一种光刻机及光源阵列化调节方法

本申请涉及光刻机，具体涉及一种光刻机及光源阵列化调节方法。

背景技术：

1、传统光刻机复眼透镜分为单体式复眼透镜和双排分离式复眼透镜两种类型，根据光学扩展量守恒，单体式复眼阵列准直后的光路具有一定的发散角，使得从复眼透镜射出的发散角远远大于聚焦镜的理论设计视场需求，相当于是多出来的视场光是杂散光的问题。双排分离式复眼透镜具有装配工艺要求前后排复眼对准精度高，易产生缺色缺边等问题。此外，传统的复眼透镜大部分采用单透镜粘合而成整个复眼的方式，透镜单元间隙大，光源通过前复眼透镜后部分光被损失，且降低了光的均匀性，无法精确输出目的光的分布形状。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种光刻机及光源阵列化调节方法、装置、存储介质及电子设备，能够使光刻机精确输出目的光的分布形状。

2、第一方面，本申请实施例提供一种光刻机，包括：

3、uv平行光源，所述uv平行光源用于产生uv平行光；

4、阵列化空间光调制器，所述阵列化空间光调制器用于对射入的所述uv平行光的分布形状进行整形，形成初步整形光束；

5、掩膜板，所述掩膜板用于对射入的所述初步整形光束的分布形状进行整形，形成二次整形光束；

6、聚焦镜，所述聚焦镜用于对所述二次整形光束进行聚焦，形成曝光光束；

7、处理器，所述处理器分别与所述uv平行光源、所述阵列化空间光调制器以及所述聚焦镜连接，所述处理器用于：

8、获取待光刻的目标光刻图案；

9、根据所述目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法；

10、控制所述uv平行光源产生目标uv平行光；

11、根据所述平行光分布形状控制算法控制所述阵列化空间光调制器对射入的所述目标uv平行光的分布形状进行整形形成目标初步整形光束；

12、根据所述掩膜板对射入的所述目标初步整形光束进行整形，形成目标二次整形光束；

13、控制所述聚焦镜对射入的所述目标二次整形光束进行聚焦，形成所述目标光刻图案对应的目标曝光光束。

14、第二方面，本申请实施例还提供一种光刻机光源阵列化调节方法，应用于光刻机，所述光刻机包括用于产生uv平行光的uv平行光源、用于对射入的所述uv平行光的分布形状进行整形形成初步整形光束的阵列化空间光调制器、用于对射入的所述初步整形光束的分布形状进行整形形成二次整形光束的掩膜板、、用于对所述二次整形光束进行聚焦形成曝光光束的聚焦镜，所述方法包括：

15、获取待光刻的目标光刻图案；

16、根据所述目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法；

17、控制所述uv平行光源产生目标uv平行光；

18、根据所述平行光分布形状控制算法控制所述阵列化空间光调制器对射入的所述目标uv平行光的分布形状进行整形形成目标初步整形光束；

19、根据所述掩膜板对射入的所述目标初步整形光束进行整形，形成目标二次整形光束；

20、控制所述聚焦镜对射入的所述目标二次整形光束进行聚焦，形成所述目标光刻图案对应的目标曝光光束。

21、本申请实施例提供一种由阵列化空间光调制器组成的阵列化复眼透镜，通过将阵列化空间光调制器替换传统的复眼透镜，并通过根据待光刻的目标光刻图案确定的平行光分布形状控制算法控制射入的uv平行光的分布形状，能使光刻机精确输出目的光，目的光也即目标曝光光束，从而能精确生成该目标光刻图案对应的目标曝光图案。

技术特征：

1.一种光刻机，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述阵列化空间光调制器为阵列化透射式液晶空间光调制器，所述阵列化透射式液晶空间光调制器设置在所述uv平行光源与所述掩膜板之间，所述的uv平行光源、所述阵列化透射式液晶空间光调制器与所述掩膜板平行放置，所述处理器控制所述阵列化透射式液晶空间光调制器将射入的所述目标初步整形光束直接射入所述掩膜板。

3.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述阵列化空间光调制器为阵列化反射式液晶空间光调制器，所述uv平行光源与所述掩膜板呈90度角放置，所述阵列化反射式液晶空间光调制器设置在所述uv平行光源和所述掩膜板之间呈45度角放置，所述处理器控制所述阵列化反射式液晶空间光调制器将射入的所述目标初步整形光束旋转90度反射入所述掩膜板内。

4.根据权利要求3所述的光刻机，其特征在于，所述光刻机还包括第一散热板，所述第一散热板设置在所述阵列化反射式液晶空间光调制器背面，所述第一散热板将未经过所述阵列化反射式液晶空间光调制器反射的所述目标初步整形光束转变为热能形式散发。

5.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述阵列化空间光调制器为阵列化数字微镜器件空间光调制器，所述uv平行光源与所述掩膜板呈90度角放置，所述阵列化数字微镜器件空间光调制器设置在所述uv平行光源和所述掩膜板之间呈45度角放置，所述阵列化数字微镜器件空间光调制器将射入的所述目标初步整形光束旋转90度反射入所述掩膜板内。

6.根据权利要求5所述的光刻机，其特征在于，所述光刻机还包括第二散热板，所述第二散热板设置在所述阵列化数字微镜器件空间光调制器对面，所述第二散热板将未射入所述掩膜板的所述目标初步整形光束转变为热能形式散发。

7.根据权利要求1至6任一项所述的光刻机，其特征在于，所述处理器还用于：

8.根据权利要求7任一项所述的光刻机，其特征在于，所述处理器还用于：

9.一种光刻机光源阵列化调节方法，其特征在于，所述光刻机包括用于产生uv平行光的uv平行光源、用于对射入的所述uv平行光的分布形状进行整形形成初步整形光束的阵列化空间光调制器、用于对射入的所述初步整形光束的分布形状进行整形形成二次整形光束的掩膜板、用于对所述二次整形光束进行聚焦形成曝光光束的聚焦镜，所述方法包括：

10.如权利要求9所述的光刻机光源阵列化调节方法，其特征在于，所述根据所述平行光分布形状控制算法控制所述阵列化空间光调制器对射入的所述目标uv平行光进行整形，形成目标初步整形光束，包括：

技术总结本申请公开了一种光刻机及光源阵列化调节方法，其中，该方法用于获取待光刻的目标光刻图案，根据目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法，控制UV平行光源产生UV平行光，根据平行光分布形状控制算法控制阵列化空间光调制器对射入的UV平行光的分布形状进行整形形成目标初步整形光束，根据掩膜板对射入的目标初步整形光束进行整形，形成目标二次整形光束，控制聚焦镜对射入的目标二次整形光束进行聚焦，形成目标光刻图案对应的目标曝光光束。本申请能够使光刻机精确输出目的光的分布形状。技术研发人员：陆磊,韩子娟,尹建刚,王云萍,王帆帆,张盛东受保护的技术使用者：北京大学深圳研究生院技术研发日：技术公布日：2025/1/6