一种锡槽加锡及锡灰清理装置的制作方法

本发明属于超薄玻璃生产，特别涉及一种锡槽加锡及锡灰清理装置。

背景技术：

1、浮法玻璃生产过程中，玻璃下表面与托浮介质锡液直接接触，锡损耗无可避免，同时，锡槽内部与外部氧浓度差的存在，必然会导致部分锡液氧化产生锡损耗，因此，必须定期在进行加锡确保锡槽内锡液面高度满足生产需求，多数浮法产线加锡位置位于锡槽收缩段，加锡过程缓慢，锡锭表层氧化部分同样会进入锡槽；另锡槽出口端锡灰一般会流入两侧扒渣池，定期打开观察窗对扒渣池锡灰进行清理，期间会短时间造成槽压降低，外界空气污染锡液。因此亟需设计一种加锡及锡灰清理装置，避免锡液污染，及时清理锡灰。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题是提供一种锡槽加锡及锡灰清理装置，可实现集中加锡或日常生产加锡，通过加锡方式的优化，大幅缩短了加锡时长，加锡过程从单侧优化为两侧同步加入，可及时清理锡锭表面氧化物带入锡灰；同时满足维持日常生产锡液面高度，扒锡灰过程减少开孔氧化锡液，定期清理存量锡灰即可，进一步确保锡槽内部洁净程度。

2、为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：

3、一种锡槽加锡及锡灰清理装置，包括安装在锡灰清理边封的边封固定端，边封固定端连接工作箱体，工作箱体上设有观察孔和存量锡灰清理孔，工作箱体内设有扒锡灰耙子和加锡孔锡锭固定杆。

4、优选地，工作箱体上部为方体结构，工作箱体底部为梯台结构，存量锡灰清理孔位于工作箱体底部。

5、优选地，扒锡灰耙子位于存量锡灰清理孔上方，且扒锡灰耙子位于观察孔下方。

6、优选地，扒锡灰耙子包括耙体和手杆，手杆用于带动耙体活动，手杆的握柄位于工作箱体外部。

7、优选地，手杆上设有多个耙体。

8、优选地，观察孔处安装有玻璃观察窗。

9、优选地，边封固定端通过过渡箱与工作箱体连接。

10、一种锡槽加锡及锡灰清理装置的操作方法，通过玻璃观察窗观察锡槽内的情况，当需要进行清灰时，拖动扒锡灰耙子（4）将锡灰刮入存量锡灰清理孔（6），从锡灰清理孔（6）进行清理，上述操作中槽压基本维持，槽压维持稳定确保锡槽内部工况维持稳定，避免了拆除密封打开观察窗，避免了扒锡灰开孔清理，有效避免锡液被氧化，确保了锡槽内部洁净；当进行加锡时，将锡块从加锡孔锡锭固定杆推入。

11、本发明可达到以下有益效果：

12、可实现集中加锡或日常生产加锡，通过加锡方式的优化，大幅缩短了加锡时长，加锡过程从单侧优化为两侧同步加入，可及时清理锡锭表面氧化物带入锡灰；同时满足维持日常生产锡液面高度，扒锡灰过程减少开孔氧化锡液，定期清理存量锡灰即可，进一步确保锡槽内部洁净程度。

技术特征：

1.一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：包括安装在锡灰清理边封（1）的边封固定端（2），边封固定端（2）连接工作箱体（7），工作箱体（7）上设有观察孔（3）和存量锡灰清理孔（6），工作箱体（7）内设有扒锡灰耙子（4）和加锡孔锡锭固定杆。

2.根据权利要求1所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：工作箱体（7）上部为方体结构，工作箱体（7）底部为梯台结构，存量锡灰清理孔（6）位于工作箱体（7）底部。

3.根据权利要求2所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：扒锡灰耙子（4）位于存量锡灰清理孔（6）上方，且扒锡灰耙子（4）位于观察孔（3）下方。

4.根据权利要求1所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：扒锡灰耙子（4）包括耙体和手杆，手杆用于带动耙体活动，手杆的握柄位于工作箱体（7）外部。

5.根据权利要求4所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：手杆上设有多个耙体。

6.根据权利要求1所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：观察孔（3）处安装有玻璃观察窗。

7.根据权利要求1所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置，其特征在于：边封固定端（2）通过过渡箱与工作箱体（7）连接。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的一种锡槽加锡及锡灰清理装置的操作方法，其特征在于：通过玻璃观察窗观察锡槽内的情况，当需要进行清灰时，拖动扒锡灰耙子（4）将锡灰刮入存量锡灰清理孔（6），从锡灰清理孔（6）进行清理，上述操作中槽压基本维持，槽压维持稳定确保锡槽内部工况维持稳定，避免了拆除密封打开观察窗，避免了扒锡灰开孔清理，有效避免锡液被氧化，确保了锡槽内部洁净；当进行加锡时，将锡块从加锡孔锡锭固定杆推入。

技术总结一种锡槽加锡及锡灰清理装置，包括安装在锡灰清理边封的边封固定端，边封固定端连接工作箱体，工作箱体上设有观察孔和存量锡灰清理孔，工作箱体内设有扒锡灰耙子和加锡孔锡锭固定杆。本发明可实现集中加锡或日常生产加锡，通过加锡方式的优化，大幅缩短了加锡时长，加锡过程从单侧优化为两侧同步加入，可及时清理锡锭表面氧化物带入锡灰；同时满足维持日常生产锡液面高度，扒锡灰过程减少开孔氧化锡液，定期清理存量锡灰即可，进一步确保锡槽内部洁净程度。技术研发人员：罗柏林,谢文巧,张红军,王玉利,胡高鹏,王明忠受保护的技术使用者：宜昌南玻光电玻璃有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/12