狭缝元件及装置

本技术涉及一种狭缝元件及装置，属于微纳米颗粒灵敏度检测领域。

背景技术：

1、目前，狭缝的设计与装置难以达到纳米量级，微纳米颗粒的机械实时检测受到限制；另外，随着狭缝尺度逐渐减小，当微纳米颗粒经过狭缝时，其重力加速度的影响随着颗粒本身尺度的降低而减小，微纳米颗粒的运行轨迹不可能是直线运动轨迹。因此，以长方体构成的狭缝元件无法避免微纳米颗粒与大面积的狭缝壁接触，进而会使微纳米颗粒粘附并沉积在狭缝壁上，从而导致狭缝堵塞，严重影响狭缝性能。

技术实现思路

1、有鉴于此，本实用新型提供了一种狭缝元件及狭缝装置，狭缝装置筛选颗粒的尺度可达纳米级别；另外，狭缝元件采用独特的几何结构，可有效地避免颗粒在狭缝壁中粘附与沉积。

2、本实用新型的第一目的在于提供一种狭缝元件。

3、本实用新型的第二目的在于提供一种狭缝装置。

4、本实用新型的第一目的可以通过采取如下技术方案达到：

5、一种狭缝元件，包括条块，条块一面的两端分别设置有薄膜。

6、优选地，条块为硬度材料。

7、优选地，薄膜的厚度为纳米级别。

8、优选地，薄膜的厚度范围为1nm～100nm。

9、优选地，条块的长度范围为60-100mm。

10、优选地，条块的宽度范围为10-30mm。

11、优选地，条块的厚度范围为6-10mm。

12、优选地，两端并行，以两端为界，界左右两侧的面均为下倾斜面。

13、优选地，下倾斜面与水平面的夹角范围为10.00°～16.00°。

14、本实用新型的第二目的可以通过采取如下技术方案达到：

15、一种狭缝装置，包括狭缝芯片盒，狭缝芯片盒包括n个上述狭缝元件，依次堆叠连接的n个上述狭缝元件形成(n-1)条狭缝，其中n为整数且大于等于2。

16、本实用新型相对于现有技术具有如下的有益效果：

17、1、本实用新型实施例通过高真空镀膜技术实现狭缝，即通过控制精细条块两端的镀膜厚度，从而控制狭缝宽度，其中狭缝宽度可低至纳米量级，且镀膜的材料、厚度和宽度均为按需选择，可选择性高；

18、2、本实用新型实施例提供的狭缝元件采用独特的几何结构，能够尽可能地减小微纳米颗粒与狭缝壁的接触/碰撞面积，从而有效地避免颗粒在狭缝壁中粘附与沉积；

19、3、本实用新型实施例将光学石英玻璃材质的精细条块作为狭缝元件主体，相较于金属材质，能有效地提高精确度，降低误差；

20、4、本实用新型实施例提供的狭缝元件基底无需开设孔洞，狭缝元件加工简单，成本低廉。

技术特征：

1.一种狭缝元件，其特征在于，包括条块，条块一面的两端分别设置有薄膜；条块为硬度材料；薄膜的厚度范围为1nm~100nm；两端并行，以两端为界，界左右两侧的面均为下倾斜面。

2.根据权利要求1所述狭缝元件，其特征在于，条块的长度范围为60-100mm。

3.根据权利要求1所述狭缝元件，其特征在于，条块的宽度范围为10-30mm。

4.根据权利要求1所述狭缝元件，其特征在于，条块的厚度范围为6-10mm。

5.根据权利要求1所述狭缝元件，其特征在于，下倾斜面与水平面的夹角范围为10.00°~16.00°。

6.一种狭缝装置，其特征在于，包括狭缝芯片盒，狭缝芯片盒包括n个权利要求1-5任一项所述狭缝元件，依次堆叠连接的n个所述狭缝元件形成n-1条狭缝，其中n为整数且大于等于2。

技术总结本技术公开了一种狭缝元件及装置，狭缝元件包括条块，条块一面的两端分别设置有薄膜；两端并行，以两端为界，界左右两侧的面均为下倾斜面。本技术实施例筛选颗粒的尺度可达纳米级别；另外，采用独特的几何结构，可有效地避免颗粒在狭缝壁中粘附与沉积。技术研发人员：韩永,张玉容,董理受保护的技术使用者：中山大学技术研发日：20230317技术公布日：2024/1/15