25配置在x轴方向上的第二可动部23的两侧。[0116]形成在第一可动部22的流通孔22b包含第一流通区域22d和多个第二流通区域22e。在从z轴方向观察的情况下，第一流通区域22d沿第一可动部22的外缘延伸。在从z轴方向观察的情况下，第一流通区域22d例如呈环状。在第一可动部22，形成有跨第一流通区域22d的多个连接部26。由此，第一流通区域22d分割成沿第一可动部22的外缘排列的多个区域。在从z轴方向观察的情况下，各连接部26在第一流通区域22d的周向上排列。[0117]在从z轴方向观察的情况下，多个第二流通区域22e位于第一流通区域22d的外侧。在从z轴方向观察的情况下，多个第二流通区域22e沿第一可动部22的外缘排列。在从z轴方向观察的情况下，各第二流通区域22e沿第一可动部22的外缘(八边形的各边)排列。这样，第一流通区域22d和第二流通区域22e在与z轴方向垂直的方向上彼此相邻。[0118]与z轴方向垂直的方向是指，在从z轴方向观察的情况下，沿着从第一流通区域的内侧朝向第一流通区域的外侧的方向的方向。与z轴方向垂直的方向是在从z轴方向观察的情况下的与第一可动部22的外缘垂直的方向。与z轴方向垂直的方向是在从z轴方向观察的情况下的第一可动部22的径向。以下，将与z轴方向垂直的方向称为“径向”。[0119]在从z轴方向观察的情况下，径向上的第二流通区域22e的宽度小于径向上的第一流通区域22d的宽度。第二流通区域22e也可以包含径向上的宽度小于径向上的第一流通区域22d的宽度的部分。换言之，第二流通区域22e也可以包含径向上的宽度为径向上的第一流通区域22d的宽度以上的部分。[0120]形成在第二可动部23的流通孔(流通辅助区域)23b与第一狭缝22a连通。具体而言，流通孔23b通过第一狭缝22a的一部分在x轴方向上向第一可动部22的相反侧扩展而形成。在从z轴方向观察的情况下，由第一狭缝22a和流通孔23b构成的区域例如具有矩形状的外形。另外，在图16中，以虚线表示流通孔23b与第一狭缝22a的边界线。在各第二连结部25，分别形成有一对流通孔25b。在各第二连结部25，一对流通孔25b在y轴方向上排列。各流通孔25b贯通第二连结部25。[0121]如图16和图17所示，第一可动部22中的、第一流通区域22d的内侧的部分，构成主体部30。第一可动部22中的、第一流通区域22d的外侧的部分，构成环状部40。在俯视中，主体部30呈圆形，也可以形成为椭圆形状、四边形状、菱形状等任意的形状。俯视图中的主体部30的中心和第一轴线x1与第二轴线x2的交点一致。环状部40以在俯视中隔着第一流通区域22d包围主体部30的方式形成为环状。环状部40例如在俯视中具有八边形的外缘和内缘。多个连接部26将主体部30与环状部40相互连结。[0122]环状部40具有：一对第一部分41、一对第二部分42和二对第三部分(倾斜部)43。一对第一部分41位于x轴方向上的主体部30的两侧。各第一部分41沿y轴方向延伸设置。一对第二部分42位于y轴方向上的主体部30的两侧。各第二部分42沿x轴方向延伸设置。二对第三部分43分别位于第一部分41与第二部分42之间，与第一部分41和第二部分42连接。各第三部分43沿与x轴方向和y轴方向交叉的方向延伸。各第三部分43与第一连结部24和第二连结部25的中心线(第一轴线x1)斜交。[0123]根据各第三部分43沿与x轴方向和y轴方向交叉的方向延伸的结构，与环状部40例如呈矩形环状的情况相比，能够使各第三部分43更靠近第一轴线x1。因此，能够通过使第一可动部22的质量集中于靠近第一轴线x1的区域，使绕第一轴线x1的第一可动部22的惯性矩降低。换言之，在第一可动部22从z轴方向观察的情况下呈n边形的情况下，n越大，越能够通过使第一可动部22的质量集中于靠近第一轴线x1的区域，使绕第一轴线x1的第一可动部22的惯性矩降低。由此，能够降低用于驱动第一可动部22的驱动电力。[0124]在各第一部分41，分别形成有第二流通区域22e。各第一部分41具有：相对于该第二流通区域22e与主体部30为相反侧的第一框架部41a、和相对于第二流通区域22e与第一框架部41a为相反侧的第二框架部41b。第一框架部41a是第一可动部22的第二流通区域22e的外侧的部分。第二框架部41b是第一可动部22的第一流通区域22d与第二流通区域22e之间的部分。第一框架部41a和第二框架部41b沿第二流通区域22e延伸。径向上的第一框架部41a的宽度d1与径向上的第二框架部41b的宽度d2大致相同。[0125]在各第一部分41，第二流通区域22e以关于第一轴线x1成为轴对称的方式配置。即，在各第一部分41，第二流通区域22e在第一连结部24和第二连结部25的中心线上形成在与第一连结部24相邻的位置。由此，例如在第一连结部24或者第二连结部25产生应力，并且该应力传递至第一可动部22的情况下，第一部分41的第二流通区域22e附近的部分局部形变，其结果是，抑制该应力传递至第一可动部22的主体部30。由此，能够抑制反射镜层3的形变等。[0126]在各第二部分42，分别形成有第二流通区域22e。各第二部分42具有：相对于该第二流通区域22e与主体部30为相反侧的第一框架部42a、和相对于第二流通区域22e与第一框架部42a为相反侧的第二框架部42b。第一框架部42a是第一可动部22的第二流通区域22e的外侧的部分。第二框架部42b是第一可动部22的第一流通区域22d与第二流通区域22e之间的部分。第一框架部42a和第二框架部42b沿第二流通区域22e延伸。径向上的第一框架部42a的宽度d3大于径向上的第二框架部42b的宽度d4。在各第二部分42，第二流通区域22e在与第一连结部24和第二连结部25的中心线分离的位置形成。[0127]各第二框架部42b作为应力缓和区域发挥功能。具体而言，例如在第一可动部22受到来自外部的应力的情况下，第二框架部42b局部形变，其结果是，抑制该应力传递至第一可动部22的主体部30。由此，能够抑制反射镜层3的形变等。[0128]各第二部分42通过连接部26与主体部30连结。具体而言，连接部26连结第二框架部42b与主体部30。在各第二部分42，连接部26在径向(第一流通区域22d与第二流通区域22e排列的方向)上跨第一流通区域22d。在各第二部分42，连接部26在径向上跨第一流通区域22d的与第二流通区域22e重合的部分。连结第二部分42与主体部30的连接部26形成在相对于第三部分43与第一连结部24为相反侧的第一流通区域22d。[0129]在各第二部分42，连接部26在径向上与第二流通区域22e相邻。即，连接部26与第二流通区域22e对应地形成。在各第二部分42，连接部26在x轴方向上的第二流通区域22e的大致中央的位置与第二框架部42b连结。由此，能够在x轴方向上的连接部26的两侧均等地配置第二框架部42b。因此，能够高效地抑制应力传递至第一可动部22的主体部30。[0130]在各第三部分43，分别形成有第二流通区域22e。各第三部分43具有：相对于该第二流通区域22e与主体部30为相反侧的第一框架部43a、和相对于第二流通区域22e与第一框架部43a为相反侧的第二框架部43b。第一框架部43a是第一可动部22的第二流通区域22e的外侧的部分。第二框架部43b是第一可动部22的第一流通区域22d与第二流通区域22e之间的部分。第一框架部43a和第二框架部43b沿第二流通区域22e延伸。径向上的第一框架部43a的宽度d5大于径向上的第二框架部43b的宽度d6。[0131]各第二框架部43b作为应力缓和区域发挥功能。具体而言，例如在第一可动部22受到来自外部的应力的情况下，第二框架部43b局部形变，其结果是，抑制该应力传递至第一可动部22的主体部30。由此，能够抑制反射镜层3的形变等。[0132]各第三部分43通过连接部26与主体部30连结。具体而言，连接部26连结第二框架部43b与主体部30。在各第三部分43，连接部26在径向(第一流通区域22d与第二流通区域22e排列的方向)上跨第一流通区域22d。在各第三部分43，连接部26在径向上跨第一流通区域22d的与第二流通区域22e重合的部分。连结第三部分43与主体部30的连接部26形成在连结第二部分42与主体部30的连接部26和第一连结部24之间的第一流通区域22d。连结第三部分43与主体部30的连接部26形成在第一流通区域22d的与第三部分43重合的部分。[0133]在各第三部分43，连接部26在径向上与第二流通区域22e相邻。即，连接部26与第二流通区域22e对应地形成。在各第三部分43，连接部26在相对于第二流通区域22e的中心线x3与第一连结部24为相反侧的位置与第二框架部43b连结。在各第三部分43，连接部26在径向上形成在第一流通区域22d的与第二流通区域22e重合的部分中的、与第一连结部24为相反侧的部分。即，在各第三部分43，连接部26在与第一连结部24分离的位置与第二框架部43b连结。由此，在各第三部分43，第二框架部43b的第一连结部24侧的一端(靠近第一连结部24的一端)至连接部26的距离变长。即，第二框架部43b中的、从第一连结部24传到的应力被缓和的区域变长。因此，有效地抑制例如从第一连结部24传递的应力经由该连接部26传递至第一可动部22的主体部30。由此，能够有效地抑制反射镜层3的形变等。另外，中心线x3是在第三部分43通过第二流通区域22e的延伸方向上的中心，且沿径向延伸的线。[0134]在第一流通区域22d的与第三部分43重合的部分，也可以不形成连接部26。也可以在第一流通区域22d的比第三部分43更靠第一连结部24侧的部分形成有连接部26。[0135]第一可动部22，在从z轴方向观察的情况下，呈n边形的情况下，n越大(例如n为8的情况)，与第一可动部22例如呈矩形状的情况相比，将各第二部分42与主体部30连结的一对连接部26与第一连结部24的距离(沿着第一可动部22的外缘的距离)越小。其结果是，从第一连结部24经由该一对连接部26传递至主体部30的应力有可能增加。因此，优选为，通过不仅设置该一对连接部26，而且如上述那样，在该连接部26与第一连结部24之间也设置连接部26来抑制应力传递至主体部30。此外，特别优选为，在与第二部分42不同的第三部分43与主体部30之间设置连接部26。通过各连接部26将第二部分42和第三部分43分别与主体部30连结，能够更加减少从第一连结部24传递至主体部30的应力。在本实施方式中，如上所述，一对第二部分42和二对第三部分43通过三对连接部26与主体部30连结。[0136]反射镜器件1c的第一线圈221在从z轴方向观察的情况下，在比第一流通区域22d更靠外侧(第一可动部22的外缘部)呈螺旋形延伸。具体而言，第一线圈221，在各第一部分41配置在第一流通区域22d与第二流通区域22e之间(第一轴线x1上存在的第一流通区域22d与第二流通区域22e之间)，在各第二部分42和各第三部分43，配置在比第二流通区域22e更靠外侧(与连接部26对应地设置的第二流通区域22e与第一可动部22的外缘之间)。即，第一线圈221，在各第一部分41设置在第二框架部41b，在各第二部分42和各第三部分43设置在第一框架部42a和第一框架部43a。第一线圈221例如是驱动线圈和/或感测线圈。[0137]当第一线圈221在各第一部分41配置在第二框架部41b时，由于在第一连结部24与第一线圈221之间存在第一框架部41a，因此，例如能够抑制在第一连结部24或第二连结部25产生的应力传递至第一线圈221。由此，能够防止第一线圈221的损伤。此外，当第一线圈221在各第二部分42和各第三部分43配置在第一框架部42a和第一框架部43a时，能够避开作为相对容易形变的应力缓和区域发挥作用的第二框架部42b和第二框架部43b，能够防止第一线圈221的损伤。此外，当第一线圈221在各第二部分42和各第三部分43配置在第一框架部42a和第一框架部43a时，能够使径向上的第二框架部42b的宽度d4和径向上的第二框架部43b的宽度d6充分地小，能够充分地发挥第二框架部42b和第二框架部43b的作为应力缓和区域的功能。[0138]接着，对反射镜器件1c的制造方法进行说明。反射镜器件1c的制造方法主要在以下点上与第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法不同，形成包含第一流通区域22d和第二流通区域22e的流通孔22b、形成与第一狭缝22a连通的流通孔23b、以及在第二连结部25形成流通孔25b。省略对反射镜器件1c的制造方法的与反射镜器件1a的制造方法相同的部分的详细说明。[0139]在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，将器件层中的、与第一狭缝22a、第二狭缝23a、第一流通区域22d中除连接部26以外的区域、第二流通区域22e、流通孔23b和流通孔25b对应的部分去除。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，将中间层中的、比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分去除。其结果是，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，释放多个第一可动部22和多个第二可动部23。[0140]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，如上述那样，通过将中间层13的一部分从晶圆去除，从而在晶圆中的、第一狭缝22a和第二狭缝23a以外的部分形成贯通晶圆的多个流通孔22b、23b、25b。具体而言，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，在晶圆中的、与第一可动部22对应的部分形成贯通晶圆的流通孔22b，在与第二可动部23对应的部分，形成贯通晶圆的流通孔23b，在与第二连结部25对应的部分，形成贯通晶圆的流通孔25b。[0141]具体而言，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以流通孔23b与第一狭缝22a连通的方式，形成流通孔23b。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以在在从z轴方向观察的情况下，流通孔22b包含在径向上彼此相邻的第一流通区域22d和第二流通区域22e的方式，将流通孔22b形成在与第一可动部22对应的部分。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以在从z轴方向观察的情况下，在径向上形成跨第一流通区域22d的连接部26的方式，形成流通孔22b。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以在从z轴方向观察的情况下，包含径向上的第二流通区域22e的宽度小于径向上的第一流通区域22d的宽度的部分的方式，形成流通孔22b。[0142]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以第一可动部22通过第一连结部24支撑在基底部21的方式，形成第一狭缝22a。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以在从z轴方向观察的情况下，在径向上第二流通区域22e与第一连结部24相邻的方式，形成第二流通区域22e。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，以第二可动部23通过第二连结部25支撑在基底部21的方式，形成第二狭缝23a。此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在第二工序中，在与第二连结部25对应的部分形成流通孔25b。[0143]如以上说明的那样，根据反射镜器件1c的制造方法，与上述的第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法同样地，能够抑制反射镜器件1c的损伤的产生和异物的残留。[0144]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以第一可动部22和第二可动部23分别由第一连结部24和第二连结部25支撑于基底部21的方式，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，并且在与第二连结部25对应的部分形成流通孔25b。由此，在步骤s7的湿法清洗中，由于在第二连结部25的附近变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够保持第二连结部25的强度并且从与第二连结部25对应的部分可靠地去除异物。[0145]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以流通孔23b与第一狭缝22a连通的方式，形成流通孔23b。由此，在步骤s7的湿法清洗中，能够经由流通孔23b使更大量的清洗液流通。[0146]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以在从z轴方向观察的情况下，流通孔22b包含在径向上彼此相邻的第一流通区域22d和第二流通区域22e的方式，将流通孔22b形成在与第一可动部22对应的部分。由此，在步骤s8的湿法清洗中，由于在第一流通区域22d与第二流通区域22e相邻的场所变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够从晶圆10w可靠地去除异物。[0147]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以在从z轴方向观察的情况下，形成有在径向上跨第一流通区域22d的连接部26的方式，形成流通孔22b。由此，在步骤s8的湿法清洗中，由于晶圆10w通过连接部26增强，因此，能够抑制晶圆10w的损伤的产生。此外，在步骤s8的湿法清洗中，由于能够经由第二流通区域22e使清洗液流通，因此，能够减小连接部26因清洗液而承受的负荷，并且能够抑制在连接部26产生损伤。[0148]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以在从z轴方向观察的情况下，第二流通区域22e包含径向上的第二流通区域22e的宽度小于径向上的第一流通区域22d的宽度的部分的方式，形成流通孔22b。由此，由于第一流通区域22d的宽度与第二流通区域22e的宽度不同，因此，在步骤s8的湿法清洗中变得容易产生清洗液的紊流。因此，能够从晶圆10w可靠地去除异物。[0149]此外，在反射镜器件1c的制造方法中，在步骤s7中，以第一可动部22和第二可动部23分别由第一连结部24和第二连结部25支撑于基底部21的方式，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，以在从z轴方向观察的情况下，在第一流通区域22d与第二流通区域22e排列的方向上第二流通区域22e与第一连结部24相邻的方式，形成第二流通区域22e。由此，在步骤s8的湿法清洗中，由于能够经由第二流通区域22e使清洗液流通，因此，能够减小第一连结部24因清洗液而承受的负荷，能够抑制在第一连结部24产生损伤。[0150][第四实施方式][0151]如图18所示，第四实施方式的反射镜器件1d主要在第一可动部22形成有流通孔22f这点上和流通孔23b与第一狭缝22a连通这点上，与第一实施方式的反射镜器件1a不同。省略对反射镜器件1d的与反射镜器件1a相同的部分的详细说明。[0152]在结构体2d的第一可动部22，形成有流通孔22f。在从z轴方向观察的情况下，流通孔22f沿第一可动部22的外缘延伸。在从z轴方向观察的情况下，流通孔22f例如呈环状。在第一可动部22，形成有跨流通孔22f的多个连接部26。在第一可动部22，例如形成有4个连接部26。在从z轴方向观察的情况下，各连接部26分别形成在y轴方向上的第一可动部22的两端部。由此，流通孔22b被分割成多个区域。[0153]第一可动部22中的、流通孔22f的内侧的部分构成主体部30。第一可动部22中的、流通孔22f的外侧的部分构成环状部40。在俯视中，主体部30呈圆形，也可以形成为椭圆形状、四边形状、菱形状等任意的形状。俯视图中的主体部30的中心和第一轴线x1与第二轴线x2的交点一致。环状部40以在俯视中隔着流通孔22f包围主体部30的方式形成为环状。环状部40在俯图视中具有六边形的外形，也可以具有圆形状、椭圆形状、四边形状、菱形状等任意的外形。主体部30与环状部40，通过多个连接部26相互连结。[0154]反射镜器件1d的第二可动部23形成为框状，以包围第一可动部22的方式配置在基底部21的内侧。第二可动部23具有：一对第一连接部41a、41b；一对第二连接部42a、42b；一对第一直线状部43a、43b；一对第二直线状部44a、44b；一对第三直线状部45a、45b；以及一对第四直线状部46a、46b。第二可动部23具有在俯视中关于第一轴线x1和第二轴线x2中的各个对称的形状。在以下的说明中，关于第一轴线x1或者第二轴线x2对称是指俯视图中的对称。[0155]第一连接部41a、41b位于x轴方向上的第一可动部22的两侧。即，各第一连接部41a、41b具有在俯视中与第一可动部22在x轴方向上相对的部分。各第一连接部41a、41b沿y轴方向延伸。[0156]第二连接部42a、42b位于y轴方向上的第一可动部22的两侧。即，各第二连接部42a、42b具有在俯视中与第一可动部22在y轴方向上相对的部分。各第二连接部42a、42b沿x轴方向延伸设置。[0157]第一直线状部43a、43b位于x轴方向上的第二连接部42a的两侧，并且与第二连接部42a连接。各第一直线状部43a、43b沿x轴方向延伸。第一直线状部43a、43b关于y轴相互对称地配置。第二直线状部44a、44b位于x轴方向上的第二连接部42b的两侧，并且与第二连接部42b连接。各第二直线状部44a、44b沿x轴方向延伸。第二直线状部44a、44b关于y轴相互对称地配置。[0158]第三直线状部45a、45b位于相对于各第一直线状部43a、43b与第二连接部42a为相反侧，并且与第一直线状部43a、43b和第一连接部41a、41b连接。在俯视中，第三直线状部45a沿相对于x轴和y轴中的各个倾斜45度的方向延伸。第三直线状部45b相对于第三直线状部45a关于y轴对称地延伸。[0159]第四直线状部46a、46b位于相对于各第二直线状部44a、44b与第二连接部42b为相反侧，并且与第二直线状部44a、44b和第一连接部41a、41b连接。第四直线状部46a相对于第三直线状部45a关于x轴对称地延伸。第四直线状部46b相对于第四直线状部46a关于y轴对称地延伸，并且相对于第三直线状部45b关于x轴对称地延伸。[0160]各第一连结部24在第一连接部41a、41b与第二可动部23连接。在本实施方式中，为了缓和作用于第一连结部24的应力，各第一连结部24的第一可动部22侧的端部的宽度(y轴方向上的宽度)越靠近第一可动部22越宽，第二可动部23侧的端部的宽度(y轴方向上的宽度)越靠近第二可动部23越宽。[0161]各第二连结部25在第二连接部42a、42b与第二可动部23连接。各第二连结部25在俯视中蜿蜒地延伸。各第二连结部25具有多个直线状部和多个折返部。直线状部沿y轴方向延伸，并且在x轴方向上排列配置。折返部将相邻的直线状部的两端交替地连结。[0162]形成在第二可动部23的流通孔(流通辅助区域)23b与第一狭缝22a连通。流通孔23b包含4个第一部分23c和2个第二部分23d。在从z轴方向观察的情况下，各第一部分23c在第一可动部22的外侧关于第一轴线x1和第二轴线x2相互轴对称地配置。各第一部分23c通过第一狭缝22a的一部分在x轴方向上向第一可动部22的相反侧扩展而形成。各第二部分23d分别在y轴方向上的第一可动部22的两侧，位于一对第一部分23c之间。各第二部分23d通过第一狭缝22a的一部分在y轴方向上向第一可动部22的相反侧扩展而形成。各第二部分23d分别与各第一狭缝22a连通。在图18中，以虚线表示流通孔23b与第一狭缝22a的边界线。[0163]反射镜器件1d还具备一对线圈14、15。各线圈14、15以包围第一可动部22的方式设置在第二可动部23，在俯视中(从与配置有各线圈14、15的平面正交的方向观察的情况下)呈螺旋形。各线圈14、15沿包含x轴和y轴的平面配置。各线圈14、15绕第一可动部22卷绕多圈。一对线圈14、15以在俯视中在第二可动部23的宽度方向上交错排列的方式配置。在第一可动部22未设置线圈。[0164]接着，对反射镜器件1d的制造方法进行说明。反射镜器件1d的制造方法主要在以下点上与第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法不同，在第一可动部22形成流通孔22f，以及形成与第一狭缝22a连通的流通孔23b。省略对反射镜器件1d的制造方法的与反射镜器件1a的制造方法相同的部分的详细说明。[0165]在反射镜器件1d的制造方法中，在第二工序中，将器件层中的、与第一狭缝22a、第二狭缝23a、流通孔22f和流通孔23b对应的部分去除。此外，在反射镜器件1d的制造方法中，在第二工序中，将中间层中的、比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分去除。其结果是，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a，释放多个第一可动部22和多个第二可动部23。[0166]此外，在反射镜器件1d的制造方法中，在第二工序中，如上述那样，通过将中间层13的一部分从晶圆去除，从而在晶圆中的、第一狭缝22a和第二狭缝23a以外的部分形成贯通晶圆的多个流通孔22f、23b。具体而言，在反射镜器件1d的制造方法中，在第二工序中，在晶圆中的、与第一可动部22对应的部分，形成贯通晶圆的22f，在与第二可动部23对应的部分，形成贯通晶圆的流通孔23b。[0167]如以上说明的那样，根据反射镜器件1d的制造方法，与上述的第一实施方式的反射镜器件1a的制造方法同样地，能够抑制反射镜器件1d的损伤的产生和异物的残留。[0168][变形例][0169]以上，对本公开的一个实施方式进行了说明，但本公开并不限定于上述的实施方式。[0170]在各实施方式中，示出了依次将器件层12的一部分、支撑层11的一部分和中间层13的一部分从晶圆10w去除的例子，但是并不限定于此。也可以依次将支撑层11的一部分、器件层12的一部分和中间层13的一部分从晶圆10w去除。在这种情况下，在将中间层13的一部分从晶圆10w去除之前，实施图案化构件去除和保护膜去除。此外，也可以依次将支撑层11的一部分、中间层13的一部分和器件层12的一部分从晶圆10w去除。在这种情况下，在将器件层12的一部分从晶圆10w去除之前，实施图案化构件去除和保护膜去除。即，在这些情况下，在图案化构件去除和保护膜去除之后，释放第一可动部22和第二可动部23即可。[0171]此外，在各实施方式中，示出了在图案化构件去除中，根据湿法工艺去除图案化构件19、29、39的例子，也可以在图案化构件去除中，根据干法工艺将图案化构件19、29、39从晶圆10w去除。同样地，在各实施方式中，示出了在保护膜去除中，根据湿法工艺将保护膜去除的例子，也可以在保护膜去除中，根据干法工艺将保护膜从晶圆10w去除。在这些情况下，也可以依次将器件层12的一部分、中间层13的一部分和支撑层11的一部分从晶圆10w去除。即，在这些情况下，也可以在释放第一可动部22和第二可动部23后，实施图案化构件去除和保护膜去除。此外，在各实施方式中，示出了在实施图案化构件去除后，实施保护膜去除的例子，也可以在实施保护膜去除后，实施图案化构件去除。[0172]此外，在第一实施方式中，示出了通过将中间层13中的、比与基底部21对应的部分更靠内侧的部分和与流通孔21b对应的部分去除，来形成第一狭缝22a、第二狭缝23a和流通孔21b、22b、23b的例子，但是并不限定于此。形成第一狭缝22a、第二狭缝23a和流通孔21b、22b、23b的顺序也可以是任意的。例如，也可以在形成第一狭缝22a和第二狭缝23a后，即，在释放第一可动部22和第二可动部23后，形成流通孔21b、22b、23b。在这种情况下，也可以首先将晶圆10w中的、与第一狭缝22a和第二狭缝23a对应的部分去除，之后将与流通孔21b、22b、23b对应的部分去除。此外，也可以在形成流通孔21b、22b、23b后，形成第一狭缝22a和第二狭缝23a。在这种情况下，也可以首先将晶圆10w中的、与流通孔21b、22b、23b对应的部分去除，之后将与第一狭缝22a和第二狭缝23a对应的部分去除。[0173]此外，在第一实施方式中，示出了矫正层4针对晶圆10w的背面10b而形成的例子，但矫正层4也可以针对晶圆10w的表面10a而形成。具体而言，矫正层4也可以在基底部21、第二可动部23、各第一连结部24和各第二连结部25，形成在器件层12的与中间层13未相反侧的面。矫正层4也可以在第一可动部22，形成在器件层12的与中间层13为相反侧的面、以及反射镜层3的与器件层12为相反侧的面。此外，矫正层4也可以针对表面10a而形成，且针对背面10b而形成。即，矫正层4针对表面10a和/或背面10b而形成。[0174]此外，也可以如图19(a)所示那样，各流通孔22b在从z轴方向观察的情况下，x轴方向(与晶圆10w的厚度方向垂直的方向)上的宽度变化。即，也可以在从z轴方向观察的情况下，各流通孔22b的x轴方向上的宽度在y轴方向上的不同的位置相互不同。具体而言，也可以各流通孔22b的y轴方向上的中央部的宽度大于y轴方向上的两端部的宽度。各流通孔22b也可以在从z轴方向观察的情况下，至少在一部分包含弯曲部。各流通孔22b也可以在从z轴方向观察的情况下，x轴方向上的一侧的边缘与另一侧的边缘呈不同的形状。各流通孔22b也可以在从z轴方向观察的情况下，呈包围反射镜层3的月牙形。在这些情况下，在第三工序的湿法清洗中，由于容易在各流通孔22b的附近产生复杂的水流，因此提高通过湿法清洗的清洗效率。[0175]在各实施方式的在第二工序中，也可以以在从z轴方向观察的情况下，x轴方向上的宽度变化的方式，形成各流通孔22b。由此，在第三工序的湿法清洗中，由于变得容易产生清洗液的紊流，因此，能够从晶圆10w可靠地去除异物。在各实施方式的第二工序中，也可以以至少在一部分包含弯曲部的方式，形成各流通孔22b。由于，在步骤s8的湿法清洗中，由于流通孔22b的弯曲部因清洗液而承受的负荷变小，因此，能够抑制反射镜器件1a的损伤的产生。在各实施方式的第二工序中，也可以以在从z轴方向观察的情况下，一侧的边缘与另一侧的边缘呈不同的形状的方式，形成各流通孔22b。由于，通过形成更大的流通孔22b，在第三工序的湿法清洗中，能够经由流通孔22b使更大量的清洗液流通。因此，能够从晶圆10w可靠地去除异物。另外，结构体2a、2b、2c、2d也可以不具有第二可动部23。在这种情况下，在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22经由第一狭缝22a配置在基底部21的内侧。另外，各第一连结部24也可以在从z轴方向观察的情况下，分别配置在y轴方向上的第一可动部22的两侧。[0176]此外，也可以如图19(b)所示那样，流通孔22b在从z轴方向观察的情况下，呈以第一轴线x1和第二轴线x2的交点为中心的圆环状。在这种情况下，在第一可动部22，形成有跨流通孔22b的连接部26。在第一可动部22，例如形成有4个连接部26。在从z轴方向观察的情况下，各连接部26在流通孔22b的周向上以相同间隔排列。由此，流通孔22b被分割成多个区域。在从z轴方向观察的情况下，第一可动部22关于第一轴线x1和第二轴线x2的交点点对称。在这种情况下，能够通过各连接部26适当地增强第一可动部22，并且增大第一可动部22中的、流通孔22b所占的面积。因此，在第三工序的湿法清洗中，能够经由流通孔22b使更大量的清洗液流通。由此，能够从晶圆10w可靠地去除异物。此外，由于第一可动部22点对称，所以能够第三工序的湿法清洗中，抑制第一可动部22的损伤的产生。[0177]此外，在各实施方式的第二工序中，也可以以形成跨流通孔22b的连接部26的方式，形成流通孔22b。在各实施方式的第二工序中，也可以以形成跨流通孔22b以外的流通孔(例如流通孔23b)的连结部的方式，形成流通孔22b以外的流通孔。由此，在第三工序的湿法清洗中，由于晶圆10w通过连接部26增强，因此，能够抑制反射镜器件1a的损伤的产生。另外，第一可动部22也可以在从z轴方向观察的情况下，呈圆形状。[0178]此外，也可以如图19(c)所示那样，一对流通孔22b关于第一轴线x1相互轴对称。各流通孔22b也可以在从z轴方向观察的情况下，呈包围反射镜层3的月牙形。在这种情况下，在第三工序的湿法清洗中，容易在各流通孔22b的附近产生复杂的水流，因此提高通过湿法清洗的清洗效率。另外，第一可动部22也可以在从z轴方向观察的情况下，呈长轴沿y轴方向延伸的椭圆形状。[0179]此外，也可以如图20(a)所示那样，在第二可动部23未形成流通孔23b。此外，也可以如图20(b)所示那样，在第一可动部22未形成流通孔22b。[0180]此外，也可以如图21所示那样，未形成流通孔22b、23b。即，也可以仅在基底部21形成有流通孔21b。[0181]此外，也可以如图22所示那样，在x轴方向上的各第一连结部24的两侧，分别形成有一对流通孔24b。各流通孔24b贯通基底部21。各流通孔24b位于在x轴方向上比各第一狭缝22a更靠内侧。此外，也可以在基底部21未形成流通孔21b。[0182]此外，流通孔21b、22b、23b、24b、25b也可以不为了使清洗液流通而形成。流通孔21b、22b、23b、24b、25b也可以是单纯的贯通孔或者贯通区域。[0183]另外，能够从以上的各实施方式提取出以下的发明。[0184]发明1：一种光扫描装置，其具备：基底部；支撑在所述基底部的可动部；以所述可动部相对于所述基底部可动的方式，与所述可动部连结的连结部；和设置在所述可动部的反射镜层，在所述可动部，形成有：呈环状且沿所述可动部的外缘延伸的第一贯通区域、位于比所述第一贯通区域更靠外侧的多个第二贯通区域、和跨所述第一贯通区域的与所述第二贯通区域重合的部分的连接部，所述可动部的所述第二贯通区域的外侧的部分的宽度大于所述可动部的所述第一贯通区域与所述第二贯通区域之间的部分的宽度。[0185]发明2：根据发明1所述的光扫描装置，其中，所述第二贯通区域形成在所述连结部的中心线上的位置。[0186]发明3：根据发明1或者2所述的光扫描装置，其中，所述连接部形成在所述第一贯通区域的与所述第二贯通区域重合的部分中的、与所述连结部为相反侧的部分。[0187]发明4：根据发明1～3中任一项所述的光扫描装置，其中，所述可动部的所述第一贯通区域的外侧的部分包含与所述连结部的中心线斜交的倾斜部。[0188]发明5：根据发明1～4中任一项所述的光扫描装置，其中，所述可动部呈n(n为5以上的自然数)边形状。[0189]发明6：根据发明1～5中任一项所述的光扫描装置，其中，所述可动部的所述第一贯通区域的外侧的部分包含与所述连结部的中心线斜交的倾斜部，在相对于所述倾斜部与所述连结部为相反侧的所述第一贯通区域形成有所述连接部，在相对于所述倾斜部与所述连结部为相反侧形成的所述连接部与所述连结部之间的所述第一贯通区域还形成有所述连接部。[0190]发明7：根据发明6所述的光扫描装置，其中，在相对于所述倾斜部与所述连结部为相反侧形成的所述连接部与所述连结部之间的所述第一贯通区域形成的所述连接部，形成在比所述第一贯通区域的与所述倾斜部重合的部分或者所述第一贯通区域的所述倾斜部更靠所述连结部侧的部分。[0191]发明8：根据发明1～7中任一项所述的光扫描装置，其中，还具备在所述可动部的外缘部延伸的线圈，所述第二贯通区域形成在所述连结部的中心线上的位置和与所述连结部的所述中心线分离的位置，所述线圈配置在形成在所述连结部的所述中心线上的位置的所述第二贯通区域与所述第一贯通区域之间、以及形成在与所述连结部的所述中心线分离的位置的所述第二贯通区域与所述可动部的外缘之间。[0192]附图标记的说明[0193]1a、1b、1c、1d…反射镜器件；2a、2b、2c、2d…结构体；3反射镜层；4…矫正层；10w…晶圆；10a…表面；10b…背面；11…支撑层；12…器件层；13…中间层；11a、11b、11c、12a、12b、13a、13b、13c…端面；19…图案化构件；21…基底部；22…第一可动部；22a…第一狭缝；23…第二可动部；23a…第二狭缝；21b、22b、22f、23b、24b、25b…流通孔；22d…第一流通区域；22e…第二流通区域；24…第一连结部；25…第二连结部；26…连接部。