微电光的射束引导构件、用于制造所述引导构件的方法和包括所述引导构件的系统与流程

1.本发明涉及一种微电光的射束引导构件、一种用于制造微电光的射束引导构件的方法和一种包括微电光的射束引导构件的系统。背景技术：2.已经提出微电光的射束引导构件。技术实现要素：3.提出一种微电光的射束引导构件、尤其是分束器或者射束合并器，该微电光的射束引导构件具有至少一个第一主表面、具有至少一个第二主表面、具有主延伸平面、具有多个布置在第一主表面上的梁结构、具有多个布置在第二主表面上的梁结构并且具有多个膜片，所述膜片分别从第一主表面上的梁结构中的一个梁结构延伸至第二主表面上的梁结构中的一个梁结构，其中，梁结构基本上彼此平行地定向，其中，膜片与主延伸平面分别张开基本上为45°的角度。4.在下文中，微电光的射束引导构件也被称为射束引导构件，其中，然而，射束引导构件分别构造为微电光的射束引导构件。优选地，“微电光的射束引导构件”尤其应理解为如下构件：该构件设置用于从电磁辐射中引导射束并且用于在电子光学系统中使用，并且构造为微电构件，该微电构件尤其具有在100μm至几毫米的范围中的尺寸。“设置”尤其应理解为专门设计和/或专门配备。对象设置用于确定的功能，尤其应理解为：该对象在至少一个应用状态和/或运行状态中满足和/或实施这个确定的功能。优选地，射束引导构件的最大厚度最高为3mm、优选最高为2mm、优选最高为1mm并且特别优选最高为0.5mm。尤其是，最大厚度基本上垂直于主延伸平面延伸。“基本上垂直于”尤其应理解为一直线、一平面或者一方向(尤其是包括最大厚度的直线)相对于另一直线、另一平面或者一参考方向(尤其是主延伸平面)的定向，其中，尤其是在投影平面中观察，该直线、该平面或者该方向和另一直线、另一平面或者该参考方向围成90°的角度并且该角度具有尤其小于8°、有利地小于5°并且特别有利地小于2°的偏差。优选地，射束引导构件具有基本上均匀的最大厚度，其中，该射束引导构件的最大厚度在沿着主延伸平面的每个点上相比于射束引导构件的最大厚度的平均值具有最大偏差，该最大偏差最高为5％、优选最高为3％、优选最高为2％并且特别优选最高为1％。“主表面”尤其应理解为射束引导构件的如下表面：该表面构造为外表面，并且该表面面向或者包括恰好包围该射束引导构件的最小假想长方体的最大侧面。优选地，第一主表面和/或第二主表面尤其分别基本上平坦地构造。“基本上平坦”尤其应理解为面(尤其是第一主表面和/或第二主表面)的特性，其中，该面的至少95％、优选至少98％并且优选至少99％被假想平面包括。优选地，第一主表面和第二主表面，尤其是第一主表面的和第二主表面的沿着主延伸平面观察的轮廓，构造为彼此全等(kongruent)。优选地，第一主表面和/或第二主表面基本上平行于主延伸平面布置。结构单元(尤其是射束引导构件)的“主延伸平面”尤其应理解为如下平面：该平面平行于恰好完全包围该结构单元的最小假想长方体的最大侧面并且尤其延伸穿过该长方体的中心。“基本上平行”尤其应理解为一直线、一平面或者一方向(尤其是基本上完全包围主表面中的一个主表面的平面)相对于另一直线、另一平面或者一参考方向(尤其是基本上完全包围主表面中的另一个主表面的平面)的定向，其中，尤其是在投影平面中观察，该直线、该平面或者该方向相对于另一直线、另一平面或者该参考方向具有尤其小于8°、有利地小于5°并且特别有利地小于2°的偏差。优选地，第一主表面和第二主表面基本上彼此平行地布置。优选地，射束引导构件具有长方体形状的基本形状。优选地，膜片和梁结构布置在通过长方体形状的基本形状预给定的假想长方体内。5.优选地，膜片分别由两个膜片层、膜片层之间的至少一个粘接层和布置在膜片层中的一个膜片层上的至少一个反射层构造。优选地，膜片层和/或膜片构造为薄膜膜片或者由薄膜膜片(pellikel-membranen)构成。尤其是，膜片层、尤其是薄膜膜片具有最高为5μm、优选最高为3μm并且优选最高为1μm的厚度。能够考虑，所述膜片分别包括多个不同的反射层。膜片层和/或粘接层构造为光学透明且弹性的。尤其是，梁结构之间的膜片层和/或粘接层分别处于已张紧的状态。“基本上为45°”尤其在考虑生产公差和材料特性的情况下应理解为40°至50°的、优选42°至48°的、并且优选44°至46°的角度。优选地，射束引导构件包括基体，该基体由梁结构和框架形成。射束引导构件优选包括多个凹槽。凹槽尤其分别从第一主表面延伸朝向第二主表面或者由第二主表面延伸朝向第一主表面。凹槽分别部分地被基体、尤其被梁结构中的至少一个梁结构和框架限界。梁结构优选分别具有外表面。优选地，梁结构的外表面分别与第一主表面或者第二主表面齐平地布置或布置在共同的平面中。尤其是，梁结构的外表面分别构造为第一主表面的或者第二主表面的一部分。优选地，沿着主延伸平面观察，梁结构分别从相应的梁结构的外表面朝向主延伸平面延伸。优选地，梁结构分别具有纵轴线，该纵轴线至少基本上平行于主延伸平面延伸。优选地，梁结构分别沿着相应的梁结构的纵轴线具有不变的横截面。尤其是，梁结构和框架一件式地(einteilig)构造。“一件式”尤其应理解为成形为一个件。优选地，该件由单个的坯件、质量块和/或铸件制造。替代地能够考虑，沿着主延伸平面观察，梁结构至少部分地伸出超过第一主表面或者第二主表面。优选地，基体由硅构造。优选地，膜片、尤其是在梁结构中的张开各个膜片的两个梁结构之间构造的区域中分别基本上平坦平面地构造。尤其是，膜片尤其在构造在梁结构中的张开各个膜片的两个梁结构之间的区域中基本上完全在如下假想平面内延伸：该假想平面尤其与张开相应的膜片的两个梁结构相交和/或与主延伸平面张开基本上为45°的角度。6.优选地，基本上平行于主延伸平面定向的、共同张开膜片中的一个膜片的两个梁结构的最小间距基本上是射束引导构件的最大厚度，该最大厚度尤其至少基本上垂直于主延伸平面定向。优选地，膜片分别与第一主表面上的梁结构中的一个梁结构并且与第二主表面上的梁结构中的一个梁结构粘接。尤其是，膜片分别至少部分地限界凹槽中的至少一个凹槽。优选地，膜片分别在每一侧上限界凹槽中的恰好一个凹槽。能够考虑，射束引导构件包括至少一个或者多个另外的膜片，所述膜片在梁结构中的两个梁结构之间延伸。尤其能够考虑，另外的膜片相对于主延伸平面具有与基本上45°不同的角度。尤其是，另外的膜片构造为透明的。7.梁结构优选分别具有基本上垂直于主延伸平面定向的最大高度，该最大高度小于射束引导构件的最大厚度的和/或两个主表面的最小间距的50％、优选小于40％并且优选小于30％。优选地，梁结构分别具有最大宽度，该最大宽度基本上平行于主延伸平面和/或基本上垂直于相应的梁结构的纵轴线延伸。尤其是，各个梁结构的最大宽度和/或各个梁结构的最大高度至少为0.005mm、优选至少为0.01mm并且优选至少为0.05mm。优选地，各个梁结构的最大宽度与最大高度之间的比例基本上为1.5、优选基本上为1.2并且优选基本上为1。优选地，梁结构分别具有最大长度，该最大长度基本上平行于主延伸平面延伸。尤其是，各个梁结构的最大长度与最大宽度之间的比例小于120、优选小于100并且优选小于50。尤其需要梁结构的一定的刚性和稳健性，以便防止在构造膜片时梁结构的变形。由于梁结构的这样的变形，膜片可能不能够构造为完全平坦的，这尤其能够引起不期望的扭曲和/或射束或者射束的一部分在膜片上的偏转。梁结构优选至少大部分构造为基本上彼此相同的。能够考虑，梁结构中的一些梁结构、尤其是垂直于主延伸平面观察外侧的梁结构以一侧面与框架一件式地构造，其中，优选这些梁结构的背离框架的侧面构造得与梁结构中的尤其基本上完全在框架之间延伸的其他梁结构的侧面基本上结构相同。8.通过微电光的射束引导构件的根据本发明的构型，能够实现射束引导构件的有利的紧凑的构型。尤其是，射束引导构件能够限制于晶片的厚度，该射束引导构件由该晶片制造。能够实现有利的高的稳健性，因为敏感的引导射束的部分、尤其是膜片能够完全布置在射束引导构件的一体式基体之间，该基体尤其由框架和梁结构形成。通过将膜片构型为薄膜，能够有利地防止在射束与膜片相互作用时光学路径长度的变化。射束引导构件能够用作smd构件(表面安装器件，英语：surface-mount-device)。在射束引导构件与用于射束成形的其他元件(例如隔板、成形射束的透镜、反射镜、射束探测器等等)一起使用时，能够实现有利的高紧凑性和灵活性，尤其因为射束引导构件能够通过主面布置在其他元件的射束入口或者射束出口上。通过将膜片构型为薄膜膜片，能够有利地防止在射束引导构件的后侧上的重像(geisterbildern)的不期望的生成。9.另外提出，膜片中的至少大部分基本上彼此平行地布置。能够在射束引导构件内实现有利的直接的射束引导。能够有利地防止在射束引导构件内的射束引导时的不期望的反射和干涉。能够考虑，射束引导构件的所有膜片至少基本上彼此平行地定向。替代地能够考虑，膜片中的至少一个膜片至少基本上垂直于别的膜片定向，优选以与主延伸平面成基本上为45°的角度定向。10.此外提出，膜片和梁结构基本上完全布置在第一主表面与第二主表面之间。能够有利地简单地且成本有利地由多个射束引导构件制造用于射束产生或者射束引导的系统，尤其因为射束引导构件能够通过主表面彼此贴靠地布置、尤其是彼此上下堆叠地(übereinandergestapelt)布置，用以形成穿过射束引导构件的光路。“膜片和梁结构基本上完全布置在第一主表面与第二主表面之间”尤其应理解为，尤其在垂直于主延伸平面定向的投影平面中观察，各个膜片和梁结构的体积的至少95％、优选至少97％并且优选至少99％分别布置在第一主表面与第二主表面之间。11.此外提出，膜片中的至少两个膜片限界至少一个贯穿引导部(durchführung)，该贯穿引导部在两个膜片之间从第一主表面延伸至第二主表面。能够有利地防止在膜片之间进行射束引导时的不期望的反射。尤其是，至少一个贯穿引导部通过凹槽中的一个凹槽形成。优选地，至少一个贯穿引导部在至少两侧上被框架限界。能够考虑，射束引导构件包括多个贯穿引导部。附加地能够考虑，贯穿引导部仅被膜片中的一个膜片并且被框架限界。优选地，贯穿引导部的和/或凹槽的宽度基本上对应于梁结构的长度。尤其是，梁结构沿着其纵轴线分别具有基本上相同的纵向延伸。替代地能够考虑，射束引导构件不具有贯穿引导部，其中，尤其被膜片限界的凹槽在膜片之间通过光学透明的膜片层分离，所述膜片层尤其分别在分别张开膜片中的一个膜片的两个梁结构之间延伸和/或尤其分别相对于主延伸平面倾斜地布置。12.另外提出，至少一个贯穿引导部在至少一个区域中与主延伸平面垂直地完全地从第一主表面延伸至第二主表面。能够实现有利地不受阻碍的、垂直穿过射束引导构件的射束引导。能够实现梁结构的用于膜片的制造的有利布置，尤其因为通过相邻的、彼此错开地布置的梁结构张开的膜片与射束引导构件的主延伸平面之间的角度能够构造得有利地小。优选地，梁结构中的分别张开膜片中的一个膜片的至少两个梁结构垂直于主延伸平面相互间隔开地布置，其中，至少一个贯穿引导部构成所述两个梁结构之间的区域，该区域优选垂直于主延伸平面完全从第一主表面延伸至第二主表面。13.此外提出，所述多个膜片包括至少两个膜片，其中，膜片中的每个膜片构造为对于至少一个、尤其是恰好一个波长范围优选至少在基本上为45°的入射角度的情况下是至少部分反射的。能够实现有利的射束引导。能够在射束引导构件内实现对多个射束的特定于波长的引导。膜片的膜片层尤其构造为光学透明的。优选地，各个膜片的至少一个反射层确定所述膜片的在特定的波长范围中的反射特性。优选地，膜片分别包括多个反射层，所述多个反射层尤其一起确定该膜片的反射特性，其中，尤其是特定于波长的反射特性根据各个反射层的厚度来确定。尤其是，布置在膜片中的一个膜片上的表面上的反射层交替地分别构造为高折射层或者低折射层。能够考虑，膜片通过反射层对于该波长范围具有确定的反射率。优选地，波长范围(各个膜片构造为对所述波长范围至少部分地反射)是相互不同的。优选地，膜片对于波长范围(相应的别的膜片构造为对于该波长范围至少部分反射)分别具有与波长范围(相应的膜片构造为对于该波长范围至少部分反射)不同的反射率。波长范围尤其是电磁辐射的光谱中的波长的确定范围，并且特定于应用地构造。例如，波长范围构造为可见光的光谱内的范围、红外线范围、紫外线范围或者类似物。各个膜片对于相应的波长范围的反射率尤其能够通过反射层特定于应用地调设。例如，膜片分别仅构造为是按比例反射的，其中，尤其是，在膜片上仅反射该波长范围的辐射的确定的部分。也能够考虑，所述膜片构造为对于波长范围分别是至少大部分地或者基本上完全反射的。例如能够考虑，各个膜片的波长范围构造为rgb光谱的颜色。替代地或者附加地，在所述膜片的反射特性方面也能够考虑膜片的、尤其是反射层的另外的/别的构型。能够考虑，膜片中的一个或者多个膜片在至少一侧上包括另外的反射层，该另外的反射层构造为对于具有波长范围中的一个波长范围中的波长的电磁辐射或者一般来说对于通过别的膜片或反射层预给定的共同的波长光谱是部分地、大部分地或者基本上完全反射的。替代地能够考虑，例如如果只应在膜片上反射小部分的射束，则所述膜片或者单个的膜片构造为未涂层的、尤其构造为不具有反射层。优选地，另外的反射层设置用于偏转光束用以分离射束和/或设置用于反射多个光束用以合并射束。优选地，尤其构造为分束器的射束引导构件设置用于将至少一个光束通过优选在两个主表面之间的膜片分裂成多个子射束并且优选与入射的光束至少基本上平行地输出这些子射束。替代地或者附加地，尤其构造为射束合并器的射束引导构件设置用于将多个子射束通过优选在两个主表面之间的膜片合并成单个的光束并且优选与入射的子射束至少基本上平行地输出该单个的光束。优选地，射束引导构件设置用于以与主延伸平面成基本上90°的角度接收和/或输出光束。替代地能够考虑，射束引导构件设置用于以与主延伸平面成不同于90°的角度接收和/或输出光束，例如与主延伸平面基本上平行地接收和/或输出光束。反射层尤其分别构造为电介质层、金属层或者金属电介质层。反射层优选设置用于使膜片分别构造为根据光的波长对于光是基本上完全反射的、部分反射的或者不反射的、尤其是透射的。替代地或者附加地能够考虑，所述膜片或者各个膜片或者布置在膜片之间的膜片层具有至少一个抗反射涂层，该至少一个抗反射涂层尤其设置用于减少或者防止确定的波长范围的射束在相应的膜片/膜片层上的反射。抗反射涂层尤其设置用于，通过具有抗反射涂层的膜片/膜片层改善确定的波长范围的射束的透射，其中，尤其是入射到膜片/膜片层上的射束的较大的比例尤其基本上不受阻碍地和/或在不偏转的情况下穿透膜片/膜片层。14.提出一种用于制造微电光的射束引导构件、尤其是分束器或者射束合并器、尤其是根据本发明的微电光的射束引导构件的方法，其中，在至少一个方法步骤中，尤其通过蚀刻在(尤其先前提到的)衬底层的、尤其是晶片的第一主表面上和第二主表面上分别在衬底层中开设多个梁结构，其中，在衬底层的第一主表面与第二主表面之间形成凹槽，其中，在至少一个另外的方法步骤中，从布置有衬底层的第一主表面和第二主表面的两侧分别将至少局部光学透明且弹性的至少一个膜片层、尤其是薄膜膜片施加到衬底层上，该膜片层覆盖凹槽，其中，在至少一个另外的方法步骤中，由梁结构之间的膜片层构成膜片。优选地，借助该方法由衬底层、尤其是晶片制造多个微电光的射束引导构件。优选地，在至少一个另外的方法步骤中，尤其在构造膜片之后和/或在对膜片进行涂层之后，将各个微电光的射束引导构件相互分离。15.优选地，膜片分别构造在布置在第一主表面上的梁结构中的一个梁结构与布置在第二主表面上的梁结构中的一个梁结构之间。尤其是，对于每个待制造的射束引导构件，在衬底层中开设多个梁结构，其中，尤其是，各个射束引导构件的梁结构至少基本上彼此平行地定向。能够考虑，不同的能够由衬底层制造的射束引导构件的梁结构相互不同地定向，例如至少基本上彼此垂直地定向。尤其是，能够由衬底层制造的射束引导构件在彼此贴靠地布置的状态中并排地制造。优选地，至少基本上同时地、尤其在一方法步骤中将膜片层施加到能够由衬底层制造的所有射束引导构件上。优选地，在真空腔室中将膜片层施加到衬底层上。由此，尤其能够有利地防止气体或空气夹杂在膜片层之间的凹槽内。优选地，通过蚀刻衬底层将梁结构和凹槽引入到衬底层中。优选地，从布置有衬底层的第一主表面和第二主表面的两侧蚀刻衬底层，用以引入梁结构和凹槽。优选地，布置有衬底层的第一主表面和第二主表面的两侧构造为衬底层的彼此背离的侧。优选地，将膜片层分别夹紧到保持框架中，用以施加到衬底层上。优选地，使用于施加膜片层的保持框架至少基本上彼此平行地相向运动，其中，尤其是膜片层平面地施加到衬底层的第一主表面或第二主表面上。16.优选在衬底层中如此开设梁结构，使得膜片与衬底层的主延伸平面张开基本上为45°的角度。优选地，膜片层分别通过光学透明的粘接层施加到衬底层上，其中，优选地，在梁结构之间构造膜片时，膜片层通过粘接层相互连接。粘接层优选构造为uv粘接剂，该uv粘接剂尤其在构造膜片之后硬化。优选地，在时间上直接在将膜片层施加到衬底层上之后，进行膜片的构造。优选地，膜片层平面地施加到第一主表面和第二主表面上。优选地，为了构造膜片，将压力施加到膜片层的背离衬底层的侧上，其中，优选在凹槽的区域中使膜片层相向运动。尤其是，膜片层在凹槽内通过粘接层相互连接。通过粘接层的硬化来构造膜片。优选地，膜片层至少在如下区域中构造为光学透明的：所述区域在施加到衬底层上之后覆盖所述凹槽。尤其是，在至少一个方法步骤中，分别、尤其是单独地借助少一个反射层、尤其是多个反射层对所述膜片进行涂层(beschichten)。17.在至少一个方法步骤中，尤其是在分离各个微电光的射束引导构件之前，优选将至少一个保护箔施加到衬底层的两个主表面中的至少一个主表面上，其中，尤其是，至少在布置有至少一个主表面的侧上的凹槽被保护箔覆盖。优选地，在分离各个微电光的射束引导构件之前，将载体层施加到衬底层上，尤其以便防止对各个射束引导构件的膜片和基体的损伤。优选地，射束引导构件借助磨削方法、切割方法、锯切方法或者铣削方法或者借助激光器彼此分离，特别优选地借助金刚石砂轮彼此分离。也能够考虑，借助激光器将射束引导构件之间的衬底层的材料移除或者这样修改，使得能够通过衬底层的断裂(brechen)优选在借助载体层的情况下使射束引导构件彼此分离。优选地，在至少一个方法步骤中，尤其在构造膜片之后，从衬底层上移除与凹槽间隔开地布置在衬底层的第一主表面和/或第二主表面上的膜片层和/或反射层。18.能够考虑，在至少一个方法步骤中，尤其在分离射束引导构件之前，将至少一个另外的微电光的构件施加到衬底层和/或一个或者多个射束引导构件上并且尤其紧固在所述衬底层/一个射束引导构件/多个射束引导构件上，用以构造微电光系统。替代地或者附加地能够考虑，借助该方法由衬底层、尤其是晶片制造单个的射束引导构件。19.通过该方法的根据本发明的构型，能够有利地简单地且有效地制造多个射束引导构件。能够有利地快速地制造射束引导构件。能够实现薄的射束引导构件的有利的简单的制造，所述射束引导构件尤其具有对应于晶片的厚度的、射束引导构件的最大厚度。能够将射束引导构件用作smd构件(表面安装器件，英语：surface-mount-device)。通过将硅晶片用作衬底层，能够实现有利的低的制造成本。能够同时地尤其由单个的晶片制造有利的高数量的射束引导构件。能够实现由衬底层制造的射束引导构件的有利的低的生产公差，因为所述射束引导构件的光学功能表面都能够在单个的方法步骤中由两个膜片层制造。能够使用用于大批量生产中的mems的工艺、方法和/或设备。通过在一个件上制造射束引导构件，能够实现对所有射束引导构件的共同的电气或者光学功能测试。通过在主表面之间构造膜片，能够有利地防止在另外的方法步骤中对膜片的不期望的损伤。能够实现射束引导构件的有利的高品质。能够以高精度制造有利的高数量的射束引导构件。由此，尤其当射束引导构件和/或别的微电光的构件也由衬底层、尤其是晶片制造时，能够将这样制造的射束引导构件和/或别的微电光的构件有利地准确地光学校准成一系统，其中，优选地，能够通过衬底层的、尤其是晶片的基本形状或尺寸进行所述校准。20.此外提出，在至少一个另外的方法步骤中，在膜片中的两个膜片之间通过移除分别限界两个膜片中的一个膜片的梁结构中的两个梁结构之间的膜片层来构造从衬底层的第一主表面至衬底层的第二主表面的至少一个贯穿引导部。能够实现膜片之间的光路的有利的简单的且快速的构造。能够有利地防止在膜片之间射束引导时的不期望的反射。优选地，借助激光器实现分别限界两个膜片中的一个膜片的梁结构中的两个梁结构之间的膜片层的移除。替代地能够考虑，保留膜片之间的凹槽，通过粘接层连接的膜片层延伸穿过所述凹槽，其中，这些凹槽优选在另外的方法步骤中被覆盖和/或保持未被涂层。能够考虑，在至少一个方法步骤中借助抗反射涂层对尤其分别布置在膜片中的两个膜片之间的膜片层进行涂层，尤其以便减少在膜片层上的反射并且通过膜片层提高透射。21.另外提出，在至少一个方法步骤中，分别选择性地将至少一个反射层施加到膜片上，其中，通过反射层分别针对确定的波长范围匹配各个膜片的反射率。在射束引导构件内的射束引导能够灵活地通过对各个涂层进行改型来匹配，而尤其不影响另外的方法参数。优选地，能够通过反射层自由选择各个射束引导构件的光学特性，例如特定于波长的反射率或透射。有利地，例如在移除分别限界两个膜片中的一个膜片的梁结构中的两个梁结构之间的膜片层之前，借助反射层实现对膜片的涂层。由此，能够有利地避免相应的涂层渗透(durchlaufen)通过贯穿引导部，其中，尤其是在此之后移除膜片之间的经涂层的膜片层。优选地，分别借助多个反射层对各个膜片进行涂层，尤其交替地具有高折射层和低折射层，所述多个反射层尤其一起确定膜片的反射特性。优选地，借助阴影掩膜选择性地将反射层施加到膜片上，其中，阴影掩膜分别覆盖不应借助相应的反射层进行涂层的衬底层和膜片。尤其是，用于将反射层施加到膜片上的阴影掩膜分别与主延伸面基本上平行地和/或相对于两个主表面中的一个主表面平面地施加到衬底层上。优选地，在施加相应的反射层之后再次移除阴影掩膜。22.此外提出，分别从布置有衬底层的第一主表面和第二主表面的两侧分别将至少一个反射层施加到膜片上。能够实现多个光路的有利的简单的且紧凑的构型。优选地，对于膜片的两侧，膜片的反射率能够构造得彼此不同。能够考虑，分别将不同的反射层施加到膜片的两侧上，其中，膜片视侧而定地具有不同的反射特性。能够考虑，将至少一个(尤其是先前提到的)另外的反射层施加到膜片中的至少一个膜片上。23.此外提出，尤其在施加膜片层之前在衬底层中如此开设梁结构，使得垂直于衬底层的主延伸平面观察，尤其布置在衬底层的第一主表面上和第二主表面上的梁结构彼此错位地、尤其是彼此间隔开地布置。能够实现梁结构与衬底层的主延伸平面之间的虚拟直线的平角，在构造膜片时膜片层沿着所述梁结构布置。由此能够有利地使将膜片层压入到凹槽中变容易，用以构造膜片。尤其是，能够在有利的小的压差的情况下实现膜片的构造。通过构造梁结构，能够有利地使对梁结构之间的膜片层进行事后加工变容易，尤其因为能够基本上垂直于衬底层的主延伸平面进行进一步加工。优选地，尤其在施加膜片层之前将梁结构这样引入到衬底层中，使得垂直于衬底层的主延伸平面观察，第一主表面上的梁结构和第二主表面上的梁结构彼此间隔开地布置，其中，尤其是第一主表面上的梁结构分别具有最小间距，该最小间距基本上对应于第二主表面上的梁结构的最小间距。优选地，如此在衬底层中开设梁结构，使得基本上平行于主延伸平面定向的、张开膜片中的一个膜片的两个梁结构之间的最小间距对应于设置用于使用射束引导构件的至少一个射束宽度，优选构造得大于设置用于使用射束引导构件的射束宽度。替代地能够考虑，尤其如果应保留膜片之间的膜片层，则尤其在施加膜片层之前在衬底层中如此开设梁结构，使得垂直于衬底层的主延伸平面观察，尤其布置在衬底层的第一主表面上和第二主表面上的梁结构基本上重合地相继地(hintereinander)布置，所述梁结构尤其分别张开膜片中的另一个膜片。24.此外，提出一种微电光系统，该微电光系统包括至少一个根据本发明的微电光的射束引导构件和至少一个另外的微电光的构件，该另外的微电光的构件尤其由衬底层构成，该另外的微电光的构件尤其是根据本发明的微电光的射束引导构件，其中，至少一个另外的微电光的构件通过另外的微电光的构件的主表面平面地布置在微电光的射束引导构件的第一或者第二主表面上，所述主表面尤其是基本上平坦的，其中，微电光的射束引导构件和另外的微电光的构件一起构成至少一个光路，该光路基本上垂直于微电光的射束引导构件的和另外的微电光的构件的主表面延伸。能够考虑，尤其垂直于射束引导构件的主延伸平面观察，至少一个射束引导构件和至少一个另外的构件基本上重合地彼此上下地(übereinander)布置。替代地能够考虑，射束引导构件和另外的构件具有彼此不同的外部尺寸。尤其是，至少一个射束引导构件和至少一个另外的构件相互紧固，尤其通过粘接、焊接或者合金化。优选地，该系统的射束引导构件和另外的构件借助晶片键合相互连接。尤其是，至少一个光路具有主延伸，该主延伸以与射束引导构件的膜片成基本上为45°的角度延伸。至少一个另外的构件优选构造为射束引导构件、射束成形构件、射束检测构件或者类似物。例如，另外的构件构造为分束器、射束合并器、射束源、射束反射镜(尤其是微镜)、射束探测器(例如光电二极管)、透镜或者透镜系统或者类似物。能够考虑，该系统的微电光的构件由基本上结构相同的衬底层、尤其是晶片或者由不同的衬底层制造。尤其是，该系统的微电光的构件具有基本上相同的或者彼此不同的最大厚度。优选地，该系统设置用于射束引导、射束产生和/或射束检测。能够考虑，该系统包括例如三色的激光器模块，该激光器模块构造为射束源并且设置用于将光束馈入到射束引导构件和/或另外的构件中。能够考虑，微电光系统设置用于在数据眼镜、例如ar(增强现实，英语：augmented reality)眼镜中使用。25.通过该系统的根据本发明的构型，能够实现有利的紧凑的构型，尤其因为射束引导构件以体积有效的方式分别平面地布置在彼此上。能够实现该系统的有利的高的光学品质，因为已经在光路方面通过彼此贴靠的布置通过主表面对射束引导构件进行校准。优选地，根据本发明的射束引导构件的衬底层能够用作用于另外的微电光的构件的光学工作台(bank)。能够实现对射束引导构件的有利的准确且简单的校准，由于基体的或构成该基体的衬底层的非常好的平坦性/平行性和厚度精度并且由于射束引导构件的各个元件(尤其是梁结构和膜片)相对于彼此的非常准确的位置，所述射束引导构件局限于：晶片的横向定向，以及晶片相对于彼此仅围绕一轴线的旋转。26.在此，根据本发明的微电光的射束引导构件、根据本发明的方法和/或根据本发明的系统不应局限于上文所描述的应用和实施方式。尤其是，为了实现在这里描述的作用原理，根据本发明的微电光的射束引导构件、根据本发明的方法和/或根据本发明的系统能够具有与各个元件、构件和单元以及方法步骤的在这里提到的数量不同的数量。此外，对于在本公开内容中给出的数值范围，处在所提到的极限内的值也应被视为已公开且能够任意使用。附图说明27.从下面的附图说明中得出其他优点。在附图中示出本发明的四个实施例。附图、说明书和权利要求包括大量特征组合。本领域技术人员也符合目的地单个观察所述特征并且组合成其他有意义的组合。28.附图示出：29.图1根据本发明的微电光的射束引导构件的和根据本发明的系统的示意性剖视图，该微电光的射束引导构件通过根据本发明的方法制造，该微电光的射束引导构件具有示例性的射束通路，该系统具有根据本发明的微电光的射束引导构件；30.图2根据本发明的微电光的射束引导构件的俯视图的示意图；31.图3根据本发明的用于制造微电光的射束引导构件的方法的示意性流程的示意图；32.图4在将膜片层施加到衬底层的两个主表面上时衬底层的示意性剖视图；33.图5在通过施加压差由膜片层构造膜片时衬底层的示意性剖视图；34.图6在将不同的反射层施加到膜片上时衬底层的示意性剖视图；35.图7所制造的微电光的射束引导构件在与别的微电光的射束引导构件分离时的示意图；36.图8根据本发明的微电光的射束引导构件的替代的第一构型的示意性剖视图，所述微电光的射束引导构件具有示例性射束通路；37.图9根据本发明的微电光的射束引导构件的替代的第二构型的示意性剖视图，所述微电光的射束引导构件具有示例性射束通路；38.图10根据本发明的微电光的射束引导构件的替代的第三构型的示意性剖视图，所述微电光的射束引导构件具有示例性射束通路。具体实施方式39.在图1中示出微电光的射束引导构件10a的横截面。射束引导构件10a以示例性的射束走向示出，其中，射束引导构件10a用作射束合并器(strahlvereiniger)。射束引导构件10a在图1中垂直于射束引导构件10a的主延伸平面12a切开并且沿着射束引导构件10a的主延伸平面12a示出。尤其是，在图1中示出射束引导构件10a的示意性片段，其中，射束引导构件10a的构型尤其不局限于示出的维度和/或示出的尺寸。射束引导构件10a通过用于制造微电光的射束引导构件10a的方法100a制造(参见图3)。尤其是，射束引导构件10a由构造为晶片、尤其构造为硅晶片的衬底层14a制造(参见图4)。射束引导构件10a具有第一主表面16a、第二主表面18a、布置在第一主表面16a上的四个梁结构20a、布置在第二主表面18a上的四个梁结构22a和四个膜片24a、26a、28a、30a，所述四个膜片分别从第一主表面16a上的梁结构20a中的一个梁结构延伸至第二主表面18a上的梁结构22a中的一个梁结构。射束引导构件10a的梁结构20a、22a基本上彼此平行地定向。射束引导构件10a的膜片24a、26a、28a、30a与主延伸平面12a分别张开基本上为45°的角度32a。射束引导构件10a具有基本上为1mm的最大厚度34a。尤其是，射束引导构件10a的最大厚度34a对应于衬底层14a的、尤其是硅晶片的厚度，射束引导构件10a由该衬底层制造，其中，射束引导构件10a的最大厚度34a尤其也能够构造得大于或者小于1mm。与主延伸平面12a平行地定向的、张开膜片24a、26a、28a、30a中的一个膜片的两个梁结构20a、22a之间的间距38a基本上为1mm。也能够考虑梁结构20a、22a的其他构型，例如具有不等于1mm的间距38a。垂直于主延伸平面12a观察，梁结构20a、22a彼此间隔开地布置，其中，各个梁结构20a、22a之间的最小间距尤其分别相对于主延伸平面12a倾斜地伸展。也能够考虑，垂直于主延伸平面12a观察，第一主表面16a上的梁结构20a和第二主表面18a上的梁结构22a至少部分地彼此上下地或者基本上重合地相继地布置。40.第一主表面16a和第二主表面18a基本上平坦地构造，并且彼此平行地布置。梁结构20a、22a分别具有外表面36a，该外表面构造为第一主表面16a的或者第二主表面18a的一部分。膜片24a、26a、28a、30a和梁结构20a、22a基本上完全布置在两个主表面16a、18a之间和/或在分别包括两个主表面16a、18a中的一个主表面的两个假想平面之间。膜片24a、26a、28a、30a基本上彼此平行地布置。第一主表面16a上的梁结构20a分别具有彼此之间的最小间距38a，该最小间距基本上对应于第二主表面18a上的梁结构22a的最小间距40a。41.射束引导构件10a限界三个贯穿引导部42a，所述贯穿引导部分别从第一主表面16a延伸至第二主表面18a。贯穿引导部42a分别至少部分地被膜片24a、26a、28a、30a中的两个膜片限界。贯穿引导部42a分别在垂直于主延伸平面12a的至少一个区域中完全从第一主表面16a延伸至第二主表面18a。替代地能够考虑，在膜片24a、26a、28a、30a之间布置有光学透明的另外的膜片，所述另外的膜片分别从张开膜片24a、26a、28a、30a中的一个膜片的一个梁结构20a、22a延伸至张开膜片24a、26a、28a、30a中的另一个膜片24a、26a、28a、30a的另一个梁结构20a、22a。射束引导构件10a包括基体44a，该基体通过框架46a和梁结构20a、22a形成。基体44a限界两个主表面16a、18a之间的缺口43a。基体44a、尤其是框架46a限界贯穿引导部42a，尤其是在与主延伸平面12a平行地定向的侧上。42.四个膜片24a、26a、28a、30a中的每个膜片都构造为对于尤其是rgb色谱中的一个颜色的至少一个波长范围、尤其是恰好一个波长范围是基本上完全反射的。也能够考虑别的波长范围。尤其是，波长范围不局限于可见光的光谱。替代地能够考虑，膜片24a、26a、28a、30a构造为对于相应的波长范围是仅部分反射的，其中，膜片24a、26a、28a、30a尤其设置用于反射电磁射束的在相应的波长范围中的确定的部分。膜片24a、26a、28a、30a尤其分别包括多个反射层48a，所述反射层设置用于确定相应的膜片24a、26a、28a、30a的反射特性。四个膜片24a、26a、28a、30a中的第一膜片24a构造为对于红光是基本上完全反射的。四个膜片24a、26a、28a、30a中的第二膜片26a构造为对于绿光是基本上完全反射的。四个膜片24a、26a、28a、30a中的第三膜片28a构造为对于蓝光是基本上完全反射的。四个膜片24a、26a、28a、30a中的第四膜片30a构造为对于可见光的整个光谱中的光是基本上完全反射的，其中，尤其是红光、绿光和蓝光在第四膜片30a上、尤其是在第四膜片30a的后侧上基本上完全被反射。43.沿着梁结构20a、22a的纵轴线50a(参见图2)观察，梁结构20a、22a分别具有不变的横截面。优选地，各个梁结构20a、22a的横截面尤其由于通过蚀刻实现的制造方法至少部分地构造为梯形形状。梁结构20a、22a的与主延伸平面12a垂直地定向的最小间距52a优选这样构造，使得在膜片24a、26a、28a、30a上被反射的射束能够基本上不受阻碍地、尤其是在不与梁结构20a、22a和/或基体44a的内侧共同作用的情况下在膜片24a、26a、28a、30a之间或与主延伸平面12a基本上平行地被引导。能够考虑，梁结构20a、22a与主延伸平面12a垂直地具有最小间距52a，该最小间距对应于射束引导构件10a的最大厚度的至少50％、优选至少60％和优选至少70％。44.射束引导构件10a优选设置用于通过第一、第二和第三膜片24a、26a、28a与主延伸平面12a平行地反射红色子射束54a、绿色子射束56a和蓝色子射束58a，其中，子射束54a、56a、58a一起被引导到第四膜片30a上、在那里一起被反射并且以聚束的方式输出。优选地，第一膜片24a设置用于基本上完全地反射红光、尤其是红色子射束54a。优选地，第二膜片26a设置用于基本上完全地反射绿光、尤其是绿色子射束56a，并且至少使红光、尤其是红色子射束54a能够不受阻碍地、尤其是基本上在子射束54a在膜片26a上的出射角度与子射束54a在膜片26a上的入射角度无偏差的情况下通过。优选地，第三膜片28a设置用于基本上完全地反射蓝光、尤其是蓝色子射束58a，并且至少使红光和绿光、尤其是红色子射束54a和绿色子射束56a能够不受阻碍地、尤其基本上在子射束54a、56a在膜片28a上的出射角度与子射束54a、56a在膜片28a上的入射角度无偏差的情况下通过。优选地，第四膜片30a构造为尤其与进入的光束的波长无关地和/或至少对于红光、绿光和蓝光、尤其是子射束54a、56a、58a是基本上完全反射的。膜片24a、26a、28a、30a分别包括多个不同的反射层48a，所述反射层尤其实现各个膜片24a、26a、28a、30a的先前描述的反射特性。能够考虑反射层48a的对于本领域技术人员而言已知的不同构型，其中，例如反射层48a构造为是金属的。在图1中示出的光束、尤其是子射束54a、56a、58a优选构造为来自激光源的光束。45.在图1中，除了微电光的射束引导构件10a之外还示出另外的微电光的构件60a，所述另外的微电光的构件是示意性示出的。图1示出微电光系统62a，该微电光系统包括微电光的射束引导构件10a和另外的微电光的构件60a，所述另外的微电光的构件尤其分别由衬底层14a、尤其是晶片构造。优选地，微电光的构件10a、60a，尤其是射束引导构件10a和构件60a，构造微电光系统62a。另外的微电光的构件60a分别通过基本上平坦的主表面平面地布置在微电光的射束引导构件10a的第一或者第二主表面16a、18a上。微电光的射束引导构件10a和另外的微电光的构件60a共同构成系统62a的至少一个光路，该光路与微电光的射束引导构件10a的和另外的微电光的构件60a的主表面16a、18a基本上垂直地延伸。另外的构件60a分别具有基本上对应于射束引导构件10a的最大厚度34a的最大厚度。也能够考虑另外的微电光的构件60a的别的构型，尤其是具有与射束引导构件10a不同的最大厚度和/或具有彼此不同的最大厚度，其中，另外的微电光的构件60a例如由与基体44a或衬底层14a不同的衬底层制造，射束引导构件10a由该基体44a或衬底层14a制造。垂直于射束引导构件10a的主延伸平面12a观察，射束引导构件10a和另外的构件60a基本上重合地彼此上下地布置。优选地，射束引导构件10a和另外的构件60a相互连接，例如焊接、粘接和/或合金化。能够考虑另外的构件60a的不同构型，例如构型为微镜、射束源、射束偏转器或者类似物。优选地，另外的射束引导构件借助用于制造微电光的射束引导构件10a的方法100a由晶片制造(参见图3)。也能够考虑系统62a的别的构型，例如具有仅两个或者大于三个的微电光的构件10a、60a。此外能够考虑，系统62a的微电光的构件10a、60a具有彼此不同的外部尺寸。46.在图2中示出微电光的射束引导构件10a的俯视图。在图2中，在膜片24a、26a、28a、30a的区域中示出用于在图1中示出的光束、尤其是子射束54a、56a、58a的示例性光路。凹槽43a的或贯穿引导部42a的最大宽度64a和/或梁结构20a、22a的最大长度基本上为1mm。然而，凹槽43a的或贯穿引导部42a的最大宽度64a和/或梁结构20a、22a的最大长度能够视射束引导构件10a的应用或使用而定地任意选择。第一主表面16a上的梁结构20a与第二主表面18a上的(平行于主延伸平面12a观察布置在所述梁结构20a旁边的)梁结构22a之间的最小间距66a优选至少为0.05mm、优选至少为0.1mm并且优选至少为0.2mm。梁结构20a、22a分别在框架46a的面向贯穿引导部42a或凹槽43a的内侧之间延伸。梁结构20a、22a尤其平行于主延伸平面12a(在图2中未示出；该主延伸平面与图像平面平行地延伸)具有至少为0.005mm、优选至少为0.01mm并且优选至少为0.05的最大宽度68a。优选地，基体44a由晶片成型。基体44a，尤其是框架46a和梁结构20a、22a，尤其由硅构造。也能够考虑射束引导构件10a的别的构型，例如具有数量不等于四的膜片24a、26a、28a、30a、具有膜片24a、26a、28a、30a之间的透明的膜片层、具有梁结构20a、22a的或凹槽43a的延长的构型或者类似物。尤其能够考虑，贯穿引导部42a的和/或膜片24a、26a、28a、30a的宽度64a大于梁结构20a、22a的最小间距38a、40a。与主延伸平面12a基本上平行地定向的、共同张开膜片24a、26a、28a、30a中的一个膜片的两个梁结构16a、18a之间的最小间距69a基本上对应于射束引导构件10a的最大厚度34a，尤其基本上为1mm。47.在图3中示意性地示出用于制造微电光的射束引导构件10a的方法100a的示例性流程。优选地，通过方法100a由衬底层14a、尤其由晶片制造多个微电光的射束引导构件10a，所述微电光的射束引导构件例如像图1和图2中描述的射束引导构件10a那样构造。在方法100a的方法步骤102a中，尤其通过蚀刻在衬底层14a的第一主表面16a上和第二主表面18a上分别在衬底层14a中开设梁结构20a、22a。优选地，对于每个待制造的射束引导构件10a，完成的射束引导构件10a的基体44a分别由晶片成型。优选地，完成的射束引导构件10a的主表面16a、18a由衬底层14a的主表面16a、18a构造，其中，所述主表面(尤其除了外部尺寸之外)构造得基本上相同。在衬底层14a中彼此间隔开地开设各个待制造的射束引导构件10a的梁结构20a、22a。优选地，衬底层14a的蚀刻借助湿化学蚀刻方法实现。尤其是，衬底层14a的蚀刻借助氢氧化钾(koh)或者借助四甲基氢氧化铵(tmah)实现。用于开设梁结构20a、22a的、衬底层14a的蚀刻从以下两侧进行，在所述两侧上分别布置有主表面16a、18a中的一个主表面。尤其是，通过开设梁结构20a、22a在衬底层14a的第一主表面16a与第二主表面18a之间形成凹槽43a。在衬底层14a中如此开设梁结构20a、22a，使得垂直于衬底层14a的主延伸平面12a观察，尤其布置在衬底层14a的第一主表面16a和第二主表面18a上的梁结构20a、22a彼此间隔开地布置。优选地，衬底层14a的主延伸平面12a包括在待制造的射束引导构件10a的彼此贴靠地布置的状态中的、待制造的射束引导构件10a(尤其是射束引导构件10a的基体44a)的主延伸平面12a。因此，在附图中未区分衬底层14a的和待制造的射束引导构件10a的主延伸平面。48.在方法100a的另一个方法步骤104a中，从布置有衬底层14a的第一主表面16a和第二主表面18a的两侧分别将至少局部光学透明且弹性的膜片层70a、尤其是薄膜膜片施加到衬底层14a上。尤其是，这样施加膜片层70a，使得所述膜片层在相应的主表面16a、18a上光学透明地覆盖梁结构20a、22a之间的凹槽43a，膜片层70a布置在所述主表面上。尤其是，在真空情况下、尤其在真空腔室内将膜片层70a施加到衬底层14a上。优选地，膜片层70a分别夹紧到框架72a(参见图4和图5)中并且借助框架72a平面地施加到相应的主表面16a、18a上。优选地，膜片层70a借助光学透明的粘接层74a(参见图4)施加在衬底层14a上，该粘接层优选由uv粘接剂构成。在施加膜片层70a之后优选再次移除框架72a。优选地，还移除膜片层70a的伸出超过衬底层14a、尤其晶片的部分。49.在方法100a的另一个方法步骤106a中，由梁结构20a、22a之间的膜片层70a构成膜片24a、26a、28a、30a。优选地，膜片24a、26a、28a、30a的构造通过施加超压来实现，例如通过对真空腔室进行通风来实现，其中，膜片层70a被挤压到凹槽43a中或彼此上下挤压。优选地，膜片层70a在接触时和/或在接触后通过硬化相互连接，其中，构造膜片24a、26a、28a、30a。50.在方法100a的另一方法步骤108a中，分别选择性地尤其通过阴影掩膜76a(参见图6)将反射层48a施加到膜片24a、26a、28a、30a上，其中，通过反射层48a分别针对确定的波长范围匹配各个膜片24a、26a、28a、30a的反射率。分别从布置有衬底层14a的第一主表面16a和第二主表面18a的两侧分别将反射层48a施加到膜片24a、26a、28a、30a上。替代地能够考虑，例如如果只应在相应的膜片24a、26a、28a、30a上反射小比例的射束，则膜片24a、26a、28a、30a、膜片24a、26a、28a、30a的一部分或者膜片24a、26a、28a、30a中的单个的膜片24a、26a、28a、30a保持未被涂层。51.在方法100a的另一个方法步骤110a中，在膜片24a、26a、28a、30a中的两个膜片之间，通过移除分别限界两个膜片24a、26a、28a、30a中的一个膜片的梁结构20a、22a中的两个梁结构之间的膜片层70a来构造从衬底层14a的第一主表面16a至衬底层14a的第二主表面18a的贯穿引导部42a。52.在方法100a的另一方法步骤112a中，将各个微电光的射束引导构件10a彼此分离。优选地，微电光的射束引导构件10a通过垂直于衬底层14a的主延伸平面12a进行的分离过程分开。优选地，微电光的射束引导构件10a借助金刚石砂轮彼此分离。能够考虑，在方法100a的一个方法步骤中在分离射束引导构件10a之前、尤其是在方法步骤110a与方法步骤112a之间，将载体层78a施加到衬底层的主表面16a、18a中的一个主表面上和/或将保护层80a施加到衬底层的主表面16a、18a中的尤其另一个主表面上(参见图7)。53.附加地能够考虑，在方法100a的一个方法步骤中、尤其在分离射束引导构件10a之前在复合结构中对射束引导构件10a进行光学检查。也能够考虑方法100a的别的构型，例如具有方法步骤102a、104a、106a、108a、110a、112a的别的顺序或者具有别的数量的方法步骤102a、104a、106a、108a、110a、112a。54.在图4至图7中示出通过方法100a待制造的微电光的射束引导构件10a的中间状态。在图4中示出在开设梁结构20a、22a之后的衬底层14a。通过框架72a将两个膜片层70a施加到衬底层14a的第一主表面16a和第二主表面18a上。通过借助框架72a施加膜片层70a和/或通过在真空腔室内进行施加，能够有利地防止膜片层70a与衬底层14a之间的不期望的空气夹杂物和衬底层14a的相应的主表面16a、18a上的不期望的应力差。这样施加膜片层70a，使得所述膜片层与衬底层14a的主延伸平面12a基本上平行地布置在主表面16a、18a上。55.在图5中从外部施加超压，其中，膜片层70a在布置在相应的主表面16a、18a上的梁结构20a、22a之间被彼此上下地挤压进入到凹槽43a中。优选地，膜片层70a通过粘接层74a在凹槽43内相互连接(在图5中未示出)，其中，构造膜片24a、26a、28a、30a(参见图6)。在图6中示出衬底层14a，该衬底层在梁结构20a、22a之间具有构造的膜片24a、26a、28a、30a。衬底层14a设有多个阴影掩膜76a用以在主表面16a、18a上相继地施加反射层48a，所述阴影掩膜分别能够实现对膜片24a、26a、28a、30a中的单个的膜片24a、26a、28a、30a进行涂层。在图6中示例性地示出用于对膜片24a、26a、28a、30a进行涂层的多个阴影掩膜76a。56.在施加反射层48a之后，通过借助激光器移除膜片24a、26a、28a、30a之间的膜片层70a来构造贯穿引导部42a(参见图6和图7)。在图7中示出在与所制造的别的射束引导构件10a分离之后的射束引导构件10a的横截面(图7，上部)和俯视图(图7，下部)。在分离射束引导构件10a之前，在衬底层14a的主表面16a、18a中的一个主表面上、尤其是第二主表面18a上布置有载体层78a。此外，在分离射束引导构件10a之前，在衬底层14a的主表面16a、18a中的另一个主表面上、尤其是第一主表面16a上(参见图7，上部)布置有保护层80a。载体层78a设置用于防止在分离射束引导构件10a期间衬底层14a的损伤和变形。保护层80a设置用于防止在分离射束引导构件10a时膜片24a、26a、28a、30a的损伤和残留物在贯穿引导部42a内的沉积。射束引导构件10a与主延伸平面12a基本上平行地具有最大纵向延伸82a和/或最大横向延伸84a，所述最大纵向延伸和/或最大横向延伸最高为500mm、优选最高为250mm、优选最高为200mm并且特别优选最高为20mm。优选地，射束引导构件10a的最大主延伸对应于衬底层14a的、尤其是晶片的主延伸，该射束引导构件10a由所述衬底层制造。尤其在图1至图7中示出的射束引导构件10a尤其具有基本上为7.4mm的最大纵向延伸82a和基本上为1.5mm的最大横向延伸84a。最大纵向延伸82a和最大横向延伸84a优选与主延伸平面12a和/或主表面16a、18a基本上平行地定向。然而，也能够考虑射束引导构件10a的别的构型，例如具有大于或者小于7.4mm的最大纵向延伸82a、大于或者小于1.5mm的最大横向延伸84a和/或具有不等于1mm的最大厚度34a。优选地，射束引导构件10a在进行分离之后又与载体层78a和/或保护层80a分开。57.在图8至图10中示出本发明的另外的实施例。下面的描述和附图基本上限于实施例之间的区别，其中，关于相同标记的构件、尤其是关于具有相同附图标记的构件，原则上也能够参照别的实施例的附图和/或描述、尤其是能够参照图1至图7的实施例的附图和/或描述。为了区别实施例，在图1至图7中的实施例的附图标记之后放置字母a。在图8至图10的实施例中，通过字母b至d代替字母a。58.在图8中示出微电光的射束引导构件10b的替代的第一构型的横截面(与图1类似)。射束引导构件10b包括第一主表面16b、第二主表面18b、主延伸平面12b、多个布置在第一主表面16b上的梁结构20b、多个布置在第二主表面18b上的梁结构22b和多个膜片24b、26b、28b，所述膜片分别从第一主表面16b上的梁结构20b中的一个梁结构延伸至第二主表面18b上的梁结构22b中的一个梁结构。梁结构20b、22b基本上彼此平行地定向。膜片24b、26b、28b与主延伸平面12b分别张开基本上为45°的角度32b。射束引导构件10b通过用于制造微电光的射束引导构件10b的方法制造。在图8中示出的微电光的射束引导构件10b与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a具有至少基本上类似的构型，因此，关于在图8中示出的微电光的射束引导构件10b的构型，至少基本上能够参阅对图1至图7的描述。与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a不同地，在图8中示出的微电光的射束引导构件10b仅具有三个膜片24b、26b、28b。膜片24b、26b、28b基本上彼此平行地定向。膜片24b、26b、28b中的第三膜片28b设置用于或者说如此构造，使得蓝光、尤其是蓝色子射束58b能够基本上不受妨碍地、尤其是在无折射的情况下透射穿过第三膜片28b，其中，红光和绿光、尤其是红色子射束54b和绿色子射束56b在第三膜片28b上基本上完全被反射。射束引导构件10b尤其示出作为射束合并器的功能。也能够考虑，射束引导构件10b用作分束器，其中，尤其是光束、尤其是子射束54b、56b、58b沿与在图8中示出的射束方向相反的方向延伸。59.在图9中示出微电光的射束引导构件10c的替代的第二构型的横截面(与图1和图8类似)。射束引导构件10c包括第一主表面16c、第二主表面18c、主延伸平面12c、多个布置在第一主表面16c上的梁结构20c、多个布置在第二主表面18c上的梁结构22c和多个膜片24c，24c、28c、30c，所述膜片分别从第一主表面16c上的梁结构20c中的一个梁结构延伸至第二主表面18c上的梁结构22c中的一个梁结构。梁结构20c、22c基本上彼此平行地定向。膜片24c、26c、28c、30c与主延伸平面12c分别张开基本上为45°的角度32c。射束引导构件10c通过用于制造微电光的射束引导构件10c的方法制造。在图9中示出的微电光的射束引导构件10c与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a具有至少基本上类似的构型，因此，关于在图9中示出的微电光的射束引导构件10c的构型，至少基本上能够参阅对图1至图7的描述。与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a不同地，在图9中示出的微电光的射束引导构件10c的膜片24c、26c、28c、30c中的一个膜片、尤其是第四膜片30c基本上垂直于别的膜片24c、26c、28c定向。优选地，第四膜片30c设置用于尤其是与波长无关地基本上完全地反射光束。优选地，射束引导构件10c构造为射束合并器，其中，不同波长的子射束54c、56c、58c被合并成一个光束。尤其是，射束引导构件10c、尤其是第四膜片30c设置用于沿与子射束54c、56c、58c的入射方向相反的方向输出经合并的光束。优选地，膜片24c、26c、28c、30c中的一个膜片30c、尤其是第四膜片30c在布置在第一主表面16c上的梁结构20c之一与布置在第二主表面18c上的以下梁结构22c之间延伸，在所述梁结构22c上已经布置有膜片24c、26c、28c、30c中的另一个膜片28c、尤其是第三膜片28c。尤其是，在第三膜片28c与第四膜片30c之间不构造贯穿引导部42c。60.在图10中示出微电光的射束引导构件10d的替代的第三构型的横截面(与图1、图8和图9类似)。射束引导构件10d包括第一主表面16d、第二主表面18d、主延伸平面12d、多个布置在第一主表面16d上的梁结构20d、多个布置在第二主表面18d上的梁结构22d和多个膜片24d、26d、28d，所述膜片分别从第一主表面16d上的梁结构20d中的一个梁结构延伸至第二主表面18d上的梁结构22d中的一个梁结构。梁结构20d、22d基本上彼此平行地定向。膜片24d、26d、28d与主延伸平面12d分别张开基本上为45°的角度32d。射束引导构件10d通过用于制造微电光的射束引导构件10d的方法制造。在图10中示出的微电光的射束引导构件10d与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a具有至少基本上类似的构型，因此，关于在图10中示出的微电光的射束引导构件10d的构型，至少基本上能够参阅对图1至图7的描述。与在图1至图7的描述中所描述的微电光的射束引导构件10a不同地，在图10中示出的微电光的射束引导构件10d构造为朝向与主延伸平面12d平行的侧86d敞开。射束引导构件10d包括三个膜片24d、26d、28d，所述膜片分别设置用于基本上完全地反射一个波长的或一个颜色的子射束54d、56d、58d，其中，尤其是另一波长的或者另一颜色的子射束54d、56d、58d能够基本上不受阻碍地通过。膜片24d、26d、28d基本上彼此平行地定向。在膜片24d、26d、28d中的一个膜片上被反射的子射束54d、56d、58d被引导穿过相应的另外的膜片24d、26d、28d并且与主延伸平面12d平行地输出。由此，子射束54d、56d、58d一起作为经合并的光束输出。