处理设备和处理方法与流程

本公开的实施例涉及一种处理设备和一种处理方法，并且更具体地，涉及一种能够同时对处理对象进行切割和钢化(tempering)的处理设备和处理方法。

背景技术：

1、显示装置用于各种多媒体装置(诸如电视机、移动电话、平板计算机或游戏机)，以为用户提供图像信息。最近，各种类型的可折叠或可弯曲的柔性显示装置正在开发中。

2、柔性显示装置可以包括可折叠或可弯曲的显示模块和窗。包括在显示装置中的窗有效地将从显示模块提供的图像信息传输到外部，并且从外部保护显示模块。

3、用于柔性显示装置的窗的玻璃需要可折叠或可弯曲，或者具有良好的抗外部冲击的刚度。化学钢化的超薄玻璃已经可以被用于窗。因此，正在对有效制造化学钢化的超薄玻璃的工艺执行研究。

技术实现思路

1、本公开的实施例提供了一种处理设备和处理方法，能够使用光束和材料切割超薄玻璃。

2、本公开的实施例提供了一种处理设备和处理方法，能够将超薄玻璃的预定区的温度保持在混合物的部分材料和处理对象之间的离子交换的温度。

3、本公开的实施例提供了一种处理设备和处理方法，能够通过将混合物喷射到超薄玻璃的预定区中来同时对超薄玻璃进行切割和钢化。

4、在本公开的实施例中，一种处理设备包括：第一处理单元，将混合物喷射到处理对象的第一区中；和第二处理单元，将光束照射到所述处理对象的所述第一区中，并且将所述第一区的温度保持在预定温度或更高，其中，所述预定温度是用于所述处理对象和所述混合物的一些材料之间的离子交换的温度。

5、在实施例中，所述混合物可以包括：第一材料和第二材料，是彼此不同的，所述第一区可以包括由所述第一材料暴露的切割表面，并且所述切割表面可以由所述第二材料修复和钢化。

6、在实施例中，所述光束具有限定在喷射的所述混合物内部的路径。

7、在实施例中，所述光束在喷射的所述混合物内部被完全反射。

8、在实施例中，所述处理对象是具有在大约10微米(μm)至大约100μm的范围内的厚度的玻璃。

9、在实施例中，所述第一材料可以包括包含f、s或n的酸，所述第二材料可以包括氢氧化钾、氢氧化钠和硝酸镓中的至少一者，并且所述光束可以由紫外线激光器或二氧化碳(co2)激光器发射。

10、在实施例中，所述第一处理单元可以包括：罐，储存所述混合物；喷嘴，喷射储存的所述混合物；以及管，连接所述罐和所述喷嘴。

11、在实施例中，所述第二处理单元可以包括：光源，将所述光束照射到所述处理对象；以及透镜，调节所述光束的所述焦点。

12、在实施例中，所述处理设备还可以包括：附加处理单元，将所述混合物喷射到所述处理对象的所述第一区中。

13、在实施例中，所述处理设备还可以包括：加热单元，将所述混合物的温度调节到所述预定范围内。所述混合物的所述温度可以在用于蚀刻所述处理对象的温度和所述混合物的相变温度的下限之间调节。

14、在实施例中，一种处理方法包括：准备处理对象和处理设备；预处理所述处理对象；以及切割和后处理所述处理对象。所述处理对象的所述切割和所述后处理包括将光束照射到所述处理对象的第一区中，将第一材料提供到所述第一区以在所述第一区中形成预定切割表面，并且将不同于所述第一材料的第二材料提供到所述第一区以对所述切割表面进行修复和钢化。所述第一材料和所述第二材料被同时提供。

15、在实施例中，所述光束可以将所述第一区的温度保持在预定温度或更高，并且所述预定温度可以是用于所述处理对象和所述第二材料之间的离子交换的温度。

16、在实施例中，所述处理对象的所述切割和所述后处理还可以包括通过附加的处理设备对所述切割表面进行钢化。

17、在实施例中，所述处理设备可以在与所述处理对象正交的方向上喷射所述第一材料和所述第二材料，并且所述附加的处理设备可以在相对于所述处理对象的法线方向以预定角度倾斜的方向上喷射所述第二材料。

18、在实施例中，所述附加的处理设备可以将所述第二材料喷射到比所述第一区更宽的区。

19、在实施例中，所述第一材料可以包括包含f、s或n的酸，所述第二材料可以包括氢氧化钾、氢氧化钠和硝酸镓中的至少一者，并且所述光束可以由紫外激光器或二氧化碳(co2)激光器发射。

20、在实施例中，所述处理设备可以包括：第一处理单元，将包括所述第一材料和所述第二材料的混合物喷射到第一区中；和第二处理单元，将所述光束照射到所述第一区中。所述光束可以具有限定在喷射的混合物内部的路径，并且所述光束可以在喷射的所述混合物内部被完全反射。

21、在实施例中，所述光束可以由uv激光器或二氧化碳(co2)激光器发射。

22、在实施例中，所述处理方法还可以包括清洁所述处理对象。

23、在实施例中，所述处理对象是具有在大约10μm至大约100μm范围内的厚度的玻璃。

技术特征：

1.一种处理设备，其中，所述处理设备包括：

2.根据权利要求1所述的处理设备，其中，所述混合物包括：

3.根据权利要求2所述的处理设备，其中，所述光束具有限定在喷射的所述混合物内部的路径。

4.根据权利要求3所述的处理设备，其中，所述光束在喷射的所述混合物内部被完全反射。

5.根据权利要求1所述的处理设备，其中，所述处理对象是具有在10微米至100微米的范围内的厚度的玻璃。

6.根据权利要求2所述的处理设备，其中，所述第一材料包括包含氟、硫或氮的酸，

7.根据权利要求1所述的处理设备，其中，所述第一处理单元包括：

8.根据权利要求7所述的处理设备，其中，所述第二处理单元包括：

9.根据权利要求1所述的处理设备，其中，所述处理设备还包括：

10.根据权利要求1所述的处理设备，其中，所述处理设备还包括：

11.一种处理方法，其中，所述处理方法包括：

12.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述光束将所述第一区的温度保持在预定温度或更高，并且

13.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述处理对象的所述切割和所述后处理还包括：

14.根据权利要求13所述的处理方法，其中，所述处理设备在与所述处理对象正交的方向上喷射所述第一材料和所述第二材料，并且

15.根据权利要求13所述的处理方法，其中，所述附加的处理设备将所述第二材料喷射到比所述第一区更宽的区。

16.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述第一材料包括包含f、s或n的酸，并且

17.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述处理设备包括：

18.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述光束由紫外线激光器或二氧化碳激光器发射。

19.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述处理方法还包括：

20.根据权利要求11所述的处理方法，其中，所述处理对象是具有在10μm至100μm范围内的厚度的玻璃。

技术总结本公开涉及一种处理设备和一种处理方法，其中，所述处理设备包括：第一处理单元，将混合物喷射到处理对象的第一区中；和第二处理单元，将光束照射到所述处理对象的所述第一区中，并且将所述第一区的温度保持在预定温度或更高，其中，所述预定温度是用于所述处理对象和所述混合物的一些材料之间的离子交换的温度。技术研发人员：朴廷镇,权容焄,金柄勋,金台吾受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/27