一种光掩膜表面的静电消除装置、方法及系统与流程

本申请涉及半导体制造，特别是涉及一种光掩膜表面的静电消除装置、方法及系统。

背景技术：

1、在半导体制造和精密电子设备的生产过程中，photo mask(光掩膜)的清洗过程是一个至关重要的环节。然而，在清洗过程中，由于清洗液与光掩膜之间的摩擦，容易在光掩膜表面生成电荷积聚，这种电荷积聚到一定程度时，会产生静电吸附和放电现象，对生产过程及产品质量造成诸多不良影响，例如粒子吸附、静电击穿、干扰电子束等，最终影响产品的质量和性能。

2、为了解决上述存在的现实问题，业界普遍采用离子风机来进行离子中和，但离子风机消除静电仍然存在诸多弊端，静电消除效果有限且工作效率低下。因此，需要提供一种针对上述不足的改进技术方案，以进一步提高光掩膜表面的清洗和静电去除效果，减少静电干扰，同时简化操作流程，提高生产效率。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术中光掩膜表面清洗存在的缺陷及不足，本申请提供一种光掩膜表面的静电消除装置、方法及系统，以改善现有光掩膜表面清洗效果。

2、为了实现上述目的及其他相关目的，第一方面，本申请提供一种光掩膜表面的静电消除装置，至少包括光掩膜盒体和循环风机系统，所述循环风机系统外接于所述光掩膜盒体，用以为所述光掩膜盒体内部提供循环离子气流并将离子中和后的循环离子气流排出。

3、在一些实施方式中，所述循环风机系统包括相互隔离的进气通道和排气通道，所述进气通道内设置电离器，用以产生离子；

4、所述进气通道和所述排气通道的一端分别开设进气口和排气口，以与外界环境连通；所述进气通道和所述排气通道的另一端分别联通至所述光掩膜盒体的内部，用以为所述光掩膜盒体内部提供循环离子气流。

5、在一些实施方式中，所述进气通道和所述排气通道中均设置供风装置，使所述进气通道的离子气流进入所述光掩膜盒体并使经过离子中和的离子气流由所述光掩膜盒体排出。

6、在一些实施方式中，所述进气通道中设置滤网，所述滤网位于所述供风装置与所述电离器之间。

7、在一些实施方式中，所述光掩膜盒体置于机台的装载平台之上，所述装载平台与所述光掩膜盒体分别设置相互对应的端子和通孔，通过启闭所述端子以控制离子气流流通。

8、在一些实施方式中，所述光掩膜盒体设置至少两个输入孔和至少两个输出孔；所述输入孔和所述输出孔均布于所述光掩膜盒体的底座的的边角处。

9、在一些实施方式中，所述循环风机系统内置于所述机台内部或外接于所述机台外部。

10、在一些实施方式中，还包括控制终端，所述控制终端分别与机台和循环风机系统电连接，用以接收所述机台的工作状态信号并对所述循环风机系统发出指令，控制所述循环风机系统的启闭。

11、第二方面，本申请还提供一种光掩膜表面的静电消除方法，包括以下步骤：

12、s100：光掩膜盒体外接于循环风机系统，将光掩膜置于光掩膜盒体中并关闭所述光掩膜盒体；

13、s200：光掩膜盒体就位后，启动循环风机系统提供离子气流，开启光掩膜盒体的气流通道以使离子气流形成循环气流；

14、s300：对所述光掩膜清洗完毕后，开启所述光掩膜盒体并取出所述光掩膜至下一个工作状态；

15、s400：工作完成后，取回所述光掩膜并置于所述光掩膜盒体中并关闭所述光掩膜盒体；重复对光掩膜的清洗过程；

16、s500：关闭所述光掩膜盒体的气流通道，使所述光掩膜置于密封的所述光掩膜盒体内保存，以备下一次使用。

17、第二方面，本申请还提供一种光掩膜表面的静电消除系统，用于消除光掩膜盒体中的光掩膜表面静电，所述系统至少包括：

18、电离单元，用于产生电离离子；

19、气流循环单元，用于将电离离子形成循环电离气流，以对光掩膜表面进行静电消除；

20、检测单元，用于检测光掩膜盒体的工作状态，并传输信号至控制终端；

21、控制终端，用于接收所述检测单元的信号并控制所述电离单元和所述气流循环单元的启闭。

22、与现有技术相比，本申请提供的光掩膜表面的静电消除装置、方法及系统至少具有以下有益效果：

23、本申请提供的光掩膜表面的静电消除装置包括光掩膜盒体和循环风机系统，循环风机系统外接于光掩膜盒体，用以为光掩膜盒体内部提供循环离子气流并将离子中和后的循环离子气流排出，循环离子气流能够在最大程度上清除光掩膜的表面静电，且该清除过程是在盒体封闭的情况下完成的，密封环境操作不易吸附空气中的微粒，导致光掩膜二次污染；另外，该装置通过外置循环风机系统控制，操作简单，静电消除效率比传统工艺得到了极大地提升。

技术特征：

1.一种光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，至少包括光掩膜盒体(3)和循环风机系统(2)，所述循环风机系统(2)外接于所述光掩膜盒体(3)，用以为所述光掩膜盒体(3)内部提供循环离子气流并将离子中和后的循环离子气流排出。

2.根据权利要求1所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述循环风机系统(2)包括相互隔离的进气通道(205)和排气通道(206)，所述进气通道(205)内设置电离器(204)，用以产生离子；

3.根据权利要求2所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述进气通道(205)和所述排气通道(206)中均设置供风装置，使所述进气通道(205)的离子气流进入所述光掩膜盒体(3)并使经过离子中和的离子气流由所述光掩膜盒体(3)排出。

4.根据权利要求3所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述进气通道(205)中设置滤网(209)，所述滤网(209)位于所述供风装置与所述电离器(204)之间。

5.根据权利要求1所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述光掩膜盒体(3)置于机台(1)的装载平台(101)之上，所述装载平台(101)与所述光掩膜盒体(3)分别设置相互对应的端子和通孔，通过启闭所述端子以控制离子气流流通。

6.根据权利要求5所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述光掩膜盒体(3)设置至少两个输入孔(302)和至少两个输出孔(303)；所述输入孔(302)和所述输出孔(303)均布于所述光掩膜盒体(3)的底座(301)的的边角处。

7.根据权利要求5所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，所述循环风机系统(2)内置于所述机台(1)内部或外接于所述机台(1)外部。

8.根据权利要求5所述的光掩膜表面的静电消除装置，其特征在于，还包括控制终端，所述控制终端分别与机台(1)和循环风机系统(2)电连接，用以接收所述机台(1)的工作状态信号并对所述循环风机系统(2)发出指令，控制所述循环风机系统(2)的启闭。

9.一种光掩膜表面的静电消除方法，其特征在于，包括以下步骤：

10.一种光掩膜表面的静电消除系统，其特征在于，用于消除光掩膜盒体(3)中的光掩膜表面静电，所述系统至少包括：

技术总结本申请提供了一种光掩膜表面的静电消除装置、方法及系统，该装置包括光掩膜盒体和循环风机系统，循环风机系统外接于光掩膜盒体，用以为光掩膜盒体内部提供循环离子气流并将离子中和后的循环离子气流排出，循环离子气流能够在最大程度上清除光掩膜的表面静电，且该清除过程是在盒体封闭的情况下完成的，密封环境操作不易吸附空气中的微粒，导致光掩膜二次污染；另外，该装置通过外置循环风机系统控制，操作简单，静电消除效率比传统工艺得到了极大地提升。技术研发人员：逄宇帆,李全鑫受保护的技术使用者：青岛方益技术有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/20