曝光系统及曝光机的制作方法

本技术涉及光刻，尤其涉及一种曝光系统及曝光机。

背景技术：

1、显示面板上的走线在制作过程中，需要用到曝光系统对光阻进行曝光，后续再利用显影等技术形成走线。

2、然而，现有的第一基板在涂布工艺后会在起刀处形成膜厚不一致的地方，产品图形的cd线宽会在起刀位置出现局部异常，这也就导致了后续经过曝光系统曝光后制作的走线宽度不一致，也即影响了cd均一性及spc cpk(品质系统管控指标)，影响产品良率。

技术实现思路

1、本实用新型提供了一种曝光系统及曝光机，以提高产品线宽的均一性，提高产品良率。

2、根据本实用新型的一方面，提供了一种曝光系统，所述曝光系统包括：光源组件、弧形镜组、掩膜版、透镜组和补偿镜组；所述光源组件的出射光依次经过所述弧形镜组、所述掩膜版及所述透镜组后对第一基板进行曝光；所述掩膜版能够沿第一方向或所述第一方向的反方向移动；

3、所述补偿镜组设置于所述透镜组的出射光路上；所述补偿镜组设有至少一个在所述第一方向上位置可变的补偿区域，每个所述补偿区域包括沿所述第一方向排列的第一透光区和与第二透光区；所述第一透光区和所述第二透光区的透光率不同；且所述第一透光区的宽度与所述第一基板对应的光阻膜厚异常区的宽度相等，所述第二透光区的宽度大于或等于所述透镜组出射光的宽度的二倍。

4、可选地，所述补偿镜组包括液晶盒，所述液晶盒配置为控制其液晶分子的偏转状态以形成所述第一透光区及所述第二透光区。

5、可选地，所述至少一个补偿区域包括第一补偿区域；在所述第一补偿区域中，所述第一透光区的透光率小于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第一半透镜，所述第一半透镜设置于所述第一补偿区域中的所述第一透光区；所述第一补偿区域中的所述第二透光区为净空区。

6、可选地，所述至少一个补偿区域包括第二补偿区域；在所述第二补偿区域中，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第二半透镜，所述第二半透镜设置于所述第二补偿区域中的所述第二透光区；所述第二补偿区域中的所述第一透光区为净空区。

7、可选地，所述至少一个补偿区域还包括第三补偿区域和第四补偿区域；

8、在所述第三补偿区域中，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第三半透镜，所述第三半透镜设置于所述第三补偿区域中的所述第二透光区；所述第三补偿区域中的所述第一透光区设置有第一全透镜；沿所述第一方向，所述第一全透镜与所述第三半透镜顺序排列；

9、在所述第四补偿区域中，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第四半透镜，所述第四半透镜设置于所述第四补偿区域中的所述第二透光区；所述第四补偿区域中的所述第一透光区设置有第二全透镜；沿所述第一方向，所述第四半透镜和所述第二全透镜顺序排列。

10、可选地，所述补偿镜组还包括导轨；所述导轨沿所述第一方向延伸。

11、可选地，所述曝光系统还包括设置于所述透镜组的出射光路上的可移动遮光板；沿所述透镜组的出射光方向，所述补偿镜组与所述可移动遮光板顺序排列，或者所述可移动遮光板与所述补偿镜组顺序排列。

12、可选地，所述透镜组包括梯形镜、凹面镜和凸面镜，所述梯形镜与所述掩膜版的出光面相对设置，所述凸面镜设置于所述梯形镜与所述凹面镜之间，经过所述掩膜版的出射光经所述梯形镜、所述凹面镜、所述凸面镜、所述凹面镜、所述梯形镜依次反射。

13、可选地，所述曝光系统还包括载台，所述载台用于承载所述第一基板。

14、根据本实用新型的另一方面，提供了一种曝光机，所述曝光机包括如上所述的曝光系统。

15、本实用新型实施例的技术方案，采用的曝光系统包括：光源组件、弧形镜组、掩膜版、透镜组和补偿镜组；光源组件的出射光依次经过弧形镜组、掩膜版及透镜组后对第一基板进行曝光；掩膜版能够沿第一方向或第一方向的反方向移动；补偿镜组设置于透镜组的出射光路上；补偿镜组设有至少一个在第一方向上位置可变的补偿区域，每个补偿区域包括沿第一方向排列的第一透光区和与第二透光区；第一透光区和第二透光区的透光率不同；且第一透光区的宽度与第一基板对应的光阻膜厚异常区的宽度相等，第二透光区的宽度大于或等于透镜组出射光的宽度的二倍。光阻膜厚异常区接收的光的能量得到补偿，进而使得后续显影后走线cd的一致性较高。

16、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本实用新型的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本实用新型的范围。本实用新型的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

技术特征：

1.一种曝光系统，其特征在于，所述曝光系统包括：光源组件、弧形镜组、掩膜版、透镜组和补偿镜组；所述光源组件的出射光依次经过所述弧形镜组、所述掩膜版及所述透镜组后对第一基板进行曝光；所述掩膜版能够沿第一方向或所述第一方向的反方向移动；

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述补偿镜组包括液晶盒，所述液晶盒配置为控制其液晶分子的偏转状态以形成所述第一透光区及所述第二透光区。

3.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述至少一个补偿区域包括第一补偿区域；在所述第一补偿区域中，所述第一透光区的透光率小于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第一半透镜，所述第一半透镜设置于所述第一补偿区域中的所述第一透光区；所述第一补偿区域中的所述第二透光区为净空区。

4.根据权利要求1或3所述的曝光系统，其特征在于，所述至少一个补偿区域包括第二补偿区域；在所述第二补偿区域中，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率；所述补偿镜组包括第二半透镜，所述第二半透镜设置于所述第二补偿区域中的所述第二透光区；所述第二补偿区域中的所述第一透光区为净空区。

5.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，所述至少一个补偿区域还包括第三补偿区域和第四补偿区域；

6.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述补偿镜组还包括导轨；所述导轨沿所述第一方向延伸。

7.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括设置于所述透镜组的出射光路上的可移动遮光板；沿所述透镜组的出射光方向，所述补偿镜组与所述可移动遮光板顺序排列，或者所述可移动遮光板与所述补偿镜组顺序排列。

8.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述透镜组包括梯形镜、凹面镜和凸面镜，所述梯形镜与所述掩膜版的出光面相对设置，所述凸面镜设置于所述梯形镜与所述凹面镜之间，经过所述掩膜版的出射光经所述梯形镜、所述凹面镜、所述凸面镜、所述凹面镜、所述梯形镜依次反射。

9.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括载台，所述载台用于承载所述第一基板。

10.一种曝光机，其特征在于，所述曝光机包括权利要求1-9任一项所述的曝光系统。

技术总结本技术公开了一种曝光系统及曝光机。曝光系统包括：光源组件、弧形镜组、掩膜版、透镜组和补偿镜组；光源组件的出射光依次经过弧形镜组、掩膜版及透镜组后对第一基板进行曝光；掩膜版能够沿第一方向或第一方向的反方向移动；补偿镜组设置于透镜组的出射光路上；补偿镜组设有至少一个在第一方向上位置可变的补偿区域，每个补偿区域包括沿第一方向排列的第一透光区和与第二透光区；第一透光区和第二透光区的透光率不同；且第一透光区的宽度与第一基板对应的光阻膜厚异常区的宽度相等，第二透光区的宽度大于或等于透镜组出射光的宽度的二倍。本技术能够提高产品线宽的均一性，提高产品良率。技术研发人员：汪杰,林世宏受保护的技术使用者：昆山龙腾光电股份有限公司技术研发日：20231103技术公布日：2024/6/5