一种基于火焰水解法制备沉积层的装置的制作方法

本发明涉及一种自动化机械领域，特别涉及一种基于火焰水解法制备沉积层的装置。

背景技术：

1、为了制造执行重要功能的光波导或波导型光学器件，必须形成具有与光纤相似的折射率分布和折射率结构的波导，为此，由sio2组成的包覆层以及形成geo2，p2o5，b2o3，必须形成由tio2掺杂芯层组成的二氧化硅厚膜。

2、作为形成这种二氧化硅厚膜的方法，已经提出了使用火焰水解沉积的方法，火焰水解法是一种气相化学反应法，主要用于制备和生产纳米粉体材料，在火焰水解法中，原料如硅或有机硅的氯化物(如sicl4或ch3sicl3等)首先被气化，然后与氢气、氧气混合，在高温下发生水解反应，形成雾状的sio2。

3、现有的沉积装置都是通过移动火焰水解反应的喷枪实现均匀化沉积层，但是这种方法限制了晶片的置料范围，直径太长时装置的占地面积就会增大，同时火焰水解反应的喷枪的往复运动，特别是在行程终点端时容易出现震动，导致喷枪口抖动，使晶片表面的沉积层出现不均匀的情况。

技术实现思路

1、本发明的主要目的在于提供了一种基于火焰水解法制备沉积层的装置。

2、为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

3、一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，包括下工作台和上罩体，该下工作台上固定安装有电机，该电机上固定安装有旋转台，该旋转台上固定安装有用于安放晶片的置料台，该置料台设有与旋转台的旋转方向相对应的倾斜角度，该上罩体上固定安装有火焰水解喷枪，该火焰水解喷枪也设有与置料台的倾斜角度相同的倾斜角度，即火焰水解喷枪的喷枪口与下方对应置料台的置料面呈垂直角度。

4、进一步的，所述置料台为一个置料治具，该置料治具为圆环状，该置料治具上固定开设有若干以旋转台圆心为轴线圆形阵列排列的若干置料槽，该置料台的倾斜角度为置料槽的倾斜角度。

5、进一步的，所述置料台为多个置料治具组成，多个置料治具组合成圆环状，该置料治具以旋转台圆心为轴线圆形阵列排列，该置料治具上固定开设有置料槽，该置料台的倾斜角度为置料治具的倾斜角度。

6、进一步的，所述置料槽之间均设有间距。

7、进一步的，所述火焰水解喷枪与上罩体之间还设有横向调节装置，该横向调节装置上还设有旋转调节装置。

8、进一步的，所述火焰水解喷枪的喷头端设有防护罩，该防护罩内设有用于限位产品沉积的限位腔体，该限位腔体的下端面固定开设有用于产品沉积在晶片上的开口。

9、进一步的，所述上罩体的上端面上还固定开设有排气口，该排气口固定连接有废气处理装置。

10、进一步的，所述置料治具的倾斜角度为可调结构，所述置料治具包括下固定板，包裹在下固定板两侧的限位板，该下固定板的下端面可旋转连接有旋转支撑座，该下固定板的下端面固定连接有升降调节组件。

11、进一步的，所述升降调节组件包括升降底板，升降支撑柱，浮动连接件，升降动力组件，该升降动力组件与升降底板的中心处固定连接，该升降底板的上端面上固定安装有与置料槽数量相同的升降支撑柱，该升降支撑柱的上端面固定连接有浮动连接件，该浮动连接件与下固定板的下端面固定连接。

12、更进一步的，所述火焰水解喷枪的喷枪口置于置料台上晶片的火焰投影始终为圆形。

13、与现有技术相比，本发明的有益效果为：

14、本发明通过圆盘状的置料方式，使晶元的置料可以更多，同时，通过晶元旋转的方式，解决了火焰水解喷枪移动时产生振动的情况，同时通过喷枪和置料槽的角度可调，提高晶元表面沉积层均衡的稳定性。

技术特征：

1.一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，包括下工作台(1)和上罩体(2)，该下工作台(1)上固定安装有电机(3)，其特征在于：该电机(3)上固定安装有旋转台(4)，该旋转台(4)上固定安装有用于安放晶片的置料台(5)，该置料台(5)设有与旋转台(4)的旋转方向相对应的倾斜角度，该上罩体(2)上固定安装有火焰水解喷枪(6)，该火焰水解喷枪(6)也设有与置料台(5)的倾斜角度相同的倾斜角度，即火焰水解喷枪(6)的喷枪口与下方对应置料台(5)的置料面呈垂直角度。

2.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述置料台(5)为一个置料治具(8)，该置料治具(8)为圆环状，该置料治具(8)上固定开设有若干以旋转台(4)圆心为轴线圆形阵列排列的若干置料槽(7)，该置料台(5)的倾斜角度为置料槽(7)的倾斜角度。

3.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述置料台(5)为多个置料治具(8)组成，多个置料治具(8)组合成圆环状，该置料治具(8)以旋转台(4)圆心为轴线圆形阵列排列，该置料治具(8)上固定开设有置料槽(7)，该置料台(5)的倾斜角度为置料治具(8)的倾斜角度。

4.根据权利要求2或3所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述置料槽(7)之间均设有间距。

5.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述火焰水解喷枪(6)与上罩体(2)之间还设有横向调节装置，该横向调节装置上还设有旋转调节装置。

6.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述火焰水解喷枪(6)的喷头端设有防护罩，该防护罩内设有用于限位产品沉积的限位腔体，该限位腔体的下端面固定开设有用于产品沉积在晶片上的开口。

7.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述上罩体(2)的上端面上还固定开设有排气口，该排气口固定连接有废气处理装置。

8.根据权利要求3所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述置料治具(8)的倾斜角度为可调结构，所述置料治具(8)包括下固定板(10)，包裹在下固定板(10)两侧的限位板(11)，该下固定板(10)的下端面可旋转连接有旋转支撑座(12)，该下固定板(10)的下端面固定连接有升降调节组件(13)。

9.根据权利要求8所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述升降调节组件(13)包括升降底板(14)，升降支撑柱(15)，浮动连接件(16)，升降动力组件(17)，该升降动力组件(17)与升降底板(14)的中心处固定连接，该升降底板(14)的上端面上固定安装有与置料槽(7)数量相同的升降支撑柱(15)，该升降支撑柱(15)的上端面固定连接有浮动连接件(16)，该浮动连接件(16)与下固定板(10)的下端面固定连接。

10.根据权利要求1所述的一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，其特征在于：所述火焰水解喷枪(6)的喷枪口置于置料台(5)上晶片的火焰投影始终为圆形。

技术总结本发明公开了一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，包括下工作台和上罩体，该下工作台上固定安装有旋转台，该旋转台上固定安装有置料台，该置料台设有与旋转台的旋转方向相对应的倾斜角度，该上罩体上固定安装有火焰水解喷枪，该火焰水解喷枪也设有与置料台的倾斜角度相同的倾斜角度，即火焰水解喷枪的喷枪口与置料台的置料面呈垂直角度，本发明通过置料台的倾斜角度降低离心力影响沉积层厚度的问题，提高了沉积层的结构稳定。技术研发人员：杨世武,眭朝萍,田帅受保护的技术使用者：苏科斯（江苏）半导体设备科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/10/17