显示装置和制造显示装置的方法与流程

各种实施例涉及一种显示装置和制造显示装置的方法。

背景技术：

1、随着信息技术的发展，已经强调作为用户和信息之间的连接媒介的显示装置的重要性。显示装置可以包括发光元件。

2、为了增强显示装置的可视性，供应到显示装置中的像素的电信号的可靠性已经重要。例如，为了防止整个显示表面中的电信号失真，需要防止出现不期望的电阻偏差。

3、此外，将一些组件彼此电分离是必要的，以能够向两个或更多个子像素供应单独的电信号(例如，阳极信号)。已经考虑了使用单独结构的方法，但是需要额外的工艺，导致工艺过于困难。

技术实现思路

1、各种实施例提供一种能够提高显示质量的显示装置以及能够提高工艺效率并且降低工艺成本的制造显示装置的方法。

2、然而，本公开的实施例不限于本文中阐述的实施例。通过参照下面给出的本公开的详细描述，上述和其他实施例对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。

3、在实施例中，一种显示装置可以包括：像素电路层，包括基体层、设置在所述基体层上的像素电路、以及设置在所述像素电路上并且包括阱区域和突出区域的钝化层；以及发光元件层，设置在所述像素电路层上，并且包括发光元件，所述发光元件包括：第一电极、第二电极以及在所述第一电极和所述第二电极之间的发射部；以及连接电极。所述连接电极可以设置在所述突出区域中，并且所述连接电极的至少一部分可以在平面图中与所述阱区域重叠并且可以不接触所述钝化层。所述发射部可以包括：空穴层、电子层以及提供在所述空穴层和所述电子层之间的发射层。所述空穴层可以将所述第一电极和所述发射层彼此电连接，并且所述电子层可以将所述第二电极和所述发射层彼此电连接。所述空穴层和所述第二电极中的每一者可以在所述连接电极上具有端部。

4、在实施例中，所述第一电极可以是阳极电极。所述第二电极可以是阴极电极。所述像素电路可以包括第一电力线和第二电力线。所述像素电路可以电连接到所述第一电力线和所述第一电极。所述连接电极可以电连接到所述第二电极和所述第二电力线。

5、在实施例中，所述第二电力线可以通过在所述钝化层中形成的接触件电连接到所述连接电极。

6、在实施例中，所述显示装置还可以包括：显示区域和非显示区域。所述第二电力线可以设置在所述非显示区域中，并且所述连接电极的一部分可以设置在所述显示区域的周边，并且可以电连接到所述第二电力线。

7、在实施例中，所述空穴层可以包括空穴注入层和空穴传输层。所述电子层可以包括电子注入层和电子传输层。

8、在实施例中，所述发射层可以包括在第一子像素中的第一发射层和在第二子像素中的第二发射层。所述连接电极可以设置在所述第一子像素和所述第二子像素之间的边界区域中。

9、在实施例中，所述连接电极的第一部分可以围绕所述第一发射层，所述连接电极的第二部分可以围绕所述第二发射层，并且所述连接电极的所述第一部分和所述连接电极的所述第二部分彼此一体形成。

10、在实施例中，所述连接电极可以具有网状形状，并且形成围绕区域的闭环。

11、在实施例中，所述发光元件层可以包括覆盖所述第一电极和所述连接电极的至少一部分的像素限定层。所述像素限定层可以暴露所述连接电极的设置在所述发射层的外围部分中的一部分，并且可以覆盖所述连接电极的设置在所述发射层的所述外围部分中的另一部分。

12、在实施例中，所述像素限定层可以包括第一像素限定层和第二像素限定层。所述第一像素限定层可以覆盖所述第二子像素的所述第一电极的端部，并且可以暴露所述连接电极的端部。所述第二像素限定层可以覆盖所述第一子像素的所述第一电极的端部，并且覆盖所述连接电极的另一端部。

13、在实施例中，所述第二像素限定层可以具有比所述第一像素限定层的宽度大的宽度。

14、在实施例中，所述连接电极的下表面的至少一部分可以接触所述像素限定层。

15、在实施例中，所述突出区域可以围绕所述阱区域的至少一部分。所述突出区域可以包括：第一突出区域，所述第一电极设置在所述第一突出区域中；和第二突出区域，所述连接电极设置在所述第二突出区域中。

16、在实施例中，所述连接电极可以包括突出部。所述突出部可以在平面图中与所述阱区域重叠。所述钝化层可以在平面图中形成与所述突出部重叠的弯曲区域。

17、在实施例中，所述空穴层的至少一部分可以设置在所述突出部上。所述空穴层的至少另一部分可以在平面图中设置在与所述突出部重叠的所述弯曲区域中。

18、在实施例中，所述电子层的至少一部分可以设置在所述突出部上。所述电子层的至少另一部分在平面图中可以设置在与所述突出部重叠的所述弯曲区域中。

19、在实施例中，所述第二电极的至少一部分可以设置在所述突出部上。所述第二电极的至少另一部分在平面图中可以设置在与所述突出部重叠的所述弯曲区域中。

20、在实施例中，设置在所述弯曲区域中的所述电子层可以覆盖所述空穴层。

21、在实施例中，所述第二电极电连接到所述连接电极的侧表面。

22、在实施例中，所述第一电极可以包括第1-1电极、第1-2电极和第1-3电极。所述第二电极可以接触所述第1-2电极。

23、在实施例中，所述第1-3电极可以比所述第1-1电极和所述第1-2电极突出得长。

24、在实施例中，所述第1-1电极和所述第1-3电极中的每一者可以包括透明导电氧化物。所述第1-2电极可以包括反射材料。所述第1-1电极可以设置在所述第1-2电极的表面上，并且所述第1-3电极可以设置在所述第1-2电极的另一表面上。

25、在实施例中，所述第一电极可以以包括透明导电氧化物的单层形成。

26、在实施例中，一种显示装置可以包括：子像素，包括第一子像素和第二子像素。所述第一子像素和所述第二子像素中的每一者可以包括：像素电路层，包括：基体层、设置在所述基体层上的像素电路以及设置在所述像素电路上的钝化层；和发光元件层，设置在所述像素电路层上，并且包括发光元件，所述发光元件包括：第一电极、第二电极、以及在所述第一电极和所述第二电极之间的发射部；像素限定层，包括：第一像素限定层和第二像素限定层；以及连接电极。所述发射部可以包括：第一发射部，在所述第一子像素中；和第二发射部，在所述第二子像素中。所述连接电极可以设置在所述第一发射部和所述第二发射部之间。所述第一像素限定层可以覆盖所述第二子像素的所述第一电极的端部，并且可以暴露所述连接电极的端部。所述第二像素限定层可以覆盖所述第一子像素的所述第一电极的端部以及所述连接电极的另一端部。

27、在实施例中，一种制造显示装置的方法可以包括：在包括像素电路的底层上形成钝化层；在所述钝化层上对第一电极和连接电极进行图案化；蚀刻所述钝化层；在所述第一电极和所述连接电极上对像素限定层进行图案化；形成发射部；以及在所述发射部上形成第二电极。所述像素限定层的所述图案化可以包括从所述像素限定层暴露所述第一电极和所述连接电极中的每一者的至少一部分。所述钝化层的所述蚀刻可以包括暴露所述连接电极的下表面的至少一部分。

28、在实施例中，所述钝化层的所述蚀刻可以包括形成所述钝化层的阱区域和突出区域。所述阱区域可以包括在所述连接电极的所述下表面上的底切部分。

29、在实施例中，所述发射部可以包括空穴层、电子层、以及所述空穴层和所述电子层之间的发射层。所述发射层可以包括在第一子像素中的第一发射层和在第二子像素中的第二发射层。所述像素限定层的所述图案化可以包括：对第一像素限定层进行图案化；以及对第二像素限定层进行图案化。所述第一像素限定层可以覆盖所述第二子像素的所述第一电极的端部，并且可以暴露所述连接电极的端部。所述第二像素限定层可以覆盖所述第一子像素的所述第一电极的端部，并且覆盖所述连接电极的另一端部。

30、在实施例中，所述发射部的所述形成可以包括：沉积空穴层；在所述空穴层上对发射层进行图案化；以及沉积电子层。所述空穴层的所述沉积可以包括在所述连接电极的端部上切割所述空穴层。

31、在实施例中，所述第二电极的所述形成可以包括在所述连接电极的端部上切割所述第二电极。

32、在实施例中，所述第一电极可以包括第1-1电极、在所述第1-1电极上的第1-2电极以及在所述第1-2电极上的第1-3电极。所述连接电极可以包括第一连接电极、在所述第一连接电极上的第二连接电极、以及在所述第二连接电极上的第三连接电极。所述第1-1电极和所述第一连接电极可以通过相同的工艺形成。所述第1-2电极和所述第二连接电极可以通过相同的工艺形成。所述第1-3电极和所述第三连接电极可以通过相同的工艺形成。所述第1-1电极、所述第1-3电极、所述第一连接电极和所述第三连接电极中的每一者可以包括透明导电氧化物。所述第1-2电极和所述第二连接电极中的每一者可以包括反射材料。

33、在实施例中，所述第1-3电极可以具有比所述第1-1电极的厚度大的厚度。所述第三连接电极可以具有比所述第一连接电极的厚度大的厚度。所述第三连接电极可以比所述第二连接电极突出得长。

34、在实施例中，所述第一电极和所述连接电极中的每一者可以包括透明导电氧化物并且可以不包括反射材料。可以连续地执行所述第一电极和所述连接电极的所述图案化的干式蚀刻工艺以及去除所述钝化层的至少一部分的干式蚀刻工艺。