一种抛光设备的制作方法

本技术涉及抛光，尤其涉及一种抛光设备。

背景技术：

1、陶瓷制品在抛光时不便固定，而在对一些陶瓷片进行抛光时，陶瓷片容易发生移动，影响抛光的效果。

2、现有公告号cn217942965u公开了一种陶瓷加工抛光设备，该陶瓷加工抛光设备包括底座、负压定位机构、驱动件和抛光机构。底座的上端面安装有立板，且立板的顶端设置有架板；负压定位机构包括转盘和定位管，转盘转动安装于架板的表面，定位管固定于转盘的中心，且定位管的管身紧固套接有密封胶圈，密封胶圈的底端和转盘固定连接。本申请通过密封胶圈、转盘、定位管、伸缩件、旋转连接件和活塞配合，以负压吸附的方式将陶瓷片固定在转盘的上端面，抛光过程中，陶瓷片不易发生晃动，提高陶瓷片在抛光时的稳定性，进而提高陶瓷片抛光的效果。

3、但是，上述一种陶瓷加工抛光设备使用时，无法在输送陶瓷片的途中对陶瓷片进行抛光，导致对陶瓷片的抛光时间过长，减慢了加工进度。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种抛光设备，解决了抛光设备使用时，无法在输送陶瓷片的途中对陶瓷片进行抛光，导致对陶瓷片的抛光时间过长，减慢了加工进度的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供了一种抛光设备，包括底座、抛光组件、输送组件和缓冲组件；所述抛光组件包括支撑柱、顶板、液压缸、液压柱和升降板，所述支撑柱的数量为四个，四个所述支撑柱分别与所述底座固定连接，并分别位于所述支撑柱的顶部，所述顶板与所述支撑柱固定连接，并位于所述支撑柱的顶部，所述液压缸与所述顶板固定连接，并位于所述顶板的顶部，所述液压柱的数量为两个，两个所述液压柱分别与所述液压缸连接，并分别穿过所述顶板，所述升降板与所述液压柱固定连接，并位于所述液压柱的底部，所述升降板的底部设置有一个抛光槽，所述抛光槽的内部设置有两个导向槽，所述输送组件与所述底座连接，所述缓冲组件与所述底座连接。

3、其中，所述抛光组件还包括抛光座和导向条，所述抛光座与所述升降板滑动连接，并位于所述抛光槽的内部，所述导向条的数量为两个，两个所述导向条分别与所述抛光座固定连接，并分别位于所述导向槽的内部。

4、其中，所述抛光组件还包括支撑座和限位座，所述支撑座的数量为两个，两个所述支撑座分别与所述升降板固定连接，并分别位于所述升降板的两侧，每个所述支撑座的底部固定连接有一个所述限位座。

5、其中，所述输送组件包括输送机和挡板，所述输送机与所述底座固定连接，并位于所述底座的顶部，所述挡板的数量为两个，两个所述挡板分别与所述输送机固定连接，并分别位于所述输送机的两侧。

6、其中，所述缓冲组件包括缓冲弹簧和缓冲板，所述缓冲弹簧的数量为多个，多个所述缓冲弹簧分别与所述底座固定连接，并分别位于所述底座的顶部，所述缓冲板的数量为两个，两个所述缓冲板分别与多个所述缓冲弹簧固定连接，并分别位于所述缓冲弹簧的顶部。

7、本实用新型的一种抛光设备，通过所述液压缸内的液压装置将所述液压柱向下推出，同时推动所述升降板降下，带动所述抛光座向下移动，通过所述抛光座与所述输送组件表面的瓷片接触，对所述输送组件表面输送的瓷片进行抛光，实现了抛光与输送同时进行，缩短了加工时长，解决了抛光设备使用时，无法在输送陶瓷片的途中对陶瓷片进行抛光，导致对陶瓷片的抛光时间过长，减慢了加工进度的问题。

技术特征：

1.一种抛光设备，包括底座，其特征在于，

2.如权利要求1所述的一种抛光设备，其特征在于，

3.如权利要求2所述的一种抛光设备，其特征在于，

4.如权利要求1所述的一种抛光设备，其特征在于，

5.如权利要求1所述的一种抛光设备，其特征在于，

技术总结本技术涉及抛光技术领域，具体涉及一种抛光设备，包括底座、抛光组件、输送组件和缓冲组件；抛光组件包括支撑柱、顶板、液压缸、液压柱和升降板，支撑柱的数量为四个，四个支撑柱分别与底座固定连接，顶板与支撑柱固定连接，液压缸与顶板固定连接，液压柱的的数量为两个，两个液压柱分别与液压缸连接，升降板与液压柱固定连接，升降板的底部设置有一个抛光槽，抛光槽的内部设置有两个导向槽，输送组件与底座连接，缓冲组件与底座连接，解决了抛光设备使用时，无法在输送陶瓷片的途中对陶瓷片进行抛光，导致对陶瓷片的抛光时间过长，减慢了加工进度的问题。技术研发人员：马晓东受保护的技术使用者：重庆百川科技发展有限公司技术研发日：20231120技术公布日：2024/9/17