一种水质仪表传感器自清洁方法和系统与流程

本发明涉及自动化控制，具体而言，涉及一种水质仪表传感器自清洁方法和系统。

背景技术：

1、目前无论是净水处理还是污水处理厂，为了保障生产的安全性、高效性、连续性，绝大多数都实现了自动化控制系统的建设，能够利用仪表检测到的参数自动控制相应的工艺流程，仪表数据的精准性就直接影响到控制效果的优劣，错误的数据不仅会导致自动程序计算出错误的控制参数，还会影响人员判断与操作，甚至降低应急响应效率，导致生产事故的发生。

2、在水处理场景中，为了获取水体的ph、cod、orp、氨氮、浊度等重要参数，水质仪表是必不可少的装置。水质仪表主要分为两大类，一类是利用化学试剂对采样水进行检测的在线仪表箱，一类是利用浸入式传感器直接进行测量的水质检测仪，后者需要将传感器直接投入到水体中，因此工作环境更为恶劣，尤其是在污水处理环境中，传感器极易被污浊物覆盖从而导致测量不准，因此需要进行清洗。

3、目前市场上的自清洁产品及解决方案绝大多数针对的都是在线仪表箱，例如设置预处理环节去除水中过量杂质、安装电动刷进行机械刷洗、利用清水或洗涤液喷洗、利用超声波产生震动空泡清洗等，而对于浸入式传感器往往采用的是人员定期前往现场手动清洗的方式，由于是人工定期前往现场清洗，无法应对水质或流量短期突变而导致的传感器被加速污染情况，同时由于需要人工手动清洗，一方面增加了厂站运行的人工成本，难以实现少人化运行要求；另一方面，巡检人员需要完成负重登高以及临池作业工作，存在着一定的人身安全隐患。

技术实现思路

1、本发明的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种水质仪表传感器自清洁方法和系统，以便在控制目标电动提升机构带动目标水质仪表传感器在预设垂直方向上移动，通过目标清洗机构对目标水质仪表传感器进行清洗，实现了对目标水质仪表传感器的自动清洁。

2、为实现上述目的，本技术实施例采用的技术方案如下：

3、第一方面，本技术实施例提供了一种水质仪表传感器自清洁方法，应用于自清洁系统中的控制模块，所述方法包括：

4、确定多个水质仪表传感器是否满足预设自清洁条件；

5、若所述多个水质仪表传感器中目标水质仪表传感器满足所述预设自清洁条件，则控制所述目标水质仪表传感器所在目标清洗点位中的目标电动提升机构将所述目标水质仪表传感器提升至预设垂直方向上的预设高度上限位置；其中，所述预设垂直方向为垂直于监测水体的表面的方向；

6、控制预设水源为所述目标清洗点位中的目标清洗机构供水；

7、控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器在所述预设垂直方向上移动，以使得所述目标清洗机构在所述目标水质仪表传感器的移动过程中对所述目标水质仪表传感器进行清洗作业。

8、在可选的实施方式中，所述控制预设水源为所述目标清洗点位中的目标清洗机构供水，包括：

9、控制所述预设水源连接的水泵开启；

10、若所述水泵的出水频率达到预设频率条件，则控制所述目标清洗机构的供水阀门开启，以为所述目标清洗机构供水。

11、在可选的实施方式中，所述控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器在预设垂直方向上移动，包括：

12、控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器从所述预设高度上限位置下降；

13、若所述目标水质仪表传感器下降至所述预设垂直方向上的预设清洗下限位置，则控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器提升直至所述预设高度上限位置；

14、继续控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器从所述预设高度上限位置下降，直至所述目标水质仪表传感器达到所述预设清洗下限位置的次数满足预设清洗次数条件，则确定所述目标水质仪表传感器清洗完成。

15、在可选的实施方式中，所述方法还包括：

16、若达到所述预设清洗下限位置的次数满足所述预设清洗次数条件，则控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器下降至所述预设垂直方向的预设高度下限位置。

17、在可选的实施方式中，所述方法还包括：

18、若所述目标水质仪表传感器清洗完成，则控制所述水泵以预设高压模式运行，使得所述目标清洗机构上的喷头对毛刷进行冲洗；

19、若所述水泵在所述预设高压模式的运行时长达到预设时长，则控制所述水泵和所述供水阀门关闭。

20、在可选的实施方式中，所述确定所述多个水质仪表传感器是否满足预设自清洁条件，包括：

21、根据当前时间以及预设固定清洗周期，确定所述多个水质仪表传感器在所述当前时间是否满足所述预设自清洁条件；

22、或者，根据当前时间以及每个水质仪表传感器对应的自适应清洗周期，确定所述每个水质仪表传感器是否满足所述预设自清洁条件；

23、或者，根据是否接收到针对所述多个水质仪表传感器的清洗操作指令，确定所述多个水质仪表传感器是否满足所述预设自清洁条件。

24、在可选的实施方式中，所述根据当前时间以及每个水质仪表传感器对应的自适应清洗周期，确定所述每个水质仪表传感器是否满足所述预设自清洁条件，包括：

25、根据所述每个水质仪表传感器所在所述目标清洗点位的水质监测数据，计算所述每个水质仪表传感器的对应的自适应清洗周期；

26、根据所述每个水质仪表传感器对应的自适应清洗周期，以及预设固定清洗周期，确定所述每个水质仪表传感器对应的目标清洗周期；

27、根据所述当前时间和所述目标清洗周期，确定所述每个水质仪表传感器是否满足所述预设自清洁条件。

28、在可选的实施方式中，所述根据所述每个水质仪表传感器对应的自适应清洗周期，以及预设固定清洗周期，确定所述每个水质仪表传感器对应的目标清洗周期，包括：

29、若所述自适应清洗周期大于等于所述预设固定清洗周期，则确定所述预设固定清洗周期为所述目标清洗周期；

30、若所述自适应清洗周期小于所述预设固定清洗周期，则确定所述自适应清洗周期为所述目标清洗周期。

31、第二方面，本技术实施例还提供了一种自清洁系统，所述自清洁系统包括：多个清洗点位、控制模块，其中，每个清洗点位设置有：至少一个电动提升机构以及至少一个清洗机构，所述控制模块与所述至少一个电动提升机构连接，所述控制模块还与所述至少一个清洗机构连接，其中，所述控制模块用于执行上述第一方面中任一所述的水质仪表传感器自清洁方法的步骤；

32、每个电动提升机构连接有一个水质仪表传感器，所述每个电动提升机构还设置有沿着预设垂直方向上布置的至少一个行程开关，以分别采集所述水质仪表传感器在所述预设垂直方向的位置信号；

33、所述至少一个清洗机构的进水口均连接预设水源。

34、在可选的实施方式中，所述每个清洗点位还设置有：液位传感器、水流量传感器、浊度传感器；

35、所述液位传感器、所述水流量传感器、所述浊度传感器分别连接所述控制模块。

36、第三方面，本技术实施例还提供了一种水质仪表传感器自清洁装置，应用于自清洁系统中的控制模块，所述装置包括：

37、确定模块，用于确定多个水质仪表传感器是否满足预设自清洁条件；

38、控制模块，用于若所述多个水质仪表传感器中目标水质仪表传感器满足所述预设自清洁条件，则控制所述目标水质仪表传感器所在目标清洗点位中的目标电动提升机构将所述目标水质仪表传感器提升至预设垂直方向上的预设高度上限位置；其中，所述预设垂直方向为垂直于监测水体的表面的方向；

39、所述控制模块，还用于控制预设水源为所述目标清洗点位中的目标清洗机构供水；

40、所述控制模块，还用于控制所述目标电动提升机构带动所述目标水质仪表传感器在所述预设垂直方向上移动，以使得所述目标清洗机构在所述目标水质仪表传感器的移动过程中对所述目标水质仪表传感器进行清洗作业。

41、第四方面，本技术实施例还提供了一种控制模块，包括：处理器、存储介质和总线，所述存储介质存储有所述处理器可执行的程序指令，当电子设备运行时，所述处理器与所述存储介质之间通过总线通信，所述处理器执行所述程序指令，以执行如第一方面中任一所述的水质仪表传感器自清洁方法的步骤。

42、第五方面，本技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器运行时执行如第一方面中任一所述的水质仪表传感器自清洁方法的步骤。

43、本技术的有益效果是：

44、本技术实施例提供了一种水质仪表传感器自清洁方法和系统，该方法包括：确定多个水质仪表传感器是否满足预设自清洁条件，若多个水质仪表传感器中目标水质仪表传感器满足预设自清洁条件，则控制目标水质仪表传感器所在目标清洗点位中的目标电动提升机构将目标水质仪表传感器提升至预设垂直方向上的预设高度上限位置；其中，预设垂直方向为垂直于监测水体的表面的方向，然后控制预设水源为目标清洗点位中的目标清洗机构供水，最后控制目标电动提升机构带动目标水质仪表传感器在预设垂直方向上移动，以使得目标清洗机构在目标水质仪表传感器的移动过程中对目标水质仪表传感器进行清洗作业。

45、本技术的方法中，通过确定目标水质仪表传感器是否满足预设自清洁条件，若满足，则控制对应的目标电动提升机构将目标水质仪表传感器提升至预设高度上限位置，然后控制目标清洗机构供水，在控制目标电动提升机构带动目标水质仪表传感器在预设垂直方向上移动，通过目标清洗机构对目标水质仪表传感器进行清洗，实现了对目标水质仪表传感器的自动清洁，无需人员去现场进行清洗，降低人工成本，提高目标水质仪表传感器的清洗效率，保障水质数据的检测准确度。